JPS62121111A

JPS62121111A - 物品昇降装置

Info

Publication number: JPS62121111A
Application number: JP60261124A
Authority: JP
Inventors: Yoshiiku Sano; 佐野　喜育; Tsugio Tanigawa; 谷川　二男; Fumio Shimizu; 文男清水
Original assignee: Hitachi Ltd
Current assignee: Hitachi Ltd
Priority date: 1985-11-22
Filing date: 1985-11-22
Publication date: 1987-06-02

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔技術分野〕本発明は、物品昇降技術、特に、昇降路における物品へ
の塵埃付着を防止する技術に関し、例えば、半導体装置
の製造において、ウェハを枚葉処理するローダ、アンロ
ーダに利用して有効な技術に関する。

〔背景技術〕

半導体装置の製造において、ウェハ上にレジストを塗布
する場合、処理容器の内部に設けた回転可能なスピンヘ
ッド上にウェハを一枚宛載せて保持せしめ、ウェハを回
転させながらレジスト液をウェハの表面上に供給してレ
ジスト塗布処理を行っている（特公昭５３−：３７１８
９号参照）。

このようなスピンナ塗布装置において、スピンヘッドに
対してウェハを一枚宛受は渡す作業を行うために、複数
枚のウェハを収容したカートリッジを１ピッチ宛歩進送
りして昇降させる装置が使用されており、この昇降装置
はスピンナ塗布装置における機台に組み込まれている。

しかし、このようにスピンナ塗布装置の機台に組み込ま
れた昇降装置においては、ウェハが昇降する昇降路が機
台の内部空間に露呈するため、機台内に設置されている
モータ等のような各種機器類から発生した塵埃が昇降路
に浸入し、その結果、塵埃がウェハ上に付着しこれを汚
染するという問題点があることが、本発明者によって明
らかにされた。

なお、スピンナ塗布技術を述べである例としては、株式
会社工業調査会発行「電子材料１９８３年１１月号別冊
」昭和５８年１１月１５日発行　Ｐ　　９２〜Ｐ９６、
がある。

〔発明の目的〕

本発明の目的は、昇降路への塵埃の浸入を防止すること
ができる物品昇降技術を提供することにある。

本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本
明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう
。

〔発明の概要〕

本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、次の通りである。

物品保持台が昇降される昇降路の側方を遮蔽板により取
り囲むことにより、昇降路を発塵源から遮断して塵埃が
昇降路に浸入するのを防止し、もって、物品に塵埃が付
着するのを防止したものである。

〔実施例〕

第１図は本発明の一実施例であるウェハ昇降装置が使用
されているスピンナ塗布装置を示す縦断面図、第２図は
第１図の■−■線に沿う平面断面図である。

本実施例において、スピンナ塗布装置は略直方体形状の
中空室を形成するように構築されている機台２を備えて
おり、機台２上の略中央部にはウェハ１上にレジストを
塗布するための処理容器３が設備されている。処理容器
３の真上にはキャップ３ａが容器に被蓋するように昇降
自在に設けられており、キャップ３ａにはレジスト滴下
管３ｂが下向きに挿入されている。処理容器３の内部に
は回転軸４が底から挿入されており、この軸４の１端部
にはスピンヘッド５が形成されている。スピンヘッド５
には真空ポンプ等（図示せず）に接続されている吸引路
６が開設されており、スピンへ、ド５は吸引路６の吸引
力により、ウェハ１を吸着して水平に保持するように構
成されている。

回転軸４は機台２に設備されている軸受７により回転か
つ軸心方向へ摺動自在に支承されており、モータ８によ
り回転駆動されるように構成されている。モータ８は機
台２の内部においてシリンダ装置等からなるジヤツキ９
により昇降されるように構成されており、これにより、
回転軸４が昇降されてスピンヘッド５が処理容器３を出
入りされるように構成されている。

