JPS62125034A - 糊付機の水分率検出装置 - Google Patents

糊付機の水分率検出装置

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JPS62125034A
JPS62125034A JP60266459A JP26645985A JPS62125034A JP S62125034 A JPS62125034 A JP S62125034A JP 60266459 A JP60266459 A JP 60266459A JP 26645985 A JP26645985 A JP 26645985A JP S62125034 A JPS62125034 A JP S62125034A
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    • D06TREATMENT OF TEXTILES OR THE LIKE; LAUNDERING; FLEXIBLE MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • D06BTREATING TEXTILE MATERIALS USING LIQUIDS, GASES OR VAPOURS
    • D06B23/00Component parts, details, or accessories of apparatus or machines, specially adapted for the treating of textile materials, not restricted to a particular kind of apparatus, provided for in groups D06B1/00 - D06B21/00
    • D06B23/24Means for regulating the amount of treating material picked up by the textile material during its treatment
    • D06B23/26Means for regulating the amount of treating material picked up by the textile material during its treatment in response to a test conducted on the textile material
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    • G01MEASURING; TESTING
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    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) この発明は糊付機の水分率検出装置に関するものであり
、更に詳しくは整経糊付機における経糸シートの水分率
の迂続検出技術の改良に関するものである。
(従来技術とその問題点) 整経糊付機において経糸シートは糊付、乾燥されるが、
この際の乾燥が適度に行われたか否かを確かめるために
経糸シートの水分率を′g!続的に検出することが一般
に行われている。
か−る水分率の厘続検出システムとしては経糸ヒートの
電気抵抗値を測定する方式がある。即ち1対の導゛1に
性のローラーで経糸シートをはさんでその間に電流を流
して経糸シートの抵抗を測定し、あらかじめ求められて
いる抵抗と水分率の関係により、水分率を検出するもの
である。しかしこの方式にはいくつかの欠点がある。ま
ず経糸シートに静電気が発生すると検出誤差が生じ易く
、発生の程度が高いと検出不能に陥ることがある。また
接触導電に作用原理を置いているので、検出端である1
対のローラーは必ず導電性でなければならない、ところ
が糊付などがローラに付若するのを防IFするには非存
゛−に性のコーティングを施すのが有効であるが、L記
の方式ではこれを行い得ない。
か−る抵抗方式にとって代るものとして、赤外線を利用
する方式が最近実用化されている。これは非接触式であ
って、水に吸収されにくい波長の赤外線と水に吸収され
易い波長の赤外線とを交〃に経糸シートに向けて投射し
、それぞれの反射光の比により水分率を検出するもので
ある。この赤外線方式にもいくつかの欠点がある。まず
