JPS62117689A - 冷却水管の洗浄装置 - Google Patents
冷却水管の洗浄装置Info
- Publication number
- JPS62117689A JPS62117689A JP60256598A JP25659885A JPS62117689A JP S62117689 A JPS62117689 A JP S62117689A JP 60256598 A JP60256598 A JP 60256598A JP 25659885 A JP25659885 A JP 25659885A JP S62117689 A JPS62117689 A JP S62117689A
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- JP
- Japan
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- cooling water
- pipe
- water pipe
- chemical liquid
- compressed air
- Prior art date
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は冷却水管たとえば半導体製造装置の冷却水管
の内壁に付着した付着物を除去する冷却水管の洗浄装置
に関するものである。
の内壁に付着した付着物を除去する冷却水管の洗浄装置
に関するものである。
半導体製造装置には冷却水管が設けられているものがあ
る。たとえば、有機溶剤の蒸気により半導体ウェハを乾
燥する半導体ウェハ乾燥装置においては、有機溶剤の蒸
気が外部に飛散するのを防止するため、有機溶剤種の上
部に冷却水管を設けて、有機溶剤を液化している。
る。たとえば、有機溶剤の蒸気により半導体ウェハを乾
燥する半導体ウェハ乾燥装置においては、有機溶剤の蒸
気が外部に飛散するのを防止するため、有機溶剤種の上
部に冷却水管を設けて、有機溶剤を液化している。
このような半導体製造装置を長く使用していると、冷却
水管の内壁にさび、ヘドロ、藻等の付着物が付着し、こ
の場合には冷却水管内を流れる冷却水の流量が少なくな
るから、冷却を十分に行なうことができなくなってしま
う。
水管の内壁にさび、ヘドロ、藻等の付着物が付着し、こ
の場合には冷却水管内を流れる冷却水の流量が少なくな
るから、冷却を十分に行なうことができなくなってしま
う。
この発明は上述の問題点を解決するためになされたもの
で、冷却水管の内壁に付着した付着物を効率よく除去す
ることができる冷却水管の洗浄袋Ｋを提供することを目
的とする。
で、冷却水管の内壁に付着した付着物を効率よく除去す
ることができる冷却水管の洗浄袋Ｋを提供することを目
的とする。
この目的を達成するため、この発明においては、薬液容
器と、その薬液容器内の薬液を冷却水管に供給するポン
プと、そのポンプの吐出側配管内の上記薬液内に気体を
供給するための配管とを設ける。
器と、その薬液容器内の薬液を冷却水管に供給するポン
プと、そのポンプの吐出側配管内の上記薬液内に気体を
供給するための配管とを設ける。
この冷却水管の洗浄装置においては、薬液内に気体が供
給されるから、薬液内に泡が発生し、泡による剥離作用
と薬液による溶解作用の相乗効果により、冷却水管の内
壁に付着した付着物を除去することができる。
給されるから、薬液内に泡が発生し、泡による剥離作用
と薬液による溶解作用の相乗効果により、冷却水管の内
壁に付着した付着物を除去することができる。
図はこの発明に係る半導体製造装置の冷却水管の洗浄装
置を示す概略図である。図において、１は薬液容器、２
は薬液容器１の上部に設けられた消泡用網、３はダイヤ
フラム式ポンプ、４はポンプ３の吸込側配管で、配管４
は薬液容器１に接続されており、配管４の入口には付着
物再流防止用のフィルタ（図示せず）が設けられている
。５はポンプ３の吐出側配管、６は冷却水管６ａを有す
る半導体製造装置で、配管５の端部は冷却水管６ａの入
口に接続可能である。７は一端が薬液容器１に接続され
た戻り配管で、配管７の他端は冷却水管６ａの出口に接
続可能である。８は圧縮空気供給機、９は圧縮空気供給
機８とポンプ３とを接続するポンプ駆動用圧縮空気供給
配管、１０は配管９に設けられた開閉弁、１１は圧縮空
気供給機８と配管５とを接続するバブリング用圧縮空気
供給配管、１２は配管１１に設けられた減圧弁で、減圧
弁１２は設定圧力を調整することが可能である。１３は
配管１１に設けられた圧力計、１４は配管１１に設けら
れた流量調整弁、１５は配管１１に設けられたチェック
弁で、チェック弁１５は配管５から圧縮空気供給機８に
向かう流れを阻止する。
置を示す概略図である。図において、１は薬液容器、２
は薬液容器１の上部に設けられた消泡用網、３はダイヤ
フラム式ポンプ、４はポンプ３の吸込側配管で、配管４
は薬液容器１に接続されており、配管４の入口には付着
物再流防止用のフィルタ（図示せず）が設けられている
。５はポンプ３の吐出側配管、６は冷却水管６ａを有す
る半導体製造装置で、配管５の端部は冷却水管６ａの入
口に接続可能である。７は一端が薬液容器１に接続され
