JPS62125320A

JPS62125320A - 付随ビ−ムを制御する走査方法及び装置

Info

Publication number: JPS62125320A
Application number: JP61244016A
Authority: JP
Inventors: マイケル　アンジェロ　パリシー
Original assignee: Xerox Corp
Current assignee: Xerox Corp
Priority date: 1985-10-21
Filing date: 1986-10-14
Publication date: 1987-06-06
Also published as: US4630130A

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】（産業上の利用分野）本発明は走査方法及び装置、より詳細には好ましくない
付随ビームを制御する走査方法及び装置に関するもので
ある。

（発明が解決しようとする問題点）ラスタ出力スキャナなどのレーザ・スキャナは、大きな
放射強度のビーム、たとえばレーザ・ビームを、記録部
材、たとえばゼログラフィー像形成装置の感光体の上で
掃引し、焦点を合わせる光学系を備えている。像信号入
力によって変調されたレーザ・ビームは、感光体を露光
して静電潜像を形成する。その潜像は、そのあと現像さ
れ、コピーシートに転写され、像信号で表わされる像の
可視コピーとして提供される。この目的のため、各種の
光学系が使用されているが、より魅力のある光学系構成
としては、−接線方向にオフセットした半レンズ構成と
、サジタルにオフセットした半レンズ構成の２つがある
。上記２つの光学系構成は、長所もあるが、短所もある
。

クンジエンシャルオフセット構成は、好ましくない横走
査わん曲（ｃｒｏｓｓ　５ｃａｎ　ｂｏｗ）がなく、走
査線の一様性がすぐれている。都合の悪いことに、この
構成は、静止付随ビームおよび移動付随ビーム、すなわ
ち光学系内の好ましくない反射によって生じる漂遊レー
ザ・ビームを制御することが難かしい。タンジェンシャ
ルオフセット半レンズ構成におけるこれらの付随ビーム
は、像形ビームの光路をたどって感光体に達し、感光体
を露光する作用をするので、過剰濃度のバックグラウン
ドになり、像の品質が低下する。これに対し、サジタル
オフセット半レンズ構成は、すべての付随ビームをうま
く制御することができるが、都合の悪いことに、好まし
くない横走査わん曲が生じる。

問題点に近づき、理解するには、２つの基本的な関係を
考察する必要がある。第１は、円柱レンズを介して走査
するレーザ・ビームが円柱レンズの軸線に垂直な平面内
にあれば、屈折後、ビームはその平面内にあるというこ
とである。これに対し、ビームが円柱レンズを介して円
柱レンズの軸線に垂直でない平面内で走査すれば、屈折
後、ビームはその平面内にはなく、円錐表面にあるので
、もし平らな表面たとえば感光体を掃引すれば、楕円経
路をたどり、その結果、生じた像線は、曲がる、すなわ
ち像線の全長にわたってわん曲する。

第２の関係は、もし回転走査要素、たとえば多面鏡の鏡
面がその回転軸に平行であり、入力ビームがその回転軸
に垂直な平面内にあれば、多面鏡の鏡面から反射された
レーザ・ビームはその平面内にあるということである。

これに対し、もし入力ビームが多面鏡の鏡面およびその
回転軸に垂直な平面内になければ、反射したビームはそ
の平面内にはなく、その代り円錐表面にあるので、もし
平らな表面、たとえば感光体を横に掃引すれば、楕円経
路をたどり、その結果、前の場合と同様に、生じた像線
は曲がる、すなわち像線の全長にわたってわん曲する。

タンジェンシャルオフセット半レンズ構成の場合、すべ
てのビームの経路は、走査要素の回転軸およびレンズ系
の軸線に対し垂直な平面（以下、走査平面と呼ぶ）内に
ある。上述の検討によれば、この構成は、横走査わん曲
が生じない。しかし、付随ビームも同じ平面内にあるの
で、像形成ビームに干渉せずに、付随ビームをさえぎり
、阻止することは困難である。サジタルオフセット構成
も、同様に、走査要素の回転軸、鏡面、およびレンズ系
の軸線は、すべて平行である。しかし、入力ビームは、
鏡面、走査要素の回転軸、およびレンズ系の軸線に垂直
な平面に対し傾いている。この結果、鏡面から反射され
た走査ビームは、その平面内になく、円柱レンズを通し
たあともその平面内にはない。この構成の場合、入力お
よび出力ビームが傾いているので、付随ビームも傾いて
おり、したがって像形成ビームに干渉せずに、付随ビー
ムをさえぎり、阻止することは容易である。