経糸シートの密度が小さいと(例えばlコ雪毎に75デ
ニールの糸が並んでいるような場合)、経糸シートから
の反射光が少ないため誤差を生じたり1時には検IH不
能となることがある。−万この赤外線水分率計は光学的
に製作されているため、その光学的制約から、赤外線の
投射器および受光器が納まっている検出端と経糸シート
との間の距離を所定f白に保たなければならない。
経糸シートに代えて巻取ビームに赤外線を投射すること
も考えられるが、巻取ビームの巻径は時間とともに大き
くなり、巻取ビームの軸と検出端とがそれぞれ位置固定
されている限りはそれだけ巻取ビーム表面と検出との間
の距離が漸減するから、やはり上記した光学的制約が問
題となる。
(発明の]]的) この発明の目的は、その軸位置が固定された巻取ビーム
において経糸シートの密度が小さい場合であっても、赤
外線の投射により誤差なく水分−(ぺを検出することに
ある。
(発明の基本的構成) この発明によれば、検出端を巻取ビームに対して可動上
に設け、巻取ビームの巻径の変化に応じて検出端を駆動
制御することにより、検出端と巻取ビーム表面との間の
距離を常に一定に保って、水分−(ぺの検出を行うもの
である。
(実施態様) 第1図に示すのはこの発明の一実施態様であって1巻取
ビーム表面と検出端との間の距離を光学的に測定するこ
とにより巻取ビームの巻径の変化を知ろうとするもので
ある。
糊付けされた経糸シート1は巻取ビーム2に巻取られる
。この巻取ビーム2の軸と直交する方向に木1iに延在
する1対のベース11は互いに上行に配設されており、
それぞれのガイドローラー機構13に導かれて巻取ビー
ム2に対して接近、離間することがIT能である。これ
らのベース11の下面にはそれぞれラックllaが形成
されており、これらに11合うピニオン15はウオーム
キア17を介して可逆転モーター19に作動連結されて
いる。従ってモーター19が正、逆転すればベース11
は巻取ビーム2に対して階間、接近する。
両ベース11の巻取ビーム寄りの端部上に固定された基
台21」二には赤外線を用いた水分率検出器100と光
学的な距離検出器200とが巻取ビームに対面して配設
されている。
距離検出器200はその検出方向を巻取ど−ム2の表面
に向けており、その出力特性は第2図に示すごときもの
である。即ち検出した距離が予め11貨足した目標fI
Aに簿しいときはゼロの、1.」ピ目直Aより大ならば
負の、1」標(1’iAより小ならば正の、それぞれア
ナログ信号を出力するものである。この距離検出器20
0は第3図に示すようにモーター19の動作を制御する
制御装置22に接続されている。
即ち、水分率検出器100の検出端が巻取ビーム2の表
面に対して適正な位置にあるときには、距離検出器20
0の検出端と巻取ビーム2の表[I′ljとの間の距離
が[−1l¥!値Aに等しいから距離検出器200から
の出力アナログ信号はゼロとなり、モーター19は回転
しないから水分率検出石工OOはその位置に保たれる。
水分率検出器100の検出端が巻取ビーム20表面に対
して近すぎるときは距離検出器200の検出端と巻取ビ
ーム2の表面との間の距離が目標(1iffAより小ざ
いから、距離検出器200からの出力信号は正となり、
モーター19は7E転し、ベース11は水分率検出器1
00と共に巻取ビーム2から濱間する。この間も距離検
出器200によって距離の検出が続けられているから、
水分−V検出窓100が適正な位置に来たら距革検出′
JA2ooの検出端と巻取ビーム2の表面との間の距離
が目F値Aに等しくなり、距離検出器200の出力アナ
グ信号がゼロとなり、モーターエ9は回転を作出するか
ら水分−(イ検υ)器100はその位置(即ち適正位置
〕に保たれる。同様に水分率検出器100の検出端が巻
取ビーム2の表1njに対して達すぎるときは距離検出
器200の検出端と巻取ビーム2の表面との間の距離が
11標((j Aより大きいから、距離検出器200か
らの出力アナログ号−は負となり、モーター19は逆転
するからベース11は水分率検出器lOOと共に巻取ビ
ーム2に接近し、水分率検出器100が適正位置に持っ
てこられる。
通常巻取作業中巻取ビーム2の巻径は漸増するから距離
検出器200の検出する距離は常に目標イ〆IAより小
さくなろうとし、距離検出器200から+lEのアナロ
グ信号−が出力されてモータ19は逆転し、ベース11
は巻取ビーム2から後退して水分率検出器lOOを適正
位置に後退させるのである。
以1.の例においては基台21を移動させる手段として
