JPS62115724A - 処理装置 - Google Patents
処理装置Info
- Publication number
- JPS62115724A JPS62115724A JP25471885A JP25471885A JPS62115724A JP S62115724 A JPS62115724 A JP S62115724A JP 25471885 A JP25471885 A JP 25471885A JP 25471885 A JP25471885 A JP 25471885A JP S62115724 A JPS62115724 A JP S62115724A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- processing
- tank
- wafer
- organic solvent
- collecting
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Ventilation (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
本発明は、処理技術、特に半導体装置の製造におけるウ
ェハの蒸気乾燥処理に用いて有効な技術に関する。
ェハの蒸気乾燥処理に用いて有効な技術に関する。
たとえば、半導体装置の製造過程において、純水などに
よる洗浄作業を経たウェハの表面に残留する水滴などを
除去するため、次のような蒸気乾燥を施すことが考えら
れる。
よる洗浄作業を経たウェハの表面に残留する水滴などを
除去するため、次のような蒸気乾燥を施すことが考えら
れる。
すなわち、容器の底部に貯留される、たとえばイソプロ
ピルアルコールなどの有機溶剤をｊ３ｎ 熱して有機溶
剤の蒸気を発生させ、有機溶剤の液面−Ｌ方に形成され
る蒸気雰囲気中に蒸気よりも温度の低いウェハを位置さ
せる。
ピルアルコールなどの有機溶剤をｊ３ｎ 熱して有機溶
剤の蒸気を発生させ、有機溶剤の液面−Ｌ方に形成され
る蒸気雰囲気中に蒸気よりも温度の低いウェハを位置さ
せる。
そして、ウェハ表面に付着する水分や異物などは、ウェ
ハ表面に接触した有機溶剤茎気が凝縮して形成される有
機）容器の液滴とともに落下除去され、この現象がウェ
ハが茶気雰囲気とほぼ等しい温度になるまで繰り返され
ることによってウェハ表面力＜？８浄な乾燥状態とされ
るものである。
ハ表面に接触した有機溶剤茎気が凝縮して形成される有
機）容器の液滴とともに落下除去され、この現象がウェ
ハが茶気雰囲気とほぼ等しい温度になるまで繰り返され
ることによってウェハ表面力＜？８浄な乾燥状態とされ
るものである。
しかしながら、上記のような突気乾燥装置では、ウェハ
に付着した水分や異物などを含む液滴などが、容器の底
部に貯留される有機溶剤に混入して蓄積され、この有Ｒ
溶剤から発生される１気とともに再びウェハ表面に付着
して乾燥不良や汚染などをもたらし、製品不良発生の原
因となっていることを本発明者は見いだした。
に付着した水分や異物などを含む液滴などが、容器の底
部に貯留される有機溶剤に混入して蓄積され、この有Ｒ
溶剤から発生される１気とともに再びウェハ表面に付着
して乾燥不良や汚染などをもたらし、製品不良発生の原
因となっていることを本発明者は見いだした。
なお、ウェハの蒸気乾燥処理に関する技術を開示してい
るものとしては特開昭５６−１６８０７２号公報がある
。
るものとしては特開昭５６−１６８０７２号公報がある
。
本発明の目的は、被処理物の汚染や処理不良の発生を低
減させることが可能な処理技術を提供することにある。
減させることが可能な処理技術を提供することにある。
本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本
明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう
。
明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう
。
Ｃ発明の概要〕
本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、次の通りである。
を簡単に説明すれば、次の通りである。
すなわち、処理槽内に貯留される処理流体から発生され
る蒸気雰囲気中に被処理物を位置させることによって所
定の処理を施す処理装置で、前記処理槽内に位置される
前記被処理物および前記処理槽の内周に設けられた冷却
蛇管の下部に、それぞれ第１および第２の液滴捕集部を
設けることにより、たとえば被処理物や冷却蛇管の表面
