JPS6211833A - 導波型光a/d変換装置 - Google Patents

導波型光a/d変換装置

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JPS6211833A
JPS6211833A JP15000485A JP15000485A JPS6211833A JP S6211833 A JPS6211833 A JP S6211833A JP 15000485 A JP15000485 A JP 15000485A JP 15000485 A JP15000485 A JP 15000485A JP S6211833 A JPS6211833 A JP S6211833A
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JP
Japan
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optical
light
optical waveguide
substrate
output
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Application number
JP15000485A
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English (en)
Inventor
Naohisa Inoue
直久 井上
Maki Yamashita
山下 牧
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Omron Corp
Original Assignee
Omron Tateisi Electronics Co
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 発明の要約 印加されるアナログ物理量を表わす複数の変調された光
を発生するA/D変換部と、A/D変換部から出力され
る複数のパラレルな光信号をシリアルな光信号に変換す
るP/S変換部とから構成されている導波型光A/D変
換装置。
[技術分野] この発明は、光を利用して、アナログ電圧信号その他の
アナログ物理量をそれに対応する値を表わすディジタル
信号に変換する導波型の光A/D変換装置に関する。
[従来技術] 光を利用した導波型光A/D変換装置は、比較的簡単な
構成でかつ高速のサンプリング(1〜2Gサンプル/秒
)が期待できることから、多くの人の注目を集めていや
。従来の導波型光A/D変換装置の代表例が、西原、春
名、栖原「光集積回路」第1版(昭6O−2−25)オ
ーム社p 、35B−381に示されている。たとえば
4ビツトのディジタル信号を得ようとする場合には4つ
光信号が基板から出力されるので、この光信号を電気信
号に変換するために4つの光電変換素子が必要となる。
8ビツトのディジタル信号を得ようとする場合には8つ
の光電変換素子を要する。基板から出力される光信号を
光ファイバで光電変換素子に導こうとする場合には、4
本または8本の光ファイバが必要である。光伝送距離が
長い場合には光ファイバの設置費用がかなり嵩むという
問題が生じる。
[発明の目的] この発明は、最終的に得られるディジタル信号のビット
数に関係なく、1個の光電変換素子および1本の光ファ
イバで足りる導波型光A/D変換装置を提供することを
目的とする。
[発明の構成と効果] この発明による導波型光A/D変換装置は、印加される
物理量に応じて光学的特性が変化する基板、基板上に導
入された光を強度のほぼ等しい複数の光に分岐させる分
岐手段、基板上に形成され。
分岐された光の強度を加えられる物理量に応じてそれぞ
れ異なる度合で変調する複数の変調素子。
基板上に形成され、変調素子から出力される複数の光を
時間的にシリアルな光信号に変換するP/S(パラレル
/シリアル)変換手段、P/S変換された光をその強度
を表わす電気信号に変換する光電変換素子、および光電
変換素子の出力信号を所要のレベルで弁別するコンパレ
ータを備えていることを特徴とする。
P/S変換手段が設けられ、これによって複数の変調素
子から出力される複数の光が時間的にシリアルな光信号
に変換されているので、この光信号を1本の光ファイバ
で伝送することができる。