ラックイ・1ベース11、ピニオン15などを利用した
が、流体シリング−のピストン動作。
モータとスクリューとの組合せなど適宜公知の機構を用
いてもよい。
またllI!!離検出器200の特性としては7JSZ
図のものを例示したが、要するにある特定の距尊イ〆l
を境に信号−が変化するものであればよい。
ところで水分率検出器100の検出端から投射される赤
外線の投影面は図中鎖線で示すように一股に円形である
。この円は小さいほど巻取ビーム2表面の曲率の影響が
小さくてすむ、しかしあまり小さくすると検出部分が微
小となりすぎ、反射光が減るとともに、限られた微小部
分だけの水分率を検出することになり、巻取ビーム2全
体としての平均的な水分率を正確に検出できない難点が
ある。実用1−はこの円面積は巻取ビーム2表面の曲率
の影響を受けない範囲でできるだけ大きい方が望ましく
、巻取ビーム2の最小巻径、即ちバレル径との関連で定
められる。実験によるとバレルff150mmの場合、
投fR+niの実tn的直径は301程度である。もし
投射1mとして巻取ビーム2の軸方向に長軸を有する楕
円形のものを用いた場合には更に広い投影面が得られ、
巻取ビーム2表面のより広い範囲を上町化して検出する
ことが可滝となり、円形の投影面より検出がより正確と
なる。
第4図に示すのはこの発明の他の実施y!に様であって
、信号の演算処理によりa取ビーム2の巻径の変化を知
ろうとするものである。なお機械的な構成部分は第1図
に示すもと同一でよい。
巻取ビーム2の巻径をDとし、その表面と水分率検出器
100の検出端との間の距離をLとすると、巻取ビーム
2の中心軸から検出端までのル敲は (L+[)/2) で表わされ、L記の距mLを常に一定に保つためには、
巻取ビーム2の巻径の増大に伴って巻径の増分の!/2
に相当する距離だけ水分率検出器100の検出端を巻取
ビーム2より漸次敲してやればよいことになる。
ところで巻取ビーム2の巻径法、巻取ビーム2の回転軸
および経糸シートlの走行速度に比例して回転するガイ
ドローラー3に、それぞれ回転発電機23.25を迂結
し、これらの出力信号を割算処理することにより得られ
ることが知られている0回転発電機の代りにパルス発生
機を使用できることも知られている。
この実施態様にあってはか−る回転発電機23.25を
巻径算出器27に接続して巻取ビーム2の刻々の巻径り
を算出し、その1/2の値即ち半径値−′fxを出力す
るように構成する。
−万ノ^台21のある位とからの距離に関する情報を得
るために、ビニオン15の支軸15aに多回転型のポテ
ンシオメータ−29を連結してやり、ノ^台21が巻取
ビーム2から遠ざかるにつれて絶対値が大となるような
負の距離信号Yを出力するように構成する。
更に調整可能なポテンシオメータ−31を設けて、正負
任意の距離補正信号Zを出力するように構成する。
これらの信号x、y、zは加算点32で加算されてその
結果(和)が第3図に示すと同様な制御装置22に入力
される。すると制御装置22はその入力信号の正負によ
ってモーター19を回転制御して基台21ひいては水分
率検出器100の検出端を移動させる。この結果距離信
号Yのf直が変り、最終的に信号x、y、zの和がゼロ
となると制御装この出力もゼロとなり、モーター19が
回転を停止ヒし、基台21ひいては水分率検出器lOO
もその位置で停止する。
即ち上記の演算処理により常に X+Y+Z=0  (X>0、y<o)の状態が保たれ
るのである。
ところで実施に当っては補正信号Zを調整する必要があ
る。まず距離補正信号Zをゼロにしておくと、半径信号
Xの値が距離信号Yの絶対値と等しくなった時点で基台
z1が停+t−する。ポテンショメーター31の調整に
より距離補正信号Zを適当な値にすると、その値に相当
する分だけ距離信号−Yを変えるべく基台21が移動す
る。そこで半径信号Xがある値のときにポテンシオメー
タ31を介して距離補正信号Zを調整し、基台21Lの
水分率検出器100の検出端と巻取ビーム2の表面との
間を目標414 Aに設疋する。
−吐このように調整したら距離補正信号Zを固定する。
その後は44信号Xの変化(即ち巻取ビーム巻径の増加
)に対応して距離信号Yを変化させるようにシステムが
働いて基台21を移動させる。更に詳しくは、半径信号
Xが増大すれば、距離信号Yの絶対値が同:を−だけ増
大する方向即ち巻取ビーム2から離間する方向に、増大
したr:に分だけ基台21が移動され、水分率検出器1
00の検出端と巻取ビーム2の表面との間の距離が[]