に形成され、水分や異物などを含む液滴が処理槽内に貯
留された処理流体中に混入することを防止して、該処理
流体中における水分や異物の蓄積に起因する被処理物の
汚染や処理不良の発生を防止したものである。
る蒸気雰囲気中に被処理物を位置させることによって所
定の処理を施す処理装置で、前記処理槽内に位置される
前記被処理物および前記処理槽の内周に設けられた冷却
蛇管の下部に、それぞれ第１および第２の液滴捕集部を
設けることにより、たとえば被処理物や冷却蛇管の表面
に形成され、水分や異物などを含む液滴が処理槽内に貯
留された処理流体中に混入することを防止して、該処理
流体中における水分や異物の蓄積に起因する被処理物の
汚染や処理不良の発生を防止したものである。
第１図は本発明の一実施例である処理装置の要部を示す
説明図である。
説明図である。
処理槽１の底部には、たとえばイソプロピルアルコール
などの有機）容器２ （処理流体）が貯留され、ヒータ
３によって加熱されることにより有機溶剤蒸気４が発生
される構造とされている。
などの有機）容器２ （処理流体）が貯留され、ヒータ
３によって加熱されることにより有機溶剤蒸気４が発生
される構造とされている。
処理槽ｌの上端部内周には、内部を所定の温度の冷却水
などが流通される冷却蛇管５が設けられており、処理槽
ｌの上端部に到達した有機溶剤蒸気４が凝縮されて回収
されるように構成されている。
などが流通される冷却蛇管５が設けられており、処理槽
ｌの上端部に到達した有機溶剤蒸気４が凝縮されて回収
されるように構成されている。
そして、所定の搬送機構（図示せず）などによってウェ
ハ６（被処理物）がたとえばカセット、（図示せず）に
入れた状態で処理槽１の内部に搬入され、処理槽１の内
部に形成された有機溶剤蒸気４の雰囲気に所定の時間位
賀されることによって蒸気乾燥処理が行われるものであ
る。
ハ６（被処理物）がたとえばカセット、（図示せず）に
入れた状態で処理槽１の内部に搬入され、処理槽１の内
部に形成された有機溶剤蒸気４の雰囲気に所定の時間位
賀されることによって蒸気乾燥処理が行われるものであ
る。
この場合、処理槽１の内部に位置されろウェハ６ （被
処理物）および前記冷却蛇管５の下部には、それぞれ捕
集皿７ （第１の液滴捕集部）および捕集樋８ （第２
の液滴捕集部）が設けられており、ウェハ６や冷却蛇管
５の表面で凝縮され、水分や異物などを含有して滴下さ
れる有機溶剤蒸気４の液滴などが、処理槽１の底部に貯
留された有機）容器２の中に混入することが防止されて
いる。
処理物）および前記冷却蛇管５の下部には、それぞれ捕
集皿７ （第１の液滴捕集部）および捕集樋８ （第２
の液滴捕集部）が設けられており、ウェハ６や冷却蛇管
５の表面で凝縮され、水分や異物などを含有して滴下さ
れる有機溶剤蒸気４の液滴などが、処理槽１の底部に貯
留された有機）容器２の中に混入することが防止されて
いる。
処理槽１の外周部には、回収槽９が設けられており、捕
集皿７および捕集樋８に捕１足され、水分や異物などに
よって汚染されたを機溶剤２ａが排液ノズル１０および
排液孔１１を通して集積されるとともに、有機溶剤再生
機構１２（処理流体再生機構）を経て、水分や異物など
が除去され、その後、処理槽１の底部に還流されるよう
に構成されている。
集皿７および捕集樋８に捕１足され、水分や異物などに
よって汚染されたを機溶剤２ａが排液ノズル１０および
排液孔１１を通して集積されるとともに、有機溶剤再生
機構１２（処理流体再生機構）を経て、水分や異物など
が除去され、その後、処理槽１の底部に還流されるよう
に構成されている。
この、有機溶剤再生機構１２は、たとえば浸透膜、また
は逆浸透膜等を用いた膜分離法、および気化法や蒸溜法
などを用いることにより、ｌη染された有機溶剤２ａか
ら水分や異物などを分離するものである。
は逆浸透膜等を用いた膜分離法、および気化法や蒸溜法
などを用いることにより、ｌη染された有機溶剤２ａか
ら水分や異物などを分離するものである。
以下、本実施例の作用について説明する。
始めに、処理槽１の底部に貯留された有ａ熔剤２がヒー
タ３によって加熱され、処理槽ｌの内部には、有機溶剤
蒸気４の雰囲気が形成されるとともに、処理槽１の上端
部に到達した有機溶剤蒸気４は冷却蛇管５によって凝縮
され、捕集樋８に捕１足される。
タ３によって加熱され、処理槽ｌの内部には、有機溶剤
蒸気４の雰囲気が形成されるとともに、処理槽１の上端
部に到達した有機溶剤蒸気４は冷却蛇管５によって凝縮
され、捕集樋８に捕１足される。
次に、処理すべきウェハ６がたとえばカセット（図示せ