この光信号を電気信号に変換する光電変換素子も1つで
足りる。
またこの発明では、基板上に導入された光を複数の光に
分岐させる分岐手段が設けられているから、基板には1
本の光ファイバで光を導入することが可能である。もっ
とも、半導体レーザ等の光源の光を直接に基板に光結合
させてもよい。
[実施例の説明] 1)分岐干渉形変調器を用いたA/D変換装置この実施
例は、アナログ電圧信号をディジタル電圧信号に変換す
るものである。
第1図において、導波型光A/D変換部の基板10とし
て電気光学効果を有するYカットL s N b Oa
が用いられている。この基板10上には、入力光を4つ
の光に等しく分波させるための7字型光導波路25〜2
7.光強度変調素子となる4つのマツハツエンダ型先導
波路21〜24および光パラレル/シリアル(P/S)
変換を行なうための光導波層11が形成されている。
入力光は半導体レーザ14から発生する。半導体レーザ
は7字型光導波路25の入力側(基板10の端面)に直
接に端面結合している。7字型光導波路25への入力光
の導入は、光源からの光を光ファイバを用いて導きこの
光ファイバを適当な光結合器を介してまたは直接に光導
波路25に光結合させることによっても達成される。
マツハツエンダ型光導波路21は、入力用光導波路部分
21c、この先導波路部分21cから等しい角−4一 度で分岐した2つの分岐先導波路部分21a、21bお
よびこれらの分岐光導波路部分21a、21bが合流す
る出力用光導波路部分21dから構成されている。
他のマツハツエンダ型先導波路22〜24もこれと全く
同じ構成である。
マツハツエンダ型先導波路2Iの一方の分岐光導波路部
分21bの両側の位置には1対の電極31が基板IO上
に形成されている。これらの電極31は、A/D変換さ
れるべきアナログ電圧が印加される1対の端子30に配
線パターン35により電気的に接続されている。同様に
、他のマツハツエンダ型先導波路22〜24の一方の分
岐光導波路部分の両側にも1対の電極32〜34がそれ
ぞれ設けられ、端子30に接続されている。1対の電極
31が分岐光導波路部分21bを挟んで重なっている部
分の長さを26L−Lとする。この長さLは分岐光導波
路部分21bのアナログ電圧が印加される長さである。
同様に、他の電極32,33.34の重なっている部分
の長さは2  L−2L、22L−4L。
23L−8Lにそれぞれ設定されている。
7字型光導波路25に導入された入力光はこの光導波路
25によって等しく分波させられる。分波した2つの光
はそれぞれ7字型光導波路26および27で再び等しい
強度の2つずつの光に分かれ、4つのマツハツエンダ型
先導波路21〜24の入力用光導波路部分に導かれる。
このようにして1等17い強度の光がマツハツエンダ型
先導波路21〜24に入力することとなる。
マツハツエンダ型光導波路21〜24の出力用光導波路
部分(21d等)の出力端は先導波層11につながって
いる。光導波層ll上の一側にはインターディジタル・
トランスデユーサ(IDTと略す)13が形成されてい
る。後述するように、高周波電圧がパルス状にIDT1
3に印加され、IDT13からはパルス状の弾性表面波
(SAWと略す)が発生し、先導波層11を伝播してい
く。マツハツエンダ型光導波路21〜24の出力光とS
AWとがブラッグ回折条件を満足するように、この出力
光の伝播方向(すなわち出力用光導波路部分2+d等の
方向)とSAWの伝播方向(すなわちIDT13の配置
)とが定められている。
SAWとの相互作用によってブラッグ回折された光は、
先導波層ll上に形成されたグレーティングやレンズ1
5によって集光されかつ一本の光ファイバ1Bに光結合
される。非回折光はレンズ15によって集光されない。
集光手段として光導波層ll上に形成された他の導波路
レンズ(たとえばフレネルΦレンズ、ジオデシック・レ
ンズ、ルネブルグ・レンズ等)を用いることもできる。
図示のように集光された光を直接に光ファイバに導入す
ることもできるし、適当な光結合器を介してもよい。
光ファイバ1Bの他端は、後述する光電変換素子および
レベル弁別回路を含む電気処理部に接続されてい乞。光
ファイバ1Bに代えて、光電変換素子を光導波層11に
直接に光結合させてもよい。
マツハツエンダ型光導波路21〜24,7字型光導波路
25〜27および光導波層Hは、たとえば基板10上に