機台２における処理容器３の左右両脇には、ウェハｌを
処理容器３に１枚宛供給するためのローダＩＯＡと、処
理済のウェハ１を処理容器３から１枚宛排出するための
アンローダＩＯＢとがそれぞれ設備されている。ローダ
１．ＯＡおよびアンローダＩＯＢは略同−に構成される
とともに、互いに略述に作動されるため、ローダＩＯＡ
の構成を代表的に説明する。

ローダ１０Ａは物品昇降装置としてのウェハ昇降装置と
、ベルトコンベアと、ハンドラとを備えており、ウェハ
昇降装置１１は送りねじ軸１２を備えている。送りねじ
軸１２は機台２内の底面上に略垂直に配されて支持装置
１３により回転自在に支承されており、サーボモーフ（
図示せず）等のような適当な手段によりウオームホイー
ル１４を介して正逆回転されるように構成されている。

送りねじ軸１２には送りナツト１５が昇降可能に甥合さ
れており、送りナツト１５にはブラケット１６が処理容
器３の方向へ突き出されて固着されている。ブラケット
１６には保持台１７が水平に配されて固着されており、
保持台１７はカートリッジ１８を保持するように構成さ
れている。カートリッジ１８には複数条の保持溝１９が
互いに平行に整列されて、被昇降物品としてのウェハ１
を摺動自在に保持し得るようにそれぞれ刻設されている
。

そして、保持台１７は送りねじ軸１２の送り作動によっ
て送りねし軸１２に沿って昇降するため、機台２の内部
空間には保持台１７の昇降路２０が実質的に構成される
ことになる。機台２の内部空間における昇降路２０に対
応する箇所には３枚の遮蔽板２１が、昇降路２０の送り
ねじ軸１２に対応する側面を除いた三方を取り囲むよう
に配されて固定的に立設されており、残りの一方には可
動遮蔽板としてのベルト２２が保持台１７の昇降に追従
して走行し得るように敷設されている。すなわち、ヘル
ド２２はステンレス鋼等のような発塵しにくい材料を用
いて可撓性を発揮する一定幅の薄板に形成されており、
送りねじ軸１２の外方において４組のローラ２３に巻き
掛けられてエンドレスに敷設されている。ベルト２２は
昇降路２０の一側面を被覆しているとともに、両端部が
プラケット１６の上下面に固着されている。

機台２における昇降路２０の上下面に対応する箇所には
開口２４および２５がそれぞれ開設されており、下面開
口２５には排気ダクト２６の吸込口が接続されている。

排気ダクト２６はブロア（図示せず）等に接続されてお
り、排気ダクト２６の途中にはダンパ２７が通過風量を
調整し得るように介設されている。

機台２上にはベルトコンベア２８が昇降路２０の上面開
口２４の真上に突出するように敷設されており、このコ
ンヘア２８はウェハ１を載せて間欠搬送し得るように構
成されている。機台２上にはハンドラ２９が適当な装置
（図示せず）により３次元移動されるように設備されて
おり、ハンドラ２９はベルトコンベア２８とスピンへラ
ド５との間でウェハ１を受は渡すように構成されている
。

なお、図示しないが、機台２の内部には真空ポンプやブ
ロア等のような各種機器が設備されており、これら機器
は発塵源になる。

次に作用を説明する。

まず、ローダＩＯＡ側において、処理すべきウェハ１を
収容した実カートリッジ１８が最上段に上昇された保持
台１７上に、ウェハ１が水平になる方向に立てて載せら
れるとともに、アンローダ１０Ｂ側において、ウェハ１
を収容していない空カートリッジ１８が最下段に下降さ
れた保持台１７上に、溝１９が水平になる方向に立てて
載せられる。

ローダＩＯＡにおけるベルトコンベア２８が作動される
と、実カートリッジ１８における最下段のウェハ１は搬
送されるようにして引き抜かれる。

搬出されたウェハ１がハンドラ２９上に移載されると、
ハンドラ２９は処理容器３の真上まで３次元移動され、
上昇されて来るスピンへノド５上にウェハ１が受は渡さ
れる。