ず）に収容された状態で処理槽ｌの内部に挿入される。
ず）に収容された状態で処理槽ｌの内部に挿入される。
この時、ウェハ６の表面に付着した水分や異物などは、
佇機溶剤莫気４が凝縮して形成される有ｍ、ＴＢ剤２の
液滴とともにｔ＋Ｉｉ集皿７集中７落下して除去される
。
佇機溶剤莫気４が凝縮して形成される有ｍ、ＴＢ剤２の
液滴とともにｔ＋Ｉｉ集皿７集中７落下して除去される
。
この現象がウェハ６が有機溶剤蒸気４の雰囲気とほぼ等
しい温度になるまで繰り返されることによって、ウェハ
６の表面が清浄な乾燥状態とされ、所定の時間経過後、
ウェハ６は処理室１の外部に取り出される。
しい温度になるまで繰り返されることによって、ウェハ
６の表面が清浄な乾燥状態とされ、所定の時間経過後、
ウェハ６は処理室１の外部に取り出される。
このように、本実施例においては、ウェハ６の表面や冷
却蛇管５において有Ｍ１？８剤蒸気４が凝縮して形成さ
れた、水分や異物などを含む液滴などが、捕集皿７およ
び捕集樋８によってｂｌｉ捉され、処理槽１の底部に貯
留された有機溶剤２の中に混入することが阻止されてい
る。
却蛇管５において有Ｍ１？８剤蒸気４が凝縮して形成さ
れた、水分や異物などを含む液滴などが、捕集皿７およ
び捕集樋８によってｂｌｉ捉され、処理槽１の底部に貯
留された有機溶剤２の中に混入することが阻止されてい
る。
このため、有機）容器２の中に混入した水分や異物など
が、有機溶剤英気４などとともに再び揮散してウェハ６
の表面に付着することに起因して、ウェハ６の汚染や乾
燥不良などが発生することが防１トされる。
が、有機溶剤英気４などとともに再び揮散してウェハ６
の表面に付着することに起因して、ウェハ６の汚染や乾
燥不良などが発生することが防１トされる。
また、ｔ＋Ｉｉ 隼皿７および！ｌｌｉ集樋８から回収
槽９に集Ｉｎされた、水分や異物などを含む有機）容削
２ａが、有機溶剤再生機構１２によって水分や異物を除
去された後に処理槽ｌの底部に還流されて再使用される
ことにより、有機溶剤２の使用量が必要以上に増加する
ことが防止でき、処理装置の稼働に要するコストが低減
される。
槽９に集Ｉｎされた、水分や異物などを含む有機）容削
２ａが、有機溶剤再生機構１２によって水分や異物を除
去された後に処理槽ｌの底部に還流されて再使用される
ことにより、有機溶剤２の使用量が必要以上に増加する
ことが防止でき、処理装置の稼働に要するコストが低減
される。
［効果］
（１）、処理槽内に貯留される処理流体から発生される
蒸気雰囲気中に被処理物を位置させることによって所定
の処理を施す処理装置で、前記処理槽内に位置される前
記被処理物および前記処理槽の内周に設けられた冷却蛇
管の下部に、それぞれ第１および第２の液滴ｂｉ集部が
設けられでいるため、冷却蛇管や被処理物の表面に形成
され、被処理物の表面に付着した水分や異物などを含む
液滴などが、処理槽内に貯留された処理流体に混入する
ことが回避され、処理流体に混入した水分や異物などが
該処理流体の蒸気とともに再び被処理物に付着すること
に起因する被処理物の汚染や処理不Ｑ、の発生が防止で
きる。
蒸気雰囲気中に被処理物を位置させることによって所定
の処理を施す処理装置で、前記処理槽内に位置される前
記被処理物および前記処理槽の内周に設けられた冷却蛇
管の下部に、それぞれ第１および第２の液滴ｂｉ集部が
設けられでいるため、冷却蛇管や被処理物の表面に形成
され、被処理物の表面に付着した水分や異物などを含む
液滴などが、処理槽内に貯留された処理流体に混入する
ことが回避され、処理流体に混入した水分や異物などが
該処理流体の蒸気とともに再び被処理物に付着すること
に起因する被処理物の汚染や処理不Ｑ、の発生が防止で
きる。
（２）、前記（１）の結果、ウェハの蒸気乾燥処理にお
いて、異物による汚染や水分の再付着などによる乾燥不
良の発生が防止され、製品の歩留りが向上される。
いて、異物による汚染や水分の再付着などによる乾燥不
良の発生が防止され、製品の歩留りが向上される。
１３）第１および第２の液ｔｒｉ捕集部において回収さ
れた処理流体が、処理流体再生機構を介して処理槽内に
還流され、再使用されることにより、処理流体の使用量
が必要以上に増加することが回避でき、処理装置の稼働
に要するコストが低減される。
れた処理流体が、処理流体再生機構を介して処理槽内に
還流され、再使用されることにより、処理流体の使用量
が必要以上に増加することが回避でき、処理装置の稼働
に要するコストが低減される。
（４）、前記（１１〜（３）の結果、半導体装置の製造
におりる生産性が向上される。
におりる生産性が向上される。
以−Ｆ本発明者によってなされた発明を実施例に益づき