TLをスパッタとリフトオフ法を用いて所定パターンに
 200オングストロームの厚さに形成し。
この後、温度970℃1時間5時間、雰囲気ウニツト0
2の条件で熱拡散することにより作製することができる
。光導波路21〜27の巾は5μmで、基板に水平な方
向と垂直な方向に対してシングル・モードの光が伝播で
きるようにする。IDT13および電極31〜34はT
iとAj!の2層構造とし。
通常のりフトオフ法により作製する。IDT13の各電
極の巾と間隔をそれぞれ2.5μmとすれば、光の波長
が0.29μmのとき、ブラック角は0.82 ’にな
る。
次にマツハツエンダ型先導波路における光の変調につい
て説明する。4つのマツハツエンダ型光導波路21〜2
4は、電極対の長さが異なるのみで。
他の構成は全く同じであるから、これらの光導波路の代
表としてマツハツエンダ型先導波路21について説明す
る。
マツハツエンダ型光導波路21の入力用光導波路部分2
1eを伝播する光は2つの分岐先導波路部分21a、2
1bに等しく分波してこれらの光導波路部分21a、2
1bを進み、出力用光導波路部分21dにおいて合波さ
れる。2つの分岐先導波路部分21a、21bの長さ1
1.J2 (破線で示すように分岐点から合流点までの
長さ)が等しい場合には1分岐光導波路部分21a、2
1bを伝播する2つの光は、1つの光から分岐されたも
のであるから、出力用先導波路部分21dで合波す゛る
ときに位相が一致している。
したがって、伝播損失を考慮しなければ、出力用光導波
路部分21dで得られる光の強度は入力用先導波路部分
21cにおけるそれに等しい。一般的にいうと2分岐先
導波路部分21a、21bを伝播してきた2つの光が出
力用光導波路部分21dで合波するときにそれらの位相
差が2mπ(mは0.および整数)であれば、出力用光
導波路部分21dからはマツハツエンダ型先導波路21
に入力した光と同じ強度(これを最大強度I  という
)の光が得られaX る。2つの光の位相差が2mπということを1分岐光導
波路部分21a、21bの長さの差ΔI!−11−11
2で表わすと1次のように表現される。
ΔR−m・ (λo/n)       ・・・(1)
ここでnは光導波路の屈折率、λ0は真空中での光の波
長である。
分岐光導波路部分21a、21.bの長さの差Δでか次
の関係にある場合には、これらの光導波路部分21a、
21bを伝播してきた光は出力用光導波路部分21dで
合波するときにその位相差が(2m+1)πとなる。
ΔR−[(2m+1)/2]  ・ (λ。/n)・・
・(2) この場合には逆位相の2つの光が重ね合わされることに
なるから、出力用光導波路部分21(1に得られる光強
度は0になる。
さて、  L iN b Oaは電気光学効果をもつ結
晶であるから、電界を印加するとその屈折率が変化する
。基板10)Z方向に電界E (E=V/d、V:印加
電圧、d:1対の電極間の間隔)を加えると。
屈折率がΔn=−(n  /2) ・γ ・Eたけ変化
する。ここでγ33は電気光学定数である。この屈折率
が変化した部分を伝播する光の位相はΔφ=(2π/λ
 )・で・ (−n/2)  φγ33壷E変化する。
ここで(は電界が加えられる部分の長さである。マツハ
ツエンダ型光導波路21においては4=Lであり、他の
マツハツエンダ型光導波路22,23.24ではそれぞ
れjl!=2L、4L、8Lとなる。
分岐光導波路部分(21a、21b等)を伝播する2つ
の光の位相差をπたけ変化させるのに要する電圧を半波
長電圧V という。4つのマツハツエンπ ダ型光導波路21〜24では長さでか異なるから半波長
電圧V も異なる。マツハツエンダ型光導波路π 21の半波長電圧をV とすれば、マツハツエンダπ 型光導波路22,23.24の半波長電圧はそれぞれV
□/2.V  /4.V  /8となる。このようにし
π            π て、4つのマツハツエンダ型光導波路21〜24は感度
とダイナミック−レンジの異なる変調素子となる。
第2図は2分岐光導波路部分21a、21bの長さの差
Δ℃が第(1)式を満たす場合における電極31間への
印加電圧と出力用光導波路部分21dに得られる光の強
度との関係を示している。−に述のように一方の分岐光
導波路部分21bで印加電圧に応じて光の位相が変化す
るので、出力光強度はI=I   cos2(Δφ/2
