JPS62115634A - 電子ビ−ム発生器 - Google Patents
電子ビ−ム発生器Info
- Publication number
- JPS62115634A JPS62115634A JP61230214A JP23021486A JPS62115634A JP S62115634 A JPS62115634 A JP S62115634A JP 61230214 A JP61230214 A JP 61230214A JP 23021486 A JP23021486 A JP 23021486A JP S62115634 A JPS62115634 A JP S62115634A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cathode
- electron beam
- support ring
- support
- beam generator
- Prior art date
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Classifications
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
- H01J37/06—Electron sources; Electron guns
- H01J37/075—Electron guns using thermionic emission from cathodes heated by particle bombardment or by irradiation, e.g. by laser
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J3/00—Details of electron-optical or ion-optical arrangements or of ion traps common to two or more basic types of discharge tubes or lamps
- H01J3/02—Electron guns
- H01J3/027—Construction of the gun or parts thereof
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
- Solid Thermionic Cathode (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の関連する技術分野
本発明は、直接加熱可能な第１の陰極とこの第１の陰極
の前に配設されていて第１の陰極によって間接的に加熱
可能な第２のブロック陰極とを有しており、その際、ブ
ロック陰極は突出した複数の支えを介して支持リングと
結合されており、支持リングは同軸的なセンタリング面
を有しており、ブロック陰極は取外し可能な外側集束電
極の、センタリング孔付盤状部に対して相対的に同軸的
な位置に固定保持されている電子ビーム発生器に関する
。
の前に配設されていて第１の陰極によって間接的に加熱
可能な第２のブロック陰極とを有しており、その際、ブ
ロック陰極は突出した複数の支えを介して支持リングと
結合されており、支持リングは同軸的なセンタリング面
を有しており、ブロック陰極は取外し可能な外側集束電
極の、センタリング孔付盤状部に対して相対的に同軸的
な位置に固定保持されている電子ビーム発生器に関する
。
従来の技術
その種の電子ビーム発生器は、真空中での材料の融解お
よび／または蒸発のために必要となるような、高出力の
電子ビーム源として使われている。その際、実質的に中
実な円盤から成るブロック陰極は、直接加熱される陰極
によって加熱され、この陰極は一般に線材から形成され
ていて螺旋状に曲げられており、系内で発生される加速
電圧によって集束電子ビームを送出する。
よび／または蒸発のために必要となるような、高出力の
電子ビーム源として使われている。その際、実質的に中
実な円盤から成るブロック陰極は、直接加熱される陰極
によって加熱され、この陰極は一般に線材から形成され
ていて螺旋状に曲げられており、系内で発生される加速
電圧によって集束電子ビームを送出する。
米国特許第３２７３００３号明細書によって、間接的に
加熱可能。なブロック陰極の種々の形が公知であるが、
その際、突出した支えの自由端は従来通常用いられてい