（問題点を解決するための手段）本発明は、像平面に沿って露光される像線に好ましくな
い横走査わん曲を伴うことがなく、通常は入力ビームと
走査ビームが走査平面内にある形式の走査装置において
、前記走査装置は光軸をもつ光学系を有し、前記光学系
は装置構成部品と記録部材の上に像線を露光するビーム
との干渉を避けるため衝突した入力ビームからオフセッ
トしている走査ビームを作る回転走査要素と、記録部材
の上に走査ビームの焦点を合せるレンズ手段とを有する
場合に、記録部材の望ましくない露光の原因である漂遊
ビーム、すなわち付随ビームを打ち消す方法を提供する
ものである。本方法は、（ａｌ走査平面に対し、前記入
力ビームの軸線を比較的小さい角度に設定すること、（
ｂｌ前記走査平面に対し、前記レンズ手段を比較的小さ
い角度で傾斜させること、および（ｃ）走査平面に垂直
な線に対し前記走査要素の回転軸が比較的小さい角度を
なすように前記走査要素を傾斜させることにより、前記
光学系に生じる付随ビームを前記入力および走査ビーム
から発散させ、前記入力および走査ビームに干渉させず
に、前記付随ビームをさえぎることを許し、同時に前記
レンズ手段および前記走査要素と前記入力ビームとの間
に、前記記録部材において走査線のわん曲が生じない角
度関係を確立すること、の諸ステップで構成される。

（実施例）以下、いくつかの実施例についである程度詳し〈発明を
説明するが、発明をそれらの実施例に限定するつもりは
なく、むしろ、特許請求の範囲に記載した発明の範囲お
よび精神に入るすべての修正物、代替物、および均等物
を発明に包含するつもりであることを理解されたい。

図面のうち第１図と第２図について特に詳しく説明する
と、接続方向オフセット走査装置１０は、大きな放射強
度の光ビーム１２を出すレーザ、その他の適当な発生源
１１を有し、光ビーム１２は、複数の同一の平面反射鏡
１４をもつ多面体ビーム走査要素１３に当てられる。駆
動モータ１６の出力軸１７は、走査要素１３に結合され
ていて、走査要素１３を矢印の方向（第１図）に一定の
角速度で回転させる。この結果、鏡面１４が入力ビーム
１２を順次さえぎり、そして反射するので、所定の走査
角度θの間を周期に掃引される走査ビーム１９が生じる
。

走査装置１０は、ここではゼログラフィー装置（図示せ
ず）の感光体ベルトの形で示した光導電性表面２１の上
に静電潜像を形成する。ゼログラフィー技術に詳しい人
はわかるであろうが、静電潜像は、ビデオ像信号すなわ
ち画素の形の像情報に応じて、前もって一様に帯電させ
た光導電性表面を選択的に露光させることによって形成
される。

像信号は、適当な変調器に入力され、変調器は、像信号
の像内容に従って表面２１を選択的に露光するため、像
信号に応じて光ビームを変調する。

ビーム１２の発生源１１がレーザ・ダイオードである場
合には、ビーム１２に対する変調制御は、レーザ・ダイ
オードによって行なわれるので、別に変調器を用いる必
要のないことは理解されよう。

光導電性表面を横切る光ビームの各掃引によって、像線
２６が露光される。同時に、光導電性表面２１は、第２
図の実線矢印で示すように、ビームの掃引方向に直角な
方向に動かされる。すなわちステップ送りされる。その
あと、光導電性表面２１に形成された静電潜像は、現像
され、現像された像は適当な像コピー支持材料、たとえ
ばコピーシートに転写される。

像形成光学装置２４は、連続する１つ１つの鏡面１４に
対する入力ビーム１２を処理し、そのあと走査ビーム１
９を像面２５にある光導電性表面２１の上に結像させる
作用をする。入力ビーム１２は、走査装置構成部品との
干渉を避けるため、走査ビーム１９の走査軸線から接線
方向にオフセットしている（第１図）。