)にしたがって変l1ax 化する。印加電圧が±2mV  のときに最大強度π ■  の光が得られ、印加電圧が士(2m+1)max ■ のときに光の強度は0になる。
π 第3図は9分岐光導波路部分21a、21bの長さの差
Δ(が第(2)式を満足する場合における電極31間へ
の印加電圧と出力用光導波路部分21dに得られる光の
強度との関係を示している。印加電圧が±(2m+1)
V  のときに最大強度I  の光π        
             l1laxが得られ、印加
電圧が±2mv7rのときに光の強度は0になる。
第4図は、第3図のような特性が得られる条件下(すな
わち(2)式を満足する場合)において。
4つのマツハツエンダ型光導波路21〜24から得られ
る出力光強度(縦軸)を端子30に印加されるアナログ
電圧(横軸)に対して示したものである。
印加電圧は便宜的に多数のディスクリートな領域A−P
に分割されている。光強度曲線は便宜的に電極長をパラ
メータとして示されている。すなわ一  12 − ち、Lはマツハツエンダ型光導波路21の出力光強度で
あり、2L、4L、8Lはそれぞれ光導波路22.23
.24の出力光強度である。これらの出力光を光電変換
素子によって電気信号に変換した場合のその出力信号曲
線もこの光強度曲線と同形または反転した形となる。
このような波形の光電変換素子出力信号を。
I   /2のスレシホールドφレベルI をもつma
x                        
               sレベル弁別回路でレ
ベル弁別して2値化すると。
第4図の下半部に示すようにアナログ電圧を表わす4ビ
ツトのディジタル信号が得られる。端子30間に印加さ
れるアナログ電圧信号がこのようにして4ビツト・ディ
ジタル信号に一義的に変換されることが容易に理解でき
よう。A/D変換の精度は上述の分割された電圧領域の
巾となる。
第2図に示されるような特性が得られる条件下(すなわ
ちΔでが(1)式を満足する場合)においても、同様に
アナログ印加電圧を表わす4ビツト・ディジタル信号が
得られるのはいうまでもない。
また弁別レベルは任意のレベルでよく、複数のしベルで
弁別してもよい。
さて、第1図に戻って、lDT+3から発生したパルス
状のSAWが光導波層11を伝播していく過程で、まず
マツハツエンダ型光導波路24の出力光と相互作用しこ
の出力光を回折させる。このときにはSAWは他のマツ
ハツエンダ型光導波路23〜21の出力光とは相互作用
しない。次にSAWはマツハツエンダ型光導波路23の
出力光と相互作用しこの出力光を回折させる。このよう
にして、4つのマツハツエンダ型先導波路24〜21の
出力光は順次SAWによって回折されるから9時間軸上
でシリアルな光信号となる。したがって、集光されたシ
リアルな回折光を1本の光ファイバによって伝送するこ
とが可能となる。
基板10が2カツトし1Nb03の場合には、マツハツ
エンダ型光導波路21の分岐光導波路部分21a、 2
1bの両方の」二に電極31が設けられる。電極31間
に電圧が印加されると分岐光導波路部分21a。
21bの一方で屈折率が増大し、他方で減少し、これら
を伝播する光に位相差が生じ、上述した場合と同じよう
に出力用先導波路部分21dから出力される光の強度が
変調される。他のマツハツエンダ型光導波路22〜24
についても同様である。
ディジタル信号に変換されるアナログ物理量は電圧に限
られない。光、温度、圧力、湿度、ガス濃度等のセンサ
を設けこの出力電圧を端子80間に印加してもよいし、
マツハツエンダ型光導波路の屈折率がこれらの物理量に
よって直接に変化するような光導波路材料、基板材料を
用いることも可能であるし、そのような物質を先導波路
上に装荷してその屈折率等を変化させることにより光変
調素子を構成することもできる。
もちろん、基板上に形成するマツハツエンダ型光導疲路
の数も任意に設定できる。そして、光強度変調素子とし
ては、上述のマツハツエンダ型光導波路を利用したもの
および後述するファプリー・ペロー型のもの以外に、た
とえば光導波路間の方向性結合器を利用したもの、特願
昭57−86178号(特開昭58−202406号公
報)の導波形光ビームφスプリッタを利用したものなど
を挙げることがで=  15  = きる。
基板上への光導波路の作成も種々の方法によりこれを行
なうことができる。
2)ファプリーψベロー型変調器を用いたA/D変換装