スピンへラド５にウェハ１が吸着保持されると、回転軸
４が下降されるとともに、キャップ３ａが処理容器３に
被せられる。その後、回転軸４により、ウェハ１が回転
されるとともに、滴下管３ｂからレジストが滴下される
ことにより、ウェハ■上にレジストが均一にスピンナ塗
布される。

塗布処理が終了すると、キャップ３ａが上昇されるとと
もに、スピンヘッド５が上昇され、処理容器３の真上ま
で３次元移動されて来るアンローダＩＯＢのハンドラ２
９にウェハ１が受は渡される。ハンドラ２９はアンロー
ダ１０Ｂのヘルドコンベア２８まで３次元移動され、コ
ンベア２８にウェハｌは移載される。

ウェハＩが移載されると、コンベア２８がＩｆｆ送作動
されるため、処理済ウェハ１は空カートリッジ１８にお
ける最上段の溝１９内に挿入される。

挿入が終了すると、アンローダ１０Ｂ側における昇降装
置１１の送りねじ軸１２により、保持台１７が１ピツチ
上昇され、空カートリッジ１８における第２段の溝１９
がコンベア２８に対向され次回の挿入作動に備える。

一方、ローダＩＯＡ側における保持台１７は送りねじ軸
１２によりｌピッチ下降され、実カートリッジ１８にお
ける第２段のウェハ１がコンベア１８上に引き抜かれる
。

以後、前記作動が繰り返されることにより、実カートリ
ッジからウェハが１枚宛取り出されて処理容器に供給さ
れとともに、処理済ウェハが空カートリッジに順次収容
されて行く。そして、作動の進行に伴って、保持台１７
上のカートリッジ１８は昇降路２０を順次下降または上
昇して行くことになる。

ところで、機台２の内部空間に設置されているモータ８
やジヤツキ９等のような各種機器群は、摺動部分を有す
る等のために微小な塵埃を発生することになるが、保持
台１７の昇降路２０が機台２の内部空間に露呈している
と、発生した塵埃が昇降路２０に自由に浸入するため、
保持台１７上のカートリッジ１日に収容されたウェハ１
に塵埃が付着して汚染される危険がある。

しかし、本実施例においては、昇降路２０はその四方を
固定遮蔽板２１および可動遮蔽板としてのヘルド２２に
より取り囲まれているため、機台２の内部空間において
発生した塵埃が昇降路２０に浸入することはなく、浸入
に伴うウェハ１の汚染は未然に回避されることになる。

また、昇降路２０は排気ダクト２６により強制排気され
ているため、昇降路２０および保持台１７上のカートリ
ッジ１日は近傍空間を含めてダウンフローされ、その結
果、塵埃は停滞することなく排除される。ここで、排気
ダクト２６による強制排気力が強すぎると、機台２上の
塵埃を吸い寄せることにより、かえって塵埃付着の危険
性を高める結果になる。そこで、ダンパ２７を操作して
風量を調整することにより、排気力を適正に調整するこ
とが望ましい。

ちなみに、可動遮蔽板としてのベルト２２は昇降路２０
の一側面を常時遮蔽しているが、保持台１７の昇降はそ
の動きに追従することにより確保するようになっている
。すなわち、ベルト２２は走行自在なエンドレスに張設
されているとともに、保持台１７のブラケット１６に固
着されているため、保持台１７が送りねし軸によって昇
降されると、それにつれて１ピンチ宛または連続的に走
行することになる。

以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、本発明は前記実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもない。

例えば、可動遮蔽板はベルトにより構成するに限らず、
アコーディオンカーテンやベローズ等により構成しても
よい。

また、可動遮蔽板を設けずに、固定遮蔽板に保持１台の
ブラケットが摺動自在に挿通されるスリットを開設する
ことにより、保持台の昇降作動を確保するように構成し
てもよい。