サジタルの平面内では（第２図）、入力ビーム１２と走
査ビーム１９の軸線はそれぞれ、ここでは走査平面２０
と呼ぶ共通平面内にある。

像形成光学装置２４は、走査要素１３の作用鏡面１４に
対する入力ビーム１２を処理し、画像面２５にある光導
電性表面２１の上に走査ビーム１９を結像させるレンズ
２８．２９を有する。レンズ２８．２９は、円柱レンズ
、球面レンズまたはそれらの組合せで構成することがで
きる。

上述の走査装置では、入力ビーム１２と走査ビーム１９
が接線方向にオフセットしているので、ビームが隣接部
品や走査装置の構成部品と干渉することはない。同時に
、接線方向オフセントにより、横走査わん曲がないため
、走査線２６の全長にわたりすぐれた一様性が得られる
。しかし、都合の悪いことに、第１図にその実例を示す
ように、走査装置１０内の反射によって生じた種々の異
なる漂遊ビームから成る静止付随ビーム３０および移動
付随ビーム３０’も光路に沿って進行し、走査ビーム１
９と共に光導電性表面２１に当たる。

光導電性表面２１に当った付随ビーム３０．３０’は、
望ましくない露光を行ない、過剰なハックグラウンドを
生じさせ、像の品質を低下させる。これを是正するには
、ゼログラフィー像処理装置のパラメータについて非常
にきめの細かい、より厳格な制御を行なう必要があるが
、そのために、装置がより複雑になり、高価になる。

同様な部品は同じ参照番号で示しであるが、第３図の構
成の場合は、人力ビーム１２と走査ビーム１９が、接線
方向の代りにサジタルにオフセットしている。この構成
の場合は、人力ビーム１２が走査平面２０および鏡面１
４の回転軸線に対しある角度をなしている。この結果、
発生するすべての付随ビーム３０．３０’の光路は、−
ｉに、走査ビームの光路から遠ざかるので、付随ビーム
を完全に光導電性表面からはずすこと、あるいは光導電
性表面に当るのをさえぎり、阻止することが可能である
。この後者は、走査ビーム１９の光路に配置され、アパ
ーチャが走査ビーム１９の光路に一直線に並んでいて、
走査ビーム１９が光導電性表面へ通過することは許すが
、異なる光軸に沿って進むすべての付随ビームを阻止す
るように構成されたアパーチャ・プレートなどのビーム
・ストップによって達成することができる。

接線方向オフセット方式およびサジタルオフセット方式
の両方式では、走査要素の鏡面に達する前に、入力ビー
ム１２は走査レンズを通過していてもよいし、していな
くてもよいことは理解されよう。

典型的な接線方向オフセット方式とサジタルオフセット
方式は、共に、一対のレンズ２８．２９で構成される像
形成光学装置を備えている。各レンズ２８．２９の２つ
の表面（全部で４つの表面）からの反射により、前述の
静止付随ビーム３０と移動付随ビーム３０′が生じ、各
レンズ表面は入力ビームのエネルギーの約１％を反射す
る。二次反射、すなわち反射の反射も起るが、これらの
二次反射は、入力ビームのエネルギーの約０．０１％で
あり、通常は無視して差しつかえない。４つのレンズ表
面は、光導電性表面２１に向って進む４つの主静止付随
ビーム３０を発生し、その一部もしくは全部が光導電性
表面２１に当る。

次に、回転する走査要素１４の鏡面１４を雌れた走査ビ
ーム１９は、同じレンズ２８．２９を通過する。この通
過の際、ビームは４つのレンズ表面と出合い、各面によ
りそのエネルギーの約１％が反射される。この結果生じ
た移動付随ビーム３０’は走査要素１３の鏡面１４へ戻
り、ここでビーム３０′は再び光導電性表面２１に向っ
て反射される。走査要素の鏡面１４を出たこの２回目の
反射は、移動付随ビーム３０′に第２の運動を付加し、
ビームの元の速度が変るので、光導電性表面２１を横切
るビーム３０’の速度は、走査ビーム１９のそれよりも
大きくなり、あるいは小さくなる。

接線方向オフセット方式の場合は、静止付随ビーム３０
′と移動付随ビーム３０’は走査平面２０に沿って通り
、走査ビーム１９と共に光導電性表面２１に当る。光導
電性表面２１に当った付随ビームは好ましくない露光を
起すため、過剰のバックグラウンドが生じて、像の画質
が低下する。