置 この実施例では導波型光A/D変換部が4つのファプリ
ー・ペロー型変調器で構成されている。
第5図において第1図に示すものと同一物には同一符号
が付けられている。
基板lO上にはマツハツエンダ型先導波路に代えて、Y
字型先導波路26.27の4つの出力端に連続しかつ互
いに平行に4つの先導波路51〜54が形成されている
。これらの光導波路51〜54は光導波層11に結合し
ている。これらの光導波路51〜54のそれぞれの両側
には各1対の電極31〜34がそれぞれ設けられている
。この実施例では光導波路51の電極81の重なり合う
部分の長さが最も長く、光導波路54の電極34のそれ
が最も短く形成されている。
これらの電極31.32,33.34の互いに重なり合
っている部分の長さは8L、4L、2L、Lとなってい
る。各先導波路51〜54の両端部付近をそれぞれ横切
るように、共振器を構成するための溝48.49がそれ
ぞれ形成されている。さらに位相調整用の電極41〜4
4が各光導波路51〜54の両側であって電極31〜3
4以外の部分に形成されている。
基板lO上に、Tiの熱拡散により光導波路25〜27
.51〜54および光導波層11が形成される。 ・こ
の後、基板10表面上に再度レジストを均一に塗布し、
かつ溝48.49を形成すべき部分を除いて露光するこ
とにより、これらの部分上においてのみレジストを残す
。そして、Tiを3μm程度の厚さにスパッタしたのち
上記のレジストを除去すると、溝48.49を形成すべ
き部分を除いて基板10の全表面がTi膜で覆われるこ
とになる。Arイオン・ビーム拳エツチングを行なうと
、Ti膜によってマスクされていない部分に溝48.4
9が形成される。これらの溝4111.49の深さは光
導波路51等の深さよりも深くする(第6図および第7
図参照)。これらの溝48.49の互いに向い合う壁面
C1Dが共振器面となる。
さらにこの後、Ti膜を除去して、電圧印加用電極31
〜341位相調整用電極41〜44およびIDT13が
リフトオフ法により作製される。これらの電極3I〜3
4.41〜44と基板10表面との間には、好ましくは
バッファ層となる2000人の厚さの8102膜が介装
される。
光導波路(たとえば51)と溝48□49はファプリー
争ベロー型光変調器を構成しており、上述のように溝4
8.49のC,D面が共振器面となっている。
この光導波路51の両側には電圧印加用電極31と位相
調整用電極41とがそれぞれ設けられており、これらの
電極に電圧が印加されることにより共振器面C,D間を
伝搬する光の位相が変化し、光導波路51から出射され
る光の強度が変化する。一般に。
印加電圧を■、電極間隔をdとすると、光導波路を巾方
向に横切る方向に発生する電界の強さはV/dで与えら
れる。電極の長さが(、電界方向がZ方向であるならば
、  L iN b O3結晶の場合には、光の位相変
化量δはδ−n ・T33・■・(/2dで与えられる
。先導波路の入射光の強度を1.、出射光強度をI と
した場合、これらのt 比I  /I、は位相変化量δに対して周期的に変を 化する。この変化の様子が第8図に示されている。
この図においてmは整数である。以トの現象はすべての
光導波路51〜54を伝播しかつ出力される光に対して
同じようにあてはまる。
光導波路51に着目する。電極31間に電圧■が印加さ
れると、この光導波路51を伝播する光に位相変化が現
われ、それはn ・T33・V・8L/2dで与えられ
る。位相調整用電極41に適当なバイアス電圧を加え、
V=Oでの光の位相すなわち出射光の強度を適切にとる
と光導波路51からは。
第9図(b)に示すような印加電圧■に対する出力光強
度が得られる。第9図(a)は印加電圧に対する光の位
相変化量を示している。光導波路51の出力光を光電変
換素子で電気信号に変換し、増幅器で増幅したのち、レ
ベル弁別回路で適当なスレシホールド争レベルI で弁
別することにより2値化すると、第9図に(e)で示す
信号が得られる。
光導波路52の両側に設けられた電極32の長さは4L
であり、電極31の長さの1/2であるから。
光導波路52の光の位相変化Mはn ・T33・V・4
 L/2 dとなる。したがって、第9図(d)に示さ
れるように、光導波路52の出力光から得られる2値化
信号の周期は光導波路51の出力光のそれの2倍となる
。この場合にももちろん2位相調整用電極42間に適当