た戻り配管で、配管７の他端は冷却水管６ａの出口に接
続可能である。８は圧縮空気供給機、９は圧縮空気供給
機８とポンプ３とを接続するポンプ駆動用圧縮空気供給
配管、１０は配管９に設けられた開閉弁、１１は圧縮空
気供給機８と配管５とを接続するバブリング用圧縮空気
供給配管、１２は配管１１に設けられた減圧弁で、減圧
弁１２は設定圧力を調整することが可能である。１３は
配管１１に設けられた圧力計、１４は配管１１に設けら
れた流量調整弁、１５は配管１１に設けられたチェック
弁で、チェック弁１５は配管５から圧縮空気供給機８に
向かう流れを阻止する。
この冷却水管の洗浄装置においては、薬液容器１内に薬
液を入れ、圧縮空気供給機８から圧縮空気を供給すると
、配管９から供給される圧縮空気によりポンプ３が駆動
され、薬液容器１内の薬液が配管４．５を介して半導体
製造装置６の冷却水管６ａに供給され、冷却水管６ａを
通過した薬液が配管７を介して薬液容器１内に戻され、
しがも配管１１を介して配管５内の薬液内に圧縮空気が
供給されるから、配管５内の薬液に泡が発生する。
液を入れ、圧縮空気供給機８から圧縮空気を供給すると
、配管９から供給される圧縮空気によりポンプ３が駆動
され、薬液容器１内の薬液が配管４．５を介して半導体
製造装置６の冷却水管６ａに供給され、冷却水管６ａを
通過した薬液が配管７を介して薬液容器１内に戻され、
しがも配管１１を介して配管５内の薬液内に圧縮空気が
供給されるから、配管５内の薬液に泡が発生する。
このため、冷却水管６ａには泡を有する薬液が循環され
るから、泡の作用により冷却水管６ａの内壁に付着した
付着物が剥離されるとともに、薬液により付着物が溶解
されるので、付着物を除去することができる。そして、
ポンプ３としてダイヤフラム式のものを用いているから
、脈動する薬液を冷却水管６ａに循環させることができ
る。さらに、薬液容器１には消泡用網２が設けられてい
るので、薬液容器１内の薬液に泡が発生して、薬液が薬
液容器１から流出するのを防止することができる。また
、減圧弁１２の設定圧力を調整することにより、配管５
内の薬液内に供給される圧縮空気の圧力を調整すること
ができ、また流量調整弁１４により配管５内の薬液内に
供給する圧縮空気の流量を調整することができる。さら
に、配管１１にチェック弁１５を設けているから、配管
５内の薬液が圧縮空気供給機８−側に流入するのを防止
することができる。
るから、泡の作用により冷却水管６ａの内壁に付着した
付着物が剥離されるとともに、薬液により付着物が溶解
されるので、付着物を除去することができる。そして、
ポンプ３としてダイヤフラム式のものを用いているから
、脈動する薬液を冷却水管６ａに循環させることができ
る。さらに、薬液容器１には消泡用網２が設けられてい
るので、薬液容器１内の薬液に泡が発生して、薬液が薬
液容器１から流出するのを防止することができる。また
、減圧弁１２の設定圧力を調整することにより、配管５
内の薬液内に供給される圧縮空気の圧力を調整すること
ができ、また流量調整弁１４により配管５内の薬液内に
供給する圧縮空気の流量を調整することができる。さら
に、配管１１にチェック弁１５を設けているから、配管
５内の薬液が圧縮空気供給機８−側に流入するのを防止
することができる。
なお、上述実施例においては、半導体製造装置６の冷却
水管６ａの洗浄装置について説明したが、他の装置の冷
却水管の洗浄装置にもこの発明を適用可能であることは
当然である。また、上述実施例においては、配管５内の
薬液内に圧縮空気を供給したが、配管５内の薬液内に不
活性ガス等を供給してもよい。さらに、上述実施例にお
いては。
水管６ａの洗浄装置について説明したが、他の装置の冷
却水管の洗浄装置にもこの発明を適用可能であることは
当然である。また、上述実施例においては、配管５内の
薬液内に圧縮空気を供給したが、配管５内の薬液内に不
活性ガス等を供給してもよい。さらに、上述実施例にお
いては。
圧縮空気供給機８を設けたが、半導体製造装置６が設置
されている場所に不活性ガス供給管が配置されている場
合には、その不活性ガス供給管から供給される不活性ガ
スを配管５内の薬液内に供給してもよい。この場合には
、薬液容器１とポンプ３等とを別ユニットとすれば、冷
却水管の洗浄装置を持ち運び可能にすることができる６
また、薬液としてはギ酸水溶液、フッ化水素酸水溶液、
その他リンゴ酸、シュウ酸、塩酸等の水溶液を用いるこ
とができる。さらに、上述実施例においては、ポンプと
してダイヤフラム式ポンプ３を用いたが、他のポンプを
用いてもよい。
されている場所に不活性ガス供給管が配置されている場
合には、その不活性ガス供給管から供給される不活性ガ
スを配管５内の薬液内に供給してもよい。この場合には
、薬液容器１とポンプ３等とを別ユニットとすれば、冷
却水管の洗浄装置を持ち運び可能にすることができる６
また、薬液としてはギ酸水溶液、フッ化水素酸水溶液、
その他リンゴ酸、シュウ酸、塩酸等の水溶液を用いるこ
とができる。さらに、上述実施例においては、ポンプと
してダイヤフラム式ポンプ３を用いたが、他のポンプを
用いてもよい。
〔発明の効果〕
以上説明したように、この発明に係る冷却水管の洗浄装