これを是正するには、ゼログラフィー像処理装置のパラ
メータについて非常にきめの細かい、厳密な制御が必要
であり、このため、装置が複雑になり、高価になる。

これに対し、光導電性表面２１に当る付随ビームの入射
をなくするか、少なくとも大幅に減らすことができるサ
ジタルオフセット方式では、走査線２６の全長にわたっ
て好ましくない像のわん曲が生じる。第４ａ図は、像の
わん曲がないかまたは非常に少ない走査線２６の例を示
す。これと対照的に、第４ｂ図は矢印方向オフセット方
式によって生じた、好ましくない像のわん曲がある走査
線２６′の例を示す。

次に、第５図と第６図を説明する。図中、同様な部品は
、同じ参照番号で示しである。接線方向オフセット方式
における走査線２６の好ましくないわん曲を伴わずに、
静止付随ビーム３０や移動付随ビーム３０′が光導電性
表面に衝突するのを阻止するか、少なくとも大幅に減少
させる目的で、入力および走査ビーム１２．１９を相互
に接線方向にオフセットさせると同時に、ビームが走査
装置の光路を進むとき、相反する、大きく打ち消す方向
に、相互にサジタルにオフセントさせるため、像形成光
学装置のレンズ２８．２９の軸線、入力ビーム１２の光
軸および走査要素１３の軸線を垂直線から傾斜させであ
る。詳しく述べると、入力ビーム１２の光軸は、走査平
面２０に対し比較的小さい角度θ（すなわち、走査平面
に対し負の角度）で設定され、他方、像形成光学装置２
４のレンズ２８．２９の軸線は、走査平面に対し垂直な
線６０に対し比較的小さい角度（すなわち、負の角度）
だけ前方に傾斜しているため、レンズ２８゜２９は公称
装置光軸に対し比較的小さい角度をなす。また、入力ビ
ーム１２のサジタルオフセットと像形成光学装置２４の
傾斜が光導電性表面２１に引き起す好ましくない像線わ
ん曲を打ち消し、是正するために、走査要素１３の軸線
は、走査平面２０に垂直な線６０’に対し比較的小さい
角度θだけ後方に（すなわち、負の角度で）傾斜してい
る。横走査わん曲をより一層打消すために、像形成光学
装置２４に対する走査ビームの位置が変るよう、走査要
素１３の回転軸も、画像面２５に平行な平面内で、走査
平面２０に垂直な線６０′から比較的小さい角度βだけ
、走査方向前方に傾斜させである。

上述のように、走査装置１０の光学要素を所定の相対的
方向に、所定の量だけ傾斜させることによって生じる光
路内のサジタルのオフセットにより、走査装置１０内で
起る静止および移動付随ビーム３０．３０’の発散と分
離が強められる。サジタルオフセット方式の場合と同様
に、これにより、付随ビームが光導電性表面２１に達す
る前に、これをさえぎり、阻止することが可能になる。

同時に、装置光学要素の設定を伴う相反する方向のサジ
タルオフセットは、光導電性表面２１において、走査ビ
ームに対するサジタルオフセットの影響を実質上除去す
るので、好ましくない走査線のわん曲は生じないか、少
なくとも大幅に減少する。

第３図に示した形式のサジタルオフセット方式の場合は
、像形成装置２４のレンズ２８．２９の軸線と走査要素
１３の軸線が、傾斜しているので、入力ビーム１２と走
査ビコム１９は、相反する、大きく打ち消す方向に、相
互にサジタルにオフセットされる。これにより、すべて
の静止および移動付随ビーム３０．３０’の発散と分離
が強められるので、付随ビームが光導電性表面２１に達
する前に、さえぎり、阻止することが可能になる。

それと同時に、装置光学要素の設定を伴う相反する方向
のサジタルオフセットは、光導電性表面２１において、
反射ビームに対するサジタルオフセットの影響を実質上
除去するので、走査線のわん曲は生じないか、少なくと
も大幅に減少する。

第１図と第２図に示した形式の接線方向オフセット方式
の１実施例の場合、像形成光学装置２４のレンズ２８．
２９の軸線は、走査平面に対し角度θ−−０，７°だけ
傾斜しており、光源１１の入力ビーム１２の光軸は、走
査平面に対しθ＝−３，５’の角度をなしている。走査
要素１３の軸線は、走査平面２０に対しθ＝　＋　０．
９°の角度で反対方向に傾斜しており、同時に、垂直面
内の走査要素１３の軸線は、垂直線に対しβ＝＋ｏ、ｏ
ｓ’だけビーム１９の走査方向前方に傾斜している。