遮蔽板は昇降路を四角筒形状に取り囲むように構成する
に限らず、円筒形状に形成してもよい。

昇降路の下面口は排気ダクトを接続するに躍らず、機台
の内部空間から遮蔽されている空間に開放するように構
成してもよい。

保持台は物品を収容しているカートリッジを保持するよ
うに構成するに限らず、物品を直接的に保持するように
構成してもよい。

〔効果〕

＋１１　　物品保持台が昇降される昇降路を遮蔽板によ
り取り囲むことにより、昇降路をその周方空間から遮蔽
させることができるため、昇降路に塵埃が浸入するのを
防止することができ、それに伴う物品への塵埃付着を未
然に回避することができる。

＋２１　　！！蔽板の一部を保持台の昇降に追従するよ
うに構成することにより、昇降路を完全に遮蔽しつつ、
保持台の昇降作動を確保することができる。

（３）　　保持台に追従する可動遮蔽板を一部を保持台
に固着されたエンドレスベルトによって構成することに
より、可動遮蔽板自体からの発塵を防止することができ
る。

（４）なり囲まれた昇降路の下面開口に排気ダクトを強
制排気するように接続することにより、昇降路および保
持台付近に層流を発生させることができるため、塵埃の
停留を防止することができ、塵埃付着防止効果を一層高
めることができる。

（５）排気ダクトにダンパを風量調整可能に介設するこ
とにより、排気力を調整することができるため、周囲の
塵埃の吸い寄せを防止することができる。

〔利用分野〕

以上の説明では主として本発明者によってなされた発明
をその背景となった利用分野であるスピンナ塗布装置に
使用されているウェハ昇降装置に適用した場合について
説明したが、それに限定されるものではなく、露光装置
、現象装置、アッシャ−、ドライエツチング製雪、欠陥
検査装置に使用されるウェハ昇降装置に適用することが
できるとともに、さらにはホトマスクや光ディスク等の
ような板状物を昇降させる装置全般に適用することがで
きる。特に、本発明はウェハ、ホトマスク等のように塵
埃の付着を可及的に防止する必要がある板状物を取り扱
うとともに、これを規則的に昇降させる物品昇降装置に
通用して優れた効果を発揮する。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例であるウェハ昇降装置が使用
されているスピンナ塗布装置を示す縦断面図、第２図は第１図の■−■線に沿う平面断面図である。１・・・ウェハ（被昇降物品）、２・・・機台、３・・
・処理容器、３ａ・・・キャップ、３ｂ・・・レジスト
滴下管、４・・・回転軸、５・・・スピンヘッド、６・
・・吸引路、７・・・軸受、８・・・モー夕、９・・・
ジヤツキ、ＩＯＡ・・・ローダ、１０Ｂ・・・アンロー
ダ、１１・・・ウェハ昇降装置、１２・・・送りねじ軸
、１３・・・支持装置、１４・・・ウオームホイール、
１５・・・送りナツト、１６・・・ブラケット、１７・
・・保持台、１８・・・カートリッジ、１９・・・保持
溝、２０・・・昇降路、２１・・・遮蔽板、２２・・・
可動遮蔽板、２３・・・ローラ、２４・・・上面開口、
２５・・・下面開口、２６・・・排気ダクト、２７・・
・ダンパ、２８・・・ベルトコンヘア、２９・・・ハン
ドラ。

Claims

【特許請求の範囲】１、物品保持台が昇降される昇降路がその側方を遮蔽板
により取り囲まれているとともに、上下面を開口されて
いる物品昇降装置。２、少なくとも一枚の遮蔽板が、物品保持台の昇降に追
従するように構成されていることを特徴とする特許請求
の範囲第１項記載の物品昇降装置。３、保持台に追従する遮蔽板が、物品保持台に固着され
たエンドレスの可撓性板体を用いて構成されていること
を特徴とする特許請求の範囲第２項記載の物品昇降装置
。４、昇降路の下面開口が、排気ダクトの吸込口に接続さ
れていることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の
物品昇降装置。５、排気ダクトが、吸込流量を調整するダンパを備えて
いることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の物品
昇降装置。