具体的に説明したが、本発明は前記実施例に限定される
ものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可
能であることはいうまでもない。
具体的に説明したが、本発明は前記実施例に限定される
ものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可
能であることはいうまでもない。
たとえば、処理流体としては、イソプロピルアルコール
など乙こ限らず、他の如何なる物質であっても良い。
など乙こ限らず、他の如何なる物質であっても良い。
［利用分野１
以上の説明では主として本発明者によってなされた発明
をその背景となった利用分野であるウェハの英気乾燥技
術に適用した場合について説明したが、それに限定され
るものではなく、たとえば、フォトマスク基板、レンズ
などの水切り乾燥など・ｌｕ浄な乾燥処理が要求される
技術に広（適用できる。
をその背景となった利用分野であるウェハの英気乾燥技
術に適用した場合について説明したが、それに限定され
るものではなく、たとえば、フォトマスク基板、レンズ
などの水切り乾燥など・ｌｕ浄な乾燥処理が要求される
技術に広（適用できる。
第１図は本発明の一実施例である処理装置の要部を示す
説明図である。 １・・・処理槽、２，２ａ・・・有機溶剤（処理流体）
、３・・・ヒータ、４・・・有機溶剤ノに気、５・・・
冷却蛇管、６・ ・ウェハ（被処理物）、７・・・捕集
皿（第１の液滴ｔｌｌｉ集部）、８・・・１ｌＩｉ集樋
（第２の液滴１ＩＩｉ集部）、９・・・回収槽、ＩＯ・
・ ・排液ノズル、 １ ｌ ・ ・ ・υＦ液イし
、１２・・・有機溶剤再生機構（処理流体再生機構機構
）。 ／１＋＼＼
説明図である。 １・・・処理槽、２，２ａ・・・有機溶剤（処理流体）
、３・・・ヒータ、４・・・有機溶剤ノに気、５・・・
冷却蛇管、６・ ・ウェハ（被処理物）、７・・・捕集
皿（第１の液滴ｔｌｌｉ集部）、８・・・１ｌＩｉ集樋
（第２の液滴１ＩＩｉ集部）、９・・・回収槽、ＩＯ・
・ ・排液ノズル、 １ ｌ ・ ・ ・υＦ液イし
、１２・・・有機溶剤再生機構（処理流体再生機構機構
）。 ／１＋＼＼
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、処理槽内に貯留される処理流体から発生される蒸気
雰囲気中に被処理物を位置させることによって所定の処
理を施す処理装置であって、前記処理槽内に位置される
前記被処理物および前記処理槽の内周に設けられた冷却
蛇管の下部に、それぞれ第１および第２の液滴捕集部が
設けられてなることを特徴とする処理装置。 ２、前記第１および第２の液滴捕集部において回収され
た処理流体が、処理流体再生機構を介して前記処理槽内
に還流され、再使用されることを特徴とする特許請求の
範囲第１項記載の処理装置。 ３、前記処理流体および前記被処理物がそれぞれ有機溶
剤およびウェハであり、前記処理装置が蒸気乾燥装置で
あることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の処理
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25471885A JPS62115724A (ja) | 1985-11-15 | 1985-11-15 | 処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25471885A JPS62115724A (ja) | 1985-11-15 | 1985-11-15 | 処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62115724A true JPS62115724A (ja) | 1987-05-27 |
Family
ID=17268878
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25471885A Pending JPS62115724A (ja) | 1985-11-15 | 1985-11-15 | 処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62115724A (ja) |
-
1985
- 1985-11-15 JP JP25471885A patent/JPS62115724A/ja active Pending
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