以上、開示した構造について発明を説明したが、発明を
記述した細部構造に限定するつもりはなく、特許請求の
範囲に入ると思われるすべての修正物または変更物は本
発明に包含されるものと考える。

【図面の簡単な説明】

第１図は、走査装置の接線方向オフセットの光学的アラ
イメントを示す平面図、第２図は、第１図の装置の側面図、第３図は、走査装置のサジタルオフセットの光学的アラ
イメントを示す側面図、第４ａ図は、横走査線わん曲のない典型的像線の図、第４ｂ図は、横走査線わん曲のある典型的像線の図、第５図は、光学要素の軸線を走査平面に対し所定の角度
、走査平面から所定の方向に傾斜させることによって、
ビームの光路に調整されたサジタルのオフセットを与え
、すべての付随ビームの発散を強めて付随ビームをさえ
ぎり、阻止することを可能にすると同時に、画像面にお
ける避けられない像線の横走査わん曲を打ち消すように
した、本発明の走査装置の光学的アライメントの略側面
図、第６図は、走査要素が画像面に対し平行な平面内で前方
に傾斜していることを示す、第５図の光学的アライメン
トの端面図である。１０・・・・・・接線方向オフセット式走査装置、１１
・・・・・・光源、１２・・・・・・入力ビーム、１３
・・・・・・多面鏡（ビーム走査要素）、１４・・・・
・・鏡面、１６・・・・・・駆動モータ、１７・・・・
・・出力軸、１９・・・・・・走査ビーム、２０・・・
・・・走査平面、２１・・・・・・光導電性表面、２４
・・・・・・像形成光学装置、２５・・・・・・画像面
、２６．２６’・・・・・・像線、２８．２９・・・・
・・レンズ、３０・・・・・・静止付随ビーム、３０′・・・・・・移動付随ビーム、６０．６０’・・・・・・垂直線。ＦＩＧ　２