る保持機構と結合されていることが示されているにすぎ
ない。その際、実際には、従来、支えの自由端を折曲げ
て、パイアスカを加えて盤状部の、軸線に平行な貫通孔
内に装着することが行なわれている。この盤状部は、更
にリベットによって中空円筒部の端フランジと結合され
ている。その際、盤状部と中空円筒部とは合さって集束
電極を構成しており、しばしばウェーネルト円筒とも呼
ばれる。
加熱可能。なブロック陰極の種々の形が公知であるが、
その際、突出した支えの自由端は従来通常用いられてい
る保持機構と結合されていることが示されているにすぎ
ない。その際、実際には、従来、支えの自由端を折曲げ
て、パイアスカを加えて盤状部の、軸線に平行な貫通孔
内に装着することが行なわれている。この盤状部は、更
にリベットによって中空円筒部の端フランジと結合され
ている。その際、盤状部と中空円筒部とは合さって集束
電極を構成しており、しばしばウェーネルト円筒とも呼
ばれる。
発明が解決しようとする問題点
しかし、公知の解決手段には、次のような問題点がある
。すなわち、支えの折曲部は比較的弱く、必ずしも所望
の精度で折曲げることができるとは限らず、また支えを
盤状部の、＠線に平行な貫通孔で力結合によって保持す
るためには、盤状部の中心孔に対して支えをかなシ正確
に同軸的に配置しなければならず、そのために煩雑な調
整作業をしなければならない。しかし、このように同軸
的にセンタリング配置することは重要である。と言うの
は、中心孔の幾何学的な形状によって本来のビーム生成
が行なわれるで、集束電極の表面が不規−性を呈し、局
部的に高い電界強度によって不所望な電圧ピークが生じ
る。また、時には、支えの、種々の長さの折曲端が集束
電極の端面から突出することがあり、その結果、更に別
の電圧ピークが生じる。この電圧ピークによって閃絡が
生じるおそれがあり、この閃絡は真空装置内ではできる
限り回避しなければならない。
。すなわち、支えの折曲部は比較的弱く、必ずしも所望
の精度で折曲げることができるとは限らず、また支えを
盤状部の、＠線に平行な貫通孔で力結合によって保持す
るためには、盤状部の中心孔に対して支えをかなシ正確
に同軸的に配置しなければならず、そのために煩雑な調
整作業をしなければならない。しかし、このように同軸
的にセンタリング配置することは重要である。と言うの
は、中心孔の幾何学的な形状によって本来のビーム生成
が行なわれるで、集束電極の表面が不規−性を呈し、局
部的に高い電界強度によって不所望な電圧ピークが生じ
る。また、時には、支えの、種々の長さの折曲端が集束
電極の端面から突出することがあり、その結果、更に別
の電圧ピークが生じる。この電圧ピークによって閃絡が
生じるおそれがあり、この閃絡は真空装置内ではできる
限り回避しなければならない。
更に、ブロック陰極も集束電極の盤状部も負荷に依存し
て無視できない損耗の恐れがあり、また、電子ビーム発
生器の装備の組替の場合にも、ブロック陰極と盤状部を
交換しなければならない。両方の場合に、前述のリベッ
トはドリルによって除去される。そのような工程は、は
んの数回しか実行できず、ついには当該部品が使用不可
能になる。
て無視できない損耗の恐れがあり、また、電子ビーム発
生器の装備の組替の場合にも、ブロック陰極と盤状部を
交換しなければならない。両方の場合に、前述のリベッ
トはドリルによって除去される。そのような工程は、は
んの数回しか実行できず、ついには当該部品が使用不可
能になる。
ドイツ連邦共和国特許出願公開第２６２７８６２号公報
によって、冒頭に述べた形式の電子ビーム発生器が公知
であるが、その際、ブロック陰極を保持している支持リ
ングはビーム発生器の本体に、ねじとして構成された電
気的なリード接続部を用いて取付けられており、電気的
なリード接続部はセラミックの絶縁体の後側から支持リ
ングとねじ止めされている、それ故、支持リングは公知
装置機構を完全に分解してからしか取外すことができな
い。従って、ブロック陰極の支えは、それぞれ別個に締
付装置および止めねじを用いて支持リングと結合されて
おり、その結果、ブロック陰極を集束電極に対して正確
に同軸にセンタリング配置するためには、ブロック陰極
の交換毎に煩雑で時間のかかる調整作業が必要となる。
によって、冒頭に述べた形式の電子ビーム発生器が公知
であるが、その際、ブロック陰極を保持している支持リ
ングはビーム発生器の本体に、ねじとして構成された電
気的なリード接続部を用いて取付けられており、電気的
