JPH0745226A - 電子ビーム発生器及び放出陰極 - Google Patents

電子ビーム発生器及び放出陰極

Info

Publication number
JPH0745226A
JPH0745226A JP107491A JP107491A JPH0745226A JP H0745226 A JPH0745226 A JP H0745226A JP 107491 A JP107491 A JP 107491A JP 107491 A JP107491 A JP 107491A JP H0745226 A JPH0745226 A JP H0745226A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cathode
generator
support
generator according
electron
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP107491A
Other languages
English (en)
Inventor
Urs Wegmann
ベークマン ウルス
Albert Koller
コラー アルベルト
Hubert Mannhart
マンハルト フベルト
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
OC Oerlikon Balzers AG
Original Assignee
Balzers AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Balzers AG filed Critical Balzers AG
Publication of JPH0745226A publication Critical patent/JPH0745226A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/30Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
    • H01J37/305Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for casting, melting, evaporating or etching
    • H01J37/3053Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for casting, melting, evaporating or etching for evaporating or etching
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02Details
    • H01J37/04Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
    • H01J37/06Electron sources; Electron guns
    • H01J37/067Replacing parts of guns; Mutual adjustment of electrodes

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)
  • Solid Thermionic Cathode (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】構造が非常に簡単かつ丈夫であって、再現可能
な正確な陰極の取付と電子光学的に重要な他の部分の取
付が簡単かつ確実であることを保証できる電子ビーム発
生器を提供することを目的とする。 【構成】加熱される電子放出陰極を有する電子ビーム発
生器において、電気的に絶縁された支持体1が設けら
れ、支持体の一方側が発生器を装置に取り付けるように
形成され、他方側は電子放出陰極26を収容するように
形成されており、かつ支持体は機械的な位置基準として
少なくとも放出陰極及び発生器の電子光学的に重要な部
分を位置決めするストッパ面を有するように構成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、加熱される電子放出陰
極を有する電子ビーム発生器と、この種の発生器を有す
る電子ビーム蒸発装置と、電子ビーム蒸発器およびこの
種の電子ビーム発生器とを有する真空処理装置とに関す
るものである。
【0002】
【従来の技術と発明が解決しようとする課題】電子ビー
ム発生器は、例えば真空蒸発装置において電子ビームを
発生させるのに用いられ、発生された電子ビームは電子
光学手段によって坩堝上に転向される。このような電子
ビーム発生器には通常電子ビーム放出陰極が設けられて
おり、電子ビーム放出陰極は直接ジュール熱によって加
熱されるか、あるいは間接的に、例えば加熱機構に隣接
した領域に組み込むことによって加熱される。いずれの
場合にも電子ビーム放出陰極は駆動時には負の高圧電位
に接続され、上記の陰極のすぐ上に配置されている陽極
は、例えばアース電位に接続される。同様に通常は、発
生器が取り付けられる装置もアース電位に接続される。
従ってこの種の電子ビーム発生器を介して通常は高圧が
印加されるので、陰極取付部分と装置に発生器を取り付
ける取付部分との間には、適当な絶縁手段を設けなけれ
ばならない。
【0003】この種の発生器において守らなければなら
ない第2の要請は、取り付けるべき装置部分に対して放
出陰極を非常に正確に位置決めして、それによって陰極
から放出される電子を発生器陽極を通過後に後続の電子
光学ユニットへ再現可能な正確さで入射させなければな
らないことである。このことは発生器に生じる大きな温
度勾配を考慮して行われる。
【0004】本発明の目的は、構造が非常に簡単かつ丈
夫であって、再現可能な正確な陰極の取付と電子光学的
に重要な他の部分の取付が簡単かつ確実であることを保
証できる電子ビーム発生器を提供することである。
【0005】
【課題を解決するための手段】依って本発明は、加熱さ
れる電子放出陰極を有する電子ビーム発生器において、
電気的に絶縁された支持体が設けられ、支持体の一方側
が発生器を装置に取り付けるように形成され、他方側は
電子放出陰極を収容するように形成されており、かつ支
持体は機械的な位置基準として少なくとも放出陰極及び
発生器の電子光学的に重要な部分を位置決めするストッ
パ面を有するように形成されていることを特徴とする電
子ビーム発生器を提供する。
【0006】
【作用】それによって陰極の交換が簡単かつ再現可能と
なり、例えばクリーニングのために発生器全体の取付及
び取り外しが簡単でかつ再現可能に正確である。その際
に明確に定義された再現可能な熱伝導比率で形成され、
機械的な基準として支持体を使用することによって、絶
縁体と金属部分との異なる熱膨張を可能にし、電子光学
的な関係に影響を与えることはない。
【0007】支持体としては、好ましくはA1203からな
る支持体が使用される。簡単な構造のこのような発生器
において重要なことは、すでに説明したように、陰極側
の支持体部分と発生器が取り付けられる装置の金属部分
との間においても定義された再現可能な熱伝導を保証す
ることである。
【0008】このことは、請求項3の文言によれば、支
持体の一方側が金属の接触体に大面積で締付け固定され
ることによって保証され、それによって絶縁性の支持体
と上記の金属の接触体との間に必要な熱伝導比率が保証
される。
【0009】さらに、すでに説明したように、例えば電
子ビーム発生器と電子光学装置と坩堝を有する蒸発装置
全体に簡単な方法で電子ビーム発生器を取付けないし取
り外しできるときわめて効果的であり、それによって例
えば電子放出陰極が消耗したときに蒸発プロセスをきわ
めて短時間だけ中断するだけで済み、あるいは保守すべ
き発生器をオーバーホール済みの発生器と交換すること
ができる。そのために請求項4の文言によれば、支持体
の一方側に発生器を迅速に取付け取り外しする迅速ロッ
ク機構を設けることが提案されている。
【0010】請求項5の文言に記載の好ましい簡単な実
施例においては、この種の迅速ロック機構には、径方向
の円錐孔を有する少なくとも1つの突出するボルトが設
けられている。その場合には本発明によれば、この種の
迅速ロック機構は請求項6の文言により装置側に形成さ
れる。
【0011】このように形成することによって、きわめ
て簡単な方法で、迅速ロック機構を介して発生器を(発
生器が取り付けられる)装置部分に締付け固定すること
ができ、それによって発生器を一義的に定義された位置
に取り付けることが可能となり、さらに締付け固定する
ことによって、発生器と上述の装置部分との間にも定義
された熱伝導を再現可能に保証することができる。
【0012】簡単で好ましい実施例においては、請求項
7の文言によれば、電子放出陰極はジュール熱によって
直接加熱される陰極、あるいは間接的に加熱される陰極
であって、間接的に加熱される場合には、好ましくは加
熱機構と一体のユニットとして構成される。さらに上述
の支持体の他方側(装置に取り付けるために形成されて
いる側に関して)には金属の2つの陰極端子保持ブロッ
クが設けられており、保持ブロックは熱による大きな交
番応力を受けても陰極を支持体に正確に固定する。
【0013】請求項9の文言によれば、さらに、陰極は
放出面に関してほぼ「いくつかの点で」取り付けられて
おり、それによって熱によって遅延なく、すなわち自由
に膨張することができ、陰極がジュール熱によって直接
あるいは間接的に加熱される陰極として形成される好ま
しい実施例においては、ほぼ平行な2つの保持端子(好
ましくはヒーター電流の)が設けられており、保持端子
は陰極放出面に関して同一の側に突出しており、陰極は
この2つの端子に機械的に保持されており、それによっ
て上述の意味において熱により自由に膨張することがで
き、好ましくは電流を供給される。
【0014】その場合に、支持体に設けられている陰極
端子ブロックは請求項10の文言によれば、一方の陰極
端子を固定するそれぞれの固定装置を有する。
【0015】この種の発生器に固定された陰極(多くの
場合に所定の位置に取り付けなければならない)を誤り
なく交換するために、請求項11の文言によれば、陰極
側において陰極端子を異なるように形成し、同様に発生
器側でも固定装置を異なるように形成して、それぞれ一
方の陰極端子はそれぞれ一方の固定装置にだけ装着可能
にすることが提案されており、それによって陰極を誤り
なく装着することが保証される。その場合には陰極は所
定の位置でしか取り付けられない。陰極の誤った側を放
出装置に取り付けることは絶対にない。
【0016】請求項12の文言によればさらに、陰極を
上述の意味において誤った方向に取り付けずに正確に所
定の位置に取り付けるために、少なくとも一方の固定装
置にストッパ装置を設けることが提案されており、それ
によって放出陰極はストッパの位置だけに取り付け、そ
こに固定しなければならず、それによって正しい位置に
設けることが保証される。
【0017】冒頭で説明したように、この種の電子ビー
ム発生装置では、陰極と発生器が取り付けられる装置部
分との間に大きな電圧値が存在する。従って、陰極と上
述の装置部分との間の絶縁手段が連続的に大きな表面抵
抗を有することが重要である。このことは、この種の発
生器の多くの使用例においては、例えば真空蒸発装置に
おいて導電性の材料が坩堝から蒸発され、それがビーム
発生器の絶縁部分にも沈積することを考えると、自明で
はない。陰極も駆動中にイオン照射にさらされることに
よって蒸発するので、絶縁を損なう第2の原因が発生器
の陰極によってもたらされる。絶縁性を損なう上述の2
つの因子に共通しているのは、蒸発される導電性材料の
大部分が発生器に関して、陰極の放出面が向けられてい
る側から、ないしは発生される電子ビームが向けられる
側から生じることである。
【0018】この知識に基づいて、本発明の発生器にお
いては表面絶縁を次のことによって蒸発される陰極材料
及びプロセス蒸発による損傷から保護している。すなわ
ち請求項13によれば、支持体の他方部材側、すなわち
電子放出側がカラー状に突出するように覆われている。
陰極にヒーター電流を供給するために互いに分離しなけ
ればならない。すなわち両者の間に間隙を設けなければ
ならない上述の種類の陰極保持ブロックを設ける場合に
は、本発明により使用される支持体の表面絶縁が上記の
ように損傷されることを、次のようにして阻止する。す
なわち、請求項14の文言によれば、陰極保持ブロック
は支持体をカラー状に突出して覆っており、そして接触
することなく、相補形状で互いに入り組んでおり、支持
体の他方側の方向から、すなわちビームが発生される側
からは、支持体は陰極保持ブロックによって完全に遮蔽
される。それによって、この陰極保持ブロックのみが陰
極蒸発あるいはプロセス蒸発によって損傷を受けるだけ
であって、それによって発生器の機能に影響を与えず
に、電気的な分離を保証することができる。
【0019】直接、あるいはユニットとして間接的に加
熱される電子放出陰極においては、陰極ないし加熱装置
を流れるヒーター電流は大きなアンペアになることがあ
る。この種の電流によってかなりの磁場が形成され、こ
の磁場が陰極の放出特性及び電子拡散に著しい影響を与
えることがある。さらに、直接加熱される電子放出陰極
の利点、及び閉鎖されたユニットとしてすでに形成され
ている間接的に加熱される陰極の利点として、ヒーター
電流を変化させることによってきわめて簡単に放出出力
を変化させることができることを考慮すると、明らかに
この磁場は、無視できないリプルを有する大きな電流の
場合、あるいはAC電流供給の場合、あるいはまたDC
ヒーター電流が変化した場合には、AC磁場成分を有
し、このAC磁場成分は同様に障害となるDC成分に加
えて、発生器の所望の放出及び拡散特性に関してきわめ
て障害となる危険がある。それに対処するために、請求
項15の文言によれば、加熱される放出陰極に電流供給
線を次のように接続すること、すなわち陰極の放出面を
考えた時に、この電流供給線が上記の放出面からできる
だけ大きな距離をもって、この面により定義される平面
を通過するように接続することが提案されている。この
電流供給線が、放出面によって定義される平面の下方に
ある場合には、電流によってこの電流供給線内に発生さ
れる磁場は、陰極の上方の金属のシールド電極あるいは
制御電極によってそのほとんどが分路される。
【0020】請求項16の文言による発生器がほぼ方形
の支持体を有するように形成され、陰極の放出面がほぼ
四辺形の一角にある場合には、上述の説明に従って、陰
極に電流を供給する電流供給線は方形の前記一角を形成
しない側面に配置され、すなわちこの方形の対角線を介
して上記の放出面からできるだけ大きな距離に配置され
る。
【0021】さらに請求項17によれば、本発明の発生
器にはさらに、放出陰極の上方に制御電極が設けられて
おり、制御電極は好ましくはボルトによって固定され、
それによってこのイオン照射に多くさらされる部分を非
常に簡単にかつ発生器の他の部分をそれぞれ取り外さず
に交換することができる。
【0022】なお、上述の制御電極は所望の電位に接続
され、かつ他の目的のために、すなわち磁場を陰極の放
出面を介して分路し、かつできるだけ良好に熱を導くこ
とを保証するために、使用される。
【0023】そのために請求項18の文言によれば、制
御電極は陰極側の第1の層と、陰極面と反対側の磁気的
に良好に導通する第2の層とを有するサンドイッチ構造
に構成されている。従って制御電極は、制御機能とは別
に、熱シールドないしイオン照射シールドとして、かつ
磁場シールドとして2種類の意味で作用する。熱シール
ド効果を高めるために、好ましくは層間に間隙が設けら
れる。
【0024】さらに請求項19の文言による本発明の発
生器の好ましい実施例においては、陰極の放出側に設け
る陽極を支持体に取り付けずに、金属の結合体を介して
接触体に取り付け、接触体は冒頭で述べたように、支持
体の陰極と反対の側に設けられる。それによって陽極か
ら発生器が取り付けられる装置部分まで、直接の最適な
金属電熱路が上述の接触体を介して保証される。さら
に、支持体に設けられた陰極の取付を何ら変更すること
なく、陽極を取り外すことができる。
【0025】さらに、ヒーター電流磁場による陰極放出
特性の影響を著しく減少させるために、請求項20の文
言によれば、ヒーター電流線が通過する領域と陰極の放
出面との間にシールドを設けることが提案されている。
【0026】本発明の元になっている簡単さと操作し易
さの原理に従って、請求項21の文言によればさらに、
すべての重要な部材をできるだけ少ないボルトで発生器
に固定すること、及び互いの形状を所定に形成すること
によって、相補形状で互いに対して所定の位置でだけス
トッパに取り付けることができるようにすることが提案
されている。すなわち陰極保持ブロックはボルトによっ
て支持体の所定の位置にのみ取付可能であって、前記陰
極保持ブロックにおいては締付け機構を締め付けること
によって放出電極が放出面に関して所定の位置に取付可
能であって、制御電極も同様にボルトによりかつ所定の
位置に取付可能で、同様に陽極にも電子ビームの通過す
る孔をカバーする孔カバーが設けられている。螺合は支
持体にねじを形成しないで行われ、部材はねじ作用を介
して互いに締付けられる。
【0027】本発明のビーム発生器を有する請求項22
に記載の電子ビーム蒸発装置は、電子光学的なビーム発
生機構に関してきわめて簡単に保守を行うことができ、
次のような事実によって保守を行うために駆動をわずか
しか中断しないで済む。すなわち保守を行おうとするビ
ーム発生器においてはビーム発生器は装置ごと保守を行
う必要はなく、オーバーホールしたものと交換すること
ができる。それによってこの種の発生器を有する蒸発装
置をきわめてわずかな運転中断で使用することができる
だけでなく、真空処理装置において電子ビーム発生器が
本当はこの種の装置の「心臓部」であって、それが長く
故障していることは装置の故障であると考える場合に
は、本発明の発生器のようにこの種の故障時間を最小に
する手段が設けられていれば、すなわち陽極と制御電極
ないし陰極あるいは発生器全体のように摩耗にさらされ
る部材をきわめて簡単に交換してオーバーホールできる
ようにすることができる。
【0028】
【実施例】以下、図面を用いて本発明を詳細に説明す
る。本発明のビーム発生器は、絶縁を行うほぼ方形の例
えばアルミニウム酸化物からなる支持体ないし基台1を
中心に形成される。基台1の一方の平坦な側3には例え
ば4本の止めボルトによって金属の接触体ないしインタ
ーフェースブロック7が固定されており、基台1の平坦
な側3はブロック7の同様に平坦な面上に張られてい
る。ボルト5を螺合させるねじは基台1内にではなく、
例えばインターフェースブロック7内に形成される。そ
れによって基台1とインターフェースブロック7間にお
いて定義された再現可能な熱伝導が保証される。インタ
ーフェースブロック7の基台1と反対の側には、迅速に
ロックできる締付けボルト9が突出している。
【0029】インターフェースブロック7内にはストッ
パ段部11が形成されている。インターフェースブロッ
ク7のこのストッパ段部11が符号13で概略図示する
接触部分に設けられた、例えばビーム光路及び/あるい
はビーム焦点を制御する電子ビーム制御ユニットなどの
対応するストッパに取付けられる。
【0030】迅速なロックを可能にする締付けボルト9
は接触部分13の対応する円筒孔(不図示)に挿入され
る。迅速なロックを可能にする締付けボルト9には、径
方向に円錐状に狭くなる締付け孔15が好ましくは貫通
して形成されている。接触部分13には、図1の(b) に
概略図示するように、締付け孔15に嵌入する締付けボ
ルト14が設けられている。なお、このボルト14の軸
A14は締付け孔15の軸A15に対して締付けボルト9の
挿入方向にわずかに変位しており、それによって円錐状
に延びるボルトの尖端をボルト孔15へねじ込むことに
より(P) 、くさびの力によりブロック7が接触部分13
の平坦に加工された接触面に対して締め付けられる(F)
【0031】図1に1本だけ示されている陰極ホルダー
ボルト17によって、基台1のインターフェースブロッ
ク7と反対の側には、2本の陰極端子ホルダー19aと19
bがボルト17のねじによって固定されている。特に図
2から明らかなように、それぞれの陰極端子ホルダー19
aないし19bには収容溝20aないし20bが形成されてお
り、一方の溝(20b)は図から明らかなように、他方の
溝(20a)より広く形成されており、かつ両者は互いに
平行に延びている。図2に示すように、溝20b内にはス
トッパボルト22が嵌入している。2つの陰極端子ホル
ダー19aと19bはすべての側において、図1に示すよう
に、基台1のインターフェースブロック7と反対のほぼ
平坦な側から端縁18分だけカラー状に突出しており、
両陰極端子ホルダー19aと19bは図1に示すように後ろ
側が入り組んで、迷路状の間隙24によって分離されて
いる。それによって、溝20が設けられている側(この
溝内には後述するように放出陰極が組み込まれる)から
は、絶縁を行う基台1は直接見えない。それによって蒸
発材料、例えば蒸発される陰極材料あるいはプロセスの
ために電子ビームにより蒸発される蒸発材料は絶縁基台
1上にほぼ沈積することはなく、従って基台の大きな表
面絶縁寿命が著しく延長される。基台1の周りには溝2
1が延びており、この溝によって洩れ電流路が基台1に
沿って延長される。
【0032】図3との関連において特に図2から明らか
なように、陰極端子20aと20bにはそれぞれ電子放出電
極26の端子が挿入され、その場合に陰極26の一方の
端子は他方の端子より幅が広く、従って定義された位置
でした溝内に挿入できず、さらにストッパ22により所
望の位置に正確に挿入される。2つの陰極端子を挿入し
た後に陰極26は締付け台28aと28bとによりボルト30
aと30bを介して対応する端子ホルダ19aないし19bに
締付け固定される。図3から明らかなように、基台1の
接触面は部材7,19を位置決めするための正確な位置
決め基準を形成している。
【0033】図2と図3からさらに明らかなように、放
出陰極26の端子だけが取り付けられ、そのほか電子放
出面34は自由状態である。それによって電子放出陰極
26は熱によりすべての方向へ膨張することができ、そ
れに関して機械的な応力及び遅延が生じることはない。
【0034】好ましくは図4,5,6あるいは7に示す
ような電子放出陰極が使用される。図4によれば、使用
される直接加熱される電子放出陰極26には放出体41
が設けられており、放出体は平坦に形成され、ほぼ円形
の放出面34を構成する。基台1内のスリット配置には
陰極端子32aから螺旋状に中心Zへ向かって延びる第1
のスリット44aが設けられており、その隣に同様に螺旋
状に中心Zへ向かって延びる第2のスリット44bが設け
られている。中心Zにおいては残っているブリッジ部分
46によって放出体41が完全であることが保証される
ので、2つの螺旋状のスリット44aと44bによって2本
巻の電流導体Iが形成され、この電流導体を通して矢印
で示すようにヒーター電流が駆動される。スリット44a
ないし44bの幅は電流導体Iの幅Dより小さく、電流導
体断面を連続的あるいは不連続的に変化させることによ
って、部分的な熱の発生及びそれに伴う放出面(放出体
41によって決定される)に沿った電子放出分布を変化
させることができる。その際に好ましくは電流導体の幅
Dはプレート状の放出体1の厚みより大きい。
【0035】図5には、電子ビーム発生器1に使用され
る直接加熱される電子放出陰極26の他の好ましい実施
例が示されている。この実施例は原則的に図4の実施例
と同様に構成されているが、中心Zには好ましくは円形
の通過口48が形成されており、イオン照射腐食を防止
する。
【0036】図6には使用される好ましい電子放出陰極
26の図5のVI−VI線に沿った断面図が示されており、
その下にはプレス工程によってほぼ平坦な陰極を加工し
て、平坦ではなく立体的な面に形成された放出陰極の断
面図が示されている。
【0037】図7には、本発明のビーム発生器で使用さ
れる直接加熱される電子放出陰極の他の好ましい実施例
が示されており、(A) は断面図、(B) は平面図である。
この電子放出陰極はヒーターを内蔵した陰極装置であっ
て、好ましくは、またそれぞれ使用目的に従って小型化
することができる。
【0038】陰極装置には鉢状部分70が設けられてお
り、鉢状部分の一方側は場合によっては取り外し可能な
電子放出面として作用するカバー部分72によって閉鎖
されている。放出面として作用するカバー部分72は所
望の陰極材料から形成され、場合によっては鉢状部分7
0の他の部分と異ならせることもできる。鉢状部分70
には(放出面として作用するカバー部分に隣接して)加
熱コイルが配置されており、加熱コイルには電流供給線
76及び78が設けられている。電流供給線76はカバ
ー部分72と電気的に接続されており、放出面を陰極電
位に接続する。第2の電流供給線78は絶縁されてお
り、セラミックの通過ガイド80によって鉢状部分70
から導出されている。特に真空装置に使用する場合に加
熱コイル74と放出面72との熱伝導をよくするため
に、場合によっては鉢状部分70を気密に形成し、内部
に熱伝導ガスを封入する。図7に示す間接的に加熱され
る電極は、上述の直接加熱される陰極とまったく同様に
本発明のビーム発生器に組み込まれる。
【0039】ヒーター電流Iを供給するために、陰極端
子ホルダー19aと19bにはそれぞれ電流供給レール51a
ないし51bが螺合固定され、特に陰極端子ホルダー19a
ないし19bに関しては溝20aないし20bに対して直角
に、かつ発生器の陰極26の放出面34から離れた側に
螺合固定される。電流供給レール51の放出面34(図
1)の平面Eから突出している部分は、できるだけ上記
面34から離されている。供給レール51を有する空間
領域と放出陰極26を有する空間領域はシールド板53
によって互いに分離されている。図1と図2に点線で記
入されているこの種のシールド板53は、例えば締付け
ボルトによって陽極電位に接続されている。
【0040】さらに特に図2から明らかなように、通常
2つの陰極端子ホルダー19aあるいは19bの一方