置においては、泡による剥離作用と薬液による溶解作用
の相乗効果により冷却水管の内壁に付着した付着物を除
去することができるから、付着物を効率よく除去するこ
とが可能である。このように、この発明の効果は顕著で
ある。
置においては、泡による剥離作用と薬液による溶解作用
の相乗効果により冷却水管の内壁に付着した付着物を除
去することができるから、付着物を効率よく除去するこ
とが可能である。このように、この発明の効果は顕著で
ある。
図はこの発明に係る冷却水管の洗浄装置を示す概略図で
ある。 １・・・薬液容器 ３・・ダイヤフラム式ポンプ
ある。 １・・・薬液容器 ３・・ダイヤフラム式ポンプ
Claims (1)
- 薬液容器と、その薬液容器内の薬液を冷却水管に供給す
るポンプと、そのポンプの吐出側配管内の上記薬液内に
気体を供給するための配管とを具備することを特徴とす
る冷却水管の洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60256598A JPS62117689A (ja) | 1985-11-18 | 1985-11-18 | 冷却水管の洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60256598A JPS62117689A (ja) | 1985-11-18 | 1985-11-18 | 冷却水管の洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62117689A true JPS62117689A (ja) | 1987-05-29 |
Family
ID=17294852
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60256598A Pending JPS62117689A (ja) | 1985-11-18 | 1985-11-18 | 冷却水管の洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62117689A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01182425A (ja) * | 1988-01-14 | 1989-07-20 | Hitachi Elevator Eng & Service Co Ltd | 立て主管内部洗浄方法 |
| JPH02119984A (ja) * | 1988-10-29 | 1990-05-08 | Nippon Shisetsu Hozen Kk | パイプラインに付着した油脂の洗浄方法 |
| JPH03258382A (ja) * | 1990-03-06 | 1991-11-18 | Katsuyoshi Kosaka | 給水管系の管内洗浄方法 |
| JP2003024892A (ja) * | 2001-07-13 | 2003-01-28 | Chubu Plant Service Co Ltd | 冷却水配管の配管洗浄方法とその洗浄装置 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55142573A (en) * | 1979-04-23 | 1980-11-07 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | Method of washing inside of piping |
-
1985
- 1985-11-18 JP JP60256598A patent/JPS62117689A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55142573A (en) * | 1979-04-23 | 1980-11-07 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | Method of washing inside of piping |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01182425A (ja) * | 1988-01-14 | 1989-07-20 | Hitachi Elevator Eng & Service Co Ltd | 立て主管内部洗浄方法 |
| JPH02119984A (ja) * | 1988-10-29 | 1990-05-08 | Nippon Shisetsu Hozen Kk | パイプラインに付着した油脂の洗浄方法 |
| JPH03258382A (ja) * | 1990-03-06 | 1991-11-18 | Katsuyoshi Kosaka | 給水管系の管内洗浄方法 |
| JP2003024892A (ja) * | 2001-07-13 | 2003-01-28 | Chubu Plant Service Co Ltd | 冷却水配管の配管洗浄方法とその洗浄装置 |
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