Claims

【特許請求の範囲】

（１）像平面に沿って露光される像線に好ましくない横
走査わん曲を伴うことなく、通常は、入力ビームと走査
ビームが走査平面内にある形式の走査装置において、前
記走査装置は光軸をもつ光学系を有し、前記光学系は、
装置構成部品と記録部材の上に像線を露光するビームと
の干渉を避けるため、衝突した入力ビームからオフセッ
トした走査ビームを作る回転走査要素と、記録部材の上
に走査ビームの焦点を合わせるレンズ手段とを有する場
合に、記録部材の望ましくない露光の原因である漂遊ビ
ーム、すなわち付随ビームを打ち消す方法であって、（ａ）走査平面に対し、入力ビームの軸線を比較的小さ
い角度に設定すること、（ｂ）走査平面に対し、前記レンズ手段を比較的小さい
角度で傾斜させること、および（ｃ）走査平面に垂直な線に対し前記走査要素の回転軸
が比較的小さい角度をなすように、前記走査要素を傾斜
させることにより、前記光学系に生じる付随ビームと前
記入力および走査ビームとを干渉させずに、前記付随ビ
ームを遮ることを許し、同時に前記レンズ手段および前
記走査要素と前記入力ビームとの間に、前記記録部材の
所で走査線わん曲が生じない角度関係を確立すること、
の諸ステップから成ることを特徴とする前記の方法。
（２）（ａ）前記走査平面に対し前記入力ビームの軸線
を比較的小さい負の角度で設定すること、（ｂ）光学系の光軸に対し前記レンズ手段の軸線が比較
的小さい負の角度をなすように、前記レンズ手段を傾斜
させること、および（ｃ）前記走査要素の回転軸が前記走査平面に垂直な線
に対し比較的小さい正の角度をなすように、前記走査要
素の回転軸を比較的小さい正の角度で傾斜させること、
の諸ステップを含むことを特徴とする特許請求の範囲第
１項記載の方法。
（３）前記走査平面および像平面に垂直な平面内で前記
走査要素の回転軸を傾斜させること、のステップを含む
ことを特徴とする特許請求の範囲第２項記載の方法。
（４）前記画像面に平行に、前記垂直面に対し前記走査
要素の回転軸を比較的小さい角度で傾斜させること、の
ステップを含むことを特徴とする特許請求の範囲第３項
記載の方法。
（５）ラスタ出力スキャナの感光体に対し望ましくない
反射を生じさせる漂遊ビームを打ち消す方法であって、
前記スキャナは入力ビームが走査多面鏡の鏡面に衝突し
て生じた走査ビームが走査レンズ手段を通過して前記感
光体に当たり画像面に沿って画像を書き込む形式の光学
系を有し、入力ビームと走査ビームは画像面に垂直な走
査平面内にあり、前記入力ビームと走査ビームは相互に
接線方向にオフセットしている場合において、（ａ）前記走査平面に対し第１の所定の負の角度だけ前
記レンズ手段の軸線を傾斜させること、（ｂ）前記走査
平面に対し第２の所定の正の角度だけ前記多面鏡の軸線
を傾斜させること、のステップから成り、前記走査レンズ手段および前記多面鏡を傾斜させることにより、前記漂遊ビームが前記入力ビーム
および走査ビームから発散するので、前記漂遊ビームを
遮り、阻止することができること、および前記走査レンズ手段および前記多面鏡を相反する方向に傾斜させることにより、前記走査レ
ンズ手段および前記多面鏡を傾斜させることによって生
じるすべての走査線わん曲を打ち消すことができること
、を特徴とする前記の方法。
（６）前記漂遊ビームの発散を強めるため、前記走査平
面に対し第２の所定の負の角度だけ前記入力ビームの軸
を傾斜させること、のステップを含むことを特徴とする
特許請求の範囲第４項記載の方法。
（７）前記走査線わん曲をより一層打ち消すため、前記
走査平面に垂直な線から所定の角度だけ前記画像面に平
行な平面内で前記多面鏡の軸を傾斜させること、のステ
ップを含むことを特徴とする特許請求の範囲第５項記載
の方法。
（８）像平面に沿って一行ずつ記録部材を露光する接線
方向にオフセットした光学要素を含む光学系を備えた走
査装置であって、前記光学要素は、（ａ）大きな放射強
度をもつ像形成ビーム、（ｂ）前記記録部材を横切って
前記像形成ビームを掃引する回転可能な走査要素、（ｃ
）前記走査要素および前記記録部材の上に前記像形成ビ
ームの焦点を合わせるレンズ手段から成り、前記像形成
ビームの光軸は前記記録部材のある前記画像面に垂直な
平面に対し第１の所定の小さい角度に設定されており、
前記走査要素の軸線は前記垂直面に対し第２の所定の小
さい角度に設定されており、前記レンズ手段の軸線は、
前記接線方向オフセット光学系アライメントに、小さい
サジタルオフセット・アライメントが導入され、すべて
の静止および移動付随ビームが前記像形成ビームから分
離されるように、前記垂直面に対し第３の所定の小さい
角度に設定されており、前記サジタルオフセット・アラ
イメントによって生じるすべての走査線わん曲をなくす
ように前記像形成ビーム及び前記レンズ手段の軸線が設
定された方向とは反対の方向に設定されていることを特
徴とする前記の走査装置。
（９）ラスタ出力スキャナの感光体に対し望ましくない
反射を生じさせる漂遊ビームを打ち消す方法であって、
前記スキャナは、入力ビームが回転走査要素によって走
査されレンズ手段を通過して前記感光体に達し画像面に
沿って前記感光体に画像を書き込む走査ビームになる形
式の光学系を有し、入力ビームおよび走査ビームが相互
にサジタルにオフセットするように、前記入力ビームお
よび走査ビームが画像面に垂直な平面の反対側に比較的
小さい角度をなしている場合において、（ａ）前記走査平面に対し第１の所定の負の角度だけ前
記レンズ手段の軸線を傾斜させること、（ｂ）前記走査
平面に対し第２の所定の正の角度だけ前記走査要素の軸
線を傾斜させることのステップから成り、前記レンズ手段および前記走査要素の傾斜は、前記入力ビームおよび前記走査ビームから前記漂遊
ビームの発散を強めて、前記漂遊ビームを遮り、阻止す
ることを許し、これに対し、前記レンズ手段と前記走査
要素の相反する方向の傾斜は、前記感光体における走査
線わん曲を打ち消すことを特徴とする前記の方法。
（１０）前記走査線わん曲をより一層打ち消すため、前
記走査平面に垂直な線から所定の角度だけ前記画像面に
平行な平面内で前記走査要素の軸を傾斜させること、の
ステップを含むことを特徴とする特許請求の範囲第８項
記載の方法。