標ffi Aに保たれるのである。
なおこの例では調整可能な距離補正信号Zを用いたが、
Z=0のときに水分率検出器lOOの検出端と巻取ビー
ム2の表面との間の距離がある定められた値であれば、
必ずしもか−る補正信号を用いる必要がない。
またこの例では基台21の位置検出にポテンシ*メ−’
2−29を用いたが、モーター19をパルスモータ−に
置換えたならば、モーターに供給されるパルス数とその
正負回転信号から基台21の位置が判別される。この場
合は前記の距離信号Yはパルス数の累積を示す信号に置
換えられる。
(発明の効果) この発明によれば、経糸シートの糸密度の影響を受ける
ことなくしかし′M接触で水分率を検出できるので、従
来は検出困難であった糸密度が粗な経糸シートの糊付、
屹燥後水分率管理が容易となり、理想的な乾燥を実施で
きる。
またこのため経糸シートではなく巻取ビームを距離対象
とするが、その巻径の漸増にも拘らず、常に検出端と巻
取ビーム表面との間の距離を自動的に一疋に保てるから
、水分率の検出が正確となる。
【図面の簡単な説明】
汀1図はこの発明の一実施態様を示す斜視図、■2図は
そこに用いる距離検出器の出力特性を示すグラフ、T3
図はそこに用いる制御システムのブロック線図、第4図
はこの発11の他の実施態様に用いる制御システムのブ
ロック線図である。 1・・・経糸シート      2・・・巻取ビーム1
00・・・水分率検出器   200・・・距離検出器
22・・・制御装近 特許出願人   津田駒工業株式会社 特許出願代理人    弁理士 菅 原 −部第2図 第3図 q 第4図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 [1]巻取ビームの表面に対して接近離間可能に設けら
    れて、かつ巻取ビームの表面を指向する検出端を有した
    光学式水分率検出器(100)と、 巻取ビームの巻径の変化に応じて上記の検出端と巻取ビ
    ーム表面との間の距離を常に一定に自動的に保つ制御機
    構とを有してなる糊付機の水分率検出装置 [2]前記の水分率検出器(100)が巻取ビームの表
    面に対して接近離間可能な基台(21)上に架設されて
    おり、 前記の制御機構がこの基台上に架設されてかつ巻取ビー
    ムの表面を指向する検出端を有した光学式距離検出器(
    200)を有しており、かつ、 この距離検出器の出力に応じて基台が移動される ごとき特許請求の範囲第[1]項に記載の装置。 [3]前記の水分率検出器(100)が巻取ビームの表
    面に対して接近離間可能な基台(21)上に架設されて
    おり、 前記の制御機構が巻取ビームの巻径に関する信号(X)
    と基台の移動量に関する信号(Y)との和を算出する演
    算部(30)を有しており、かつ この演算部の出力に応じて基台が移動される ごとき特許請求の範囲第[1]項に記載の装置。 [4]水分率検出器(100)からの赤外線の巻取ビー
    ム表面上での投影面が巻取ビームの軸方向に長軸を有す
    る楕円形であるごとき特許請求の範囲第[1]〜[3]
    項のいずれかに記載の装置。
JP60266459A 1985-11-26 1985-11-26 糊付機の水分率検出装置 Granted JPS62125034A (ja)

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DE19863688785 DE3688785T2 (de) 1985-11-26 1986-11-26 Feuchtegradmesser für eine Schlichtmaschine.
EP19860850408 EP0227618B1 (en) 1985-11-26 1986-11-26 A moisture contents detector for a sizing machine

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JPH0357978B2 (ja) 1991-09-04
DE3688785D1 (de) 1993-09-02
EP0227618A3 (en) 1990-02-07
EP0227618B1 (en) 1993-07-28
EP0227618A2 (en) 1987-07-01

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