なリード接続部はセラミックの絶縁体の後側から支持リ
ングとねじ止めされている、それ故、支持リングは公知
装置機構を完全に分解してからしか取外すことができな
い。従って、ブロック陰極の支えは、それぞれ別個に締
付装置および止めねじを用いて支持リングと結合されて
おり、その結果、ブロック陰極を集束電極に対して正確
に同軸にセンタリング配置するためには、ブロック陰極
の交換毎に煩雑で時間のかかる調整作業が必要となる。
と言うのは、さもないと、操作性ないし手入れの可能性
が得られないからである。ブロック陰極を完全に組付け
てからしか、盤状の、外側集束電極をボックスナツトを
用いて再びねじ止めできない。
が得られないからである。ブロック陰極を完全に組付け
てからしか、盤状の、外側集束電極をボックスナツトを
用いて再びねじ止めできない。
従って、本発明の課題は、ブロック陰極を盤状部に対し
て相対的に正確に位置調整することができ、ブロック陰
極および盤状部の交換が簡単に可能であり、集束電極の
表面が不規則性を呈しないような、冒頭に記載した形式
の電子ビーム発生器を提供することにある。
て相対的に正確に位置調整することができ、ブロック陰
極および盤状部の交換が簡単に可能であり、集束電極の
表面が不規則性を呈しないような、冒頭に記載した形式
の電子ビーム発生器を提供することにある。
問題点を解決するための手段
この課題は、本発明によると、
ａ）ブロック陰極は支えおよび支持リングと共に１つの
構成ユニットを成しており、この構成ユニットは後側か
ら外側集束電極の盤状部のセンタリング面内に装着され
ており、ｂ）支持リングと外側集束電極の盤状部とは取
外し可能な係止リングを用いて相互に緊締力が働いてい
るように取付配置されているようにして解決される。
構成ユニットを成しており、この構成ユニットは後側か
ら外側集束電極の盤状部のセンタリング面内に装着され
ており、ｂ）支持リングと外側集束電極の盤状部とは取
外し可能な係止リングを用いて相互に緊締力が働いてい
るように取付配置されているようにして解決される。
実施例
第１図には、直接加熱可能な第１の陰極２と第１の陰極
によって間接的に加熱可能な第２の陰極３、即ち、所謂
ブロック陰極とを有する電子ビーム発生器１が示されて
いる。第１の陰極２は、その中心部が螺旋状に曲けられ
た部分から成９、この部分は後方および外部に導出され
た２つの接続端子を介して金属の支え４，５と結合され
ており、支え４，５を介して給電される。支え４．５は
２つの接続端子ボルト６．７を用いて絶縁体８に保持さ
れており、絶縁体８は支持棒９に取付けられており、支
持棒９は右側の接続端子ボルト７に給電する。接続端子
ボルト６への給電については詳細に示していない。
によって間接的に加熱可能な第２の陰極３、即ち、所謂
ブロック陰極とを有する電子ビーム発生器１が示されて
いる。第１の陰極２は、その中心部が螺旋状に曲けられ
た部分から成９、この部分は後方および外部に導出され
た２つの接続端子を介して金属の支え４，５と結合され
ており、支え４，５を介して給電される。支え４．５は
２つの接続端子ボルト６．７を用いて絶縁体８に保持さ
れており、絶縁体８は支持棒９に取付けられており、支
持棒９は右側の接続端子ボルト７に給電する。接続端子
ボルト６への給電については詳細に示していない。
前述の装置は内側集束電極１０内に収容されており、こ
の集束電極１０はその端面１１に同軸的な孔１２を有し
ており、この孔１２の中に第１の陰極２が同心的に配置
されている。それにより、作動中、（第１図に関して）
上の方に向けられたビーム束が発生され、このビーム束
はブロック陰極３に衝突し、電位差の制御に依存してよ
り多く又はより少くブロック陰極３を加熱し、その結果
、このブロック陰極３はやはり上の方に向けられたビー
ム束を送出する。
の集束電極１０はその端面１１に同軸的な孔１２を有し
ており、この孔１２の中に第１の陰極２が同心的に配置
されている。それにより、作動中、（第１図に関して）
上の方に向けられたビーム束が発生され、このビーム束
はブロック陰極３に衝突し、電位差の制御に依存してよ
り多く又はより少くブロック陰極３を加熱し、その結果
、このブロック陰極３はやはり上の方に向けられたビー
ム束を送出する。
内側の集束電極１０は、端フランジ１４を有する中空円
筒１３によって同心的に囲まれている。そのようにして
形成された円形状の開口内には、盤状部１５の中心孔１
６が装置全体の共通軸線Ａ−Ａに対して同心的に延在す
るように盤状部１５が装着されている。盤状部１５は、
詳細に図示していない段状面を介して端７ランジ１４に
当接している。中空円筒１３と盤状部１５とは、合さっ
て外側の集束電極１７を形成している。
筒１３によって同心的に囲まれている。そのようにして
形成された円形状の開口内には、盤状部１５の中心孔１
６が装置全体の共通軸線Ａ−Ａに対して同心的に延在す
るように盤状部１５が装着されている。盤状部１５は、
詳細に図示していない段状面を介して端７ランジ１４に
当接している。中空円筒１３と盤状部１５とは、合さっ
て外側の集束電極１７を形成している。
盤状部１５には、孔１６に対して同心的な第１のセンタ
リング面１８が設けられており、このセンタリング面１
８は狭幅の円筒面として形成されている。センタリング
面１８によって形成された円筒状の凹部は、支持リング
１９が鴇する第２図、第６図の構成群の収容のために使
われる。この支持リングは、第１のセンタリング面１８
に対して相補的な第２のセンタリング面２０を有してお
り、このセンタリング面２０は同様に狭幅の円筒面であ
る。支持リング１９の内側には、ブロック陰極３が設け
られており、このブロック陰極３には周囲溝２１が設け
られており、この周囲溝２１の中に、はぼ接線方向に配
向されて等間隔で周囲に分布された４つの支え２２が配
設されている。支え２２は、円柱ボルトとして構成され
ており、その円柱ボルトの内側の端部が周囲溝２１内に
圧入されている。
リング面１８が設けられており、このセンタリング面１
８は狭幅の円筒面として形成されている。センタリング
面１８によって形成された円筒状の凹部は、支持リング
１９が鴇する第２図、第６図の構成群の収容のために使
われる。この支持リングは、第１のセンタリング面１８
に対して相補的な第２のセンタリング面２０を有してお
り、このセンタリング面２０は同様に狭幅の円筒面であ
る。支持リング１９の内側には、ブロック陰極３が設け
られており、このブロック陰極３には周囲溝２１が設け
られており、この周囲溝２１の中に、はぼ接線方向に配
向されて等間隔で周囲に分布された４つの支え２２が配
設されている。支え２２は、円柱ボルトとして構成され
ており、その円柱ボルトの内側の端部が周囲溝２１内に
圧入されている。
円柱ボルトのそれぞれ他方の端部で、支え２２のそれぞ
れは支持リング１９の相応の溝２３の中に圧入されてお
り、その際、この溝のそれぞれは、直径方向の線に対し
て平行に距離″Ｓ”だけずれている。殊に第６図から明
らかなように、この距離”Ｓ”は、支え２２の直径の２
分の１を差引いたブロック陰極３の半径”Ｒ”に相当す
る。ブロック陰極３と支持リング１９の内径との間には
充分な大きさの間隔があることがわかる。
れは支持リング１９の相応の溝２３の中に圧入されてお
り、その際、この溝のそれぞれは、直径方向の線に対し
て平行に距離″Ｓ”だけずれている。殊に第６図から明
らかなように、この距離”Ｓ”は、支え２２の直径の２
分の１を差引いたブロック陰極３の半径”Ｒ”に相当す
る。ブロック陰極３と支持リング１９の内径との間には
充分な大きさの間隔があることがわかる。
また、第１図かられかるように、支持リング１９は盤状
部１５内に係止リング２４によって保持されておシ、係
止リング２４の詳細については第４図を用いて説明する
。その際、係止リング２４の内径は、はぼ支持リング１
９の内径に相応する。係止リング２４は、その外周２５
に、係止リングの厚み全体に亘って延在している半径方
向の２つの溝２６を有している。この溝２６から、周方
向に延在している２つの斜面２７が発しており、この斜
面の終縁２８は係止リング２４の下側の形成面２９に位
置している。
部１５内に係止リング２４によって保持されておシ、係
止リング２４の詳細については第４図を用いて説明する
。その際、係止リング２４の内径は、はぼ支持リング１
９の内径に相応する。係止リング２４は、その外周２５
に、係止リングの厚み全体に亘って延在している半径方
向の２つの溝２６を有している。この溝２６から、周方
向に延在している２つの斜面２７が発しており、この斜
面の終縁２８は係止リング２４の下側の形成面２９に位
置している。
更に、２つの孔３０が設けられており、この孔は係止リ
ング２４の回動用の工具の取付のために用いられる。
ング２４の回動用の工具の取付のために用いられる。
外径がほぼ中空円筒１３の内径に相応している係止リン
グの取付のだめに、この中空円筒の直径方向に向き合っ
た個所（溝２６の位置に相応）に、２つの円筒状ピン３
１が設けられており、そのうちの１つしか図示していな
い。溝２６により、係止リング２４を円筒状ピ／３１と
盤状部１５との間に収容することができる。
グの取付のだめに、この中空円筒の直径方向に向き合っ
た個所（溝２６の位置に相応）に、２つの円筒状ピン３
１が設けられており、そのうちの１つしか図示していな
い。溝２６により、係止リング２４を円筒状ピ／３１と
盤状部１５との間に収容することができる。
時計の針の方向（第４図に関して）に係止リング２４を
回動することによって、斜面２７は円筒状ピ／３１上で
終縁２８の方向にスライドし、その結果、係止リング２
４は一方では円筒状ピン３１に対して、他方では盤状部
１５に対して緊締力が働らいているように取付は配置さ
れる。
回動することによって、斜面２７は円筒状ピ／３１上で
終縁２８の方向にスライドし、その結果、係止リング２
４は一方では円筒状ピン３１に対して、他方では盤状部
１５に対して緊締力が働らいているように取付は配置さ
れる。
その際、盤状部１５は端フランジ１４に押圧される。
第１図によると、ビーム発生器１を構成する各部品は保
持具３２に取付けられているが、この保持具３２は本発
明の部分ではないので、一点鎖線で図示しているにすぎ
ない。
持具３２に取付けられているが、この保持具３２は本発
明の部分ではないので、一点鎖線で図示しているにすぎ
ない。
発明の効果
第１図かられかるように、本発明の構成によると、全部
品を幾何学的に極めて正確に配置構成ないし調整するこ
とが可能である。更に、当該部品を極めて簡単に交換す
ることができる。
品を幾何学的に極めて正確に配置構成ないし調整するこ
とが可能である。更に、当該部品を極めて簡単に交換す
ることができる。
本発明の場合、ドイツ連邦共和国特許出願公開第２６２
７８６２号公報の従来技術と異なって、ブロック陰極、
支えおよび支持リングから成る１つの構成ユニットが設
けられており、この構成ユニットは外側の集束電極に直
接配設されており、この構成ユニットを取外した後、容
易に交換することができる。
７８６２号公報の従来技術と異なって、ブロック陰極、
支えおよび支持リングから成る１つの構成ユニットが設
けられており、この構成ユニットは外側の集束電極に直
接配設されており、この構成ユニットを取外した後、容
易に交換することができる。
そのような電子ビーム発生器の場合、係止リングの除去
によってしか、ブロック陰極も盤状部も集束電極の内部
から取外すことはできない。
によってしか、ブロック陰極も盤状部も集束電極の内部
から取外すことはできない。
本発明を用いると、ブロック陰極は、支えによって支持
リングに対して相対的に非常に正確に位置決めでき、従
って、ブロック陰極、支えおよび支持リングから成る構
成ユニットは、盤状部内への装着の際極めて正確に調整
される。その際、支えの、支持す／グとの申し分のない
電気的な接続も可能であり、従って、不平衝な電流給電
をなくすことができる。部品交換のだめに、リベット結
合部をドリルによって取外す必要もないので、殊に、比
較的高価な盤状部をかなり頻繁に繰返し使用することが
できる。集束電極の表面は付加的に非常に滑らかに形成
することができるので、不都合な作用をする電圧ピーク
を回避することができる。本発明によると、殊に公知手
段での、支えの自由端の種々の折曲げによる極めてコス
ト高な調整を省くことができる。この場合、そのような
調整では一旦作動開始したら最早や調整できないという
ことを考慮しなければならない。と言うのは、支えに通
常用いられている材料は加熱すると非常に脆くなるから
である。
リングに対して相対的に非常に正確に位置決めでき、従
って、ブロック陰極、支えおよび支持リングから成る構
成ユニットは、盤状部内への装着の際極めて正確に調整
される。その際、支えの、支持す／グとの申し分のない
電気的な接続も可能であり、従って、不平衝な電流給電
をなくすことができる。部品交換のだめに、リベット結
合部をドリルによって取外す必要もないので、殊に、比
較的高価な盤状部をかなり頻繁に繰返し使用することが
できる。集束電極の表面は付加的に非常に滑らかに形成
することができるので、不都合な作用をする電圧ピーク
を回避することができる。本発明によると、殊に公知手
段での、支えの自由端の種々の折曲げによる極めてコス
ト高な調整を省くことができる。この場合、そのような
調整では一旦作動開始したら最早や調整できないという
ことを考慮しなければならない。と言うのは、支えに通
常用いられている材料は加熱すると非常に脆くなるから
である。
第１図は、本発明の電子ビーム発生器全体の実施例の軸
線方向断面図、第２図は、第１図の電子ビーム発生器に
用いられる、ブロック陰極、支えおよび支持リングから
成る一つの構成ユニットの軸線方向の拡大断面図、第６
図は、第２図の構成ユニットの平面図、第４図は、第１
図の電子ビーム発生器に用いられる係止リングの、第２
図、第５図に対して縮小して示した下面［スである。 １・・・電子ビーム発生器、２・・・第１の陰極、３・
・・第２のブロック陰極、１０・・・内側集束電極、１
５・・・盤状部、１７・・・外側集束電極、１８・・・
センタリング面、１９・・・支持リング、２４・・・係
止リング、３２・・・保持具手続補正書（方式） 昭和６１年１２月１８日
線方向断面図、第２図は、第１図の電子ビーム発生器に
用いられる、ブロック陰極、支えおよび支持リングから
成る一つの構成ユニットの軸線方向の拡大断面図、第６
図は、第２図の構成ユニットの平面図、第４図は、第１
図の電子ビーム発生器に用いられる係止リングの、第２
図、第５図に対して縮小して示した下面［スである。 １・・・電子ビーム発生器、２・・・第１の陰極、３・
・・第２のブロック陰極、１０・・・内側集束電極、１
５・・・盤状部、１７・・・外側集束電極、１８・・・
センタリング面、１９・・・支持リング、２４・・・係
止リング、３２・・・保持具手続補正書（方式） 昭和６１年１２月１８日
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、直接加熱可能な第１の陰極（２）と、該第１の陰極
の前に配設されていて、前記第１の陰極（２）によって
間接的に加熱可能な第２のブロック陰極（３）とを有し
ており、その際、ブロック陰極（３）は突出した複数の
支え（２２）を介して支持リング（１９）と結合されて
おり、支持リングは同軸的なセンタリング面（２０）を
有しており、ブロック陰極（３）は取外し可能な外側集
束電極（１７）の、センタリング孔（１６）付盤状部（
１５）に対して相対的に同軸的な位置に固定保持されて
いる電子ビーム発生器において、 ａ）ブロック陰極（３）は支え（２２）および支持リン
グ（１９）と共に１つの構成ユ ニットを成しており、該構成ユニットは後 側から外側集束電極（１７）の盤状部（１５）のセンタ
リング面（１８）内に装着されて おり、 ｂ）支持リング（１９）と外側集束電極（１７）の盤状
部（１５）とは取外し可能な係止リ ング（２４）を用いて相互に緊締力が働い ているように取付け配置されていることを 特徴とする電子ビーム発生器。 ２、支え（２２）は円柱ボルトとして構成されており、
その一方の端部はブロック陰極（３）の少なくとも１つ
の周囲溝（２１）の中に形状結合的にかつ離脱しないよ
うに装着されており、その他方の端部は支持リング（１
９）の弦に沿って延在する当該支持リング（１９）の溝
（２３）の中に形状結合的にかつ離脱しないように装着
されている特許請求の範囲第２項記載の電子ビーム発生
器。 ３、係止リング（２４）は、その外周（２５）上に少な
くとも２つの半径方向溝（２６）とこの溝から発して周
方向に延在している斜めの平面（２７）とを有している
特許請求の範囲第１項記載の電子ビーム発生器。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE3534792.9 | 1985-09-30 | ||
| DE19853534792 DE3534792A1 (de) | 1985-09-30 | 1985-09-30 | Elektronenstrahlerzeuger mit einer direkt und einer indirekt beheizbaren katode |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62115634A true JPS62115634A (ja) | 1987-05-27 |
| JPH0550093B2 JPH0550093B2 (ja) | 1993-07-28 |
Family
ID=6282321
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Cited By (2)
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