なバイアスが加えられている。
同様にして光導波路53を挾む電極33の長さは2して
あり、光導波路54の電極34の長さはLであるから、
これらの光導波路53.54の出力光から生成される2
値化信号は第9図(e) 、 (f)で示されるように
周期が2.23倍となる。
2値化信号(1または0)を印加電圧の各領域に対して
示すと次表のようになる。
(以下余白) [ 端子30間に印加されるアナログ電圧信号がこの表のよ
うなグレーコードのディジタル値に変換され、かつこの
ディジタル値はアナログ電圧信号を一義的に表わしてい
ることが理解されよう。量子化による誤差は印加電圧の
各領域の11となる。
光導波路54〜51から出力される光はIDT+3から
発生するパルス状SAWによって偏向され、レンズ15
によって集光されて光ファイバ16に入射し。
シリアルな4ビット信号として光電変換素子に導かれる
のはいうまでもない。
第4図の下半分に示す4ビット信号と一上述の表に示す
4ビット信号とは若干光なっている。これは、第5図に
示す実施例では位相調整用電極41〜44が設けられ、
この電極に適当な電圧が印加されているからである。
ファプリー・ペロー型の光変調器には、第5図に示すも
の以外に1種々の共振面の態様がある。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の第1の実施例を示す斜視図である。 第2図および第3図は印加電圧と出力光強度の関係を示
すグラフである。 第4図は、印加電圧と4つのマツハツエンダ型光導波路
の出力光強度との関係および出力光強度を2値化するこ
とにより得られる4ビット信号を示すものである。 第5図はこの発明の第2の実施例を示す斜視図である。 第6図および第7図は第5図のVl−Vl線および■−
■線にそれぞれそう拡大断面図である。 第8図はファプリー・ペロー共振器の光位相変化に対す
る出力光の特性を示すグラフである。 第9図は出力信号波形を示す波形図である。 lO・・・基板、11・・・光導波層、13・・・ID
T。 21〜24・・・マツハツエンダ型光導波路。 25〜27・・・7字型光導波路。 31〜34・・・アナログ電圧印加用電極。 41〜44・・・位相調整用電極。 48.49・・・溝、  51〜54・・・光導波路。 −23= C,D・・・ミラー面。 以   −に 特許出願人  立石電機株式会社 代  理  人   牛  久  健  間外1名 第2図 晃 −94ら− 第4図 第8図 第9図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 印加される物理量に応じて光学的特性が変化する基板。 基板上に導入された光を強度のほぼ等しい複数の光に分
    岐させる分岐手段、 基板上に形成され、分岐された光の強度を加えられる物
    理量に応じてそれぞれ異なる度合で変調する複数の変調
    素子、 基板上に形成され、変調素子から出力される複数の光を
    時間的にシリアルな光信号に変換するP/S変換手段、 P/S変換された光をその強度を表わす電気信号に変換
    する光電変換素子、および 光電変換素子の出力信号を所要のレベルで弁別するコン
    パレータ、 を備えた導波型光A/D変換装置。
JP15000485A 1985-07-10 1985-07-10 導波型光a/d変換装置 Pending JPS6211833A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103034016A (zh) * 2012-12-28 2013-04-10 北京邮电大学 一种全光模数转换设计方法
US10564371B2 (en) 2016-12-15 2020-02-18 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. Waveguide sheet and photoelectric conversion device

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103034016A (zh) * 2012-12-28 2013-04-10 北京邮电大学 一种全光模数转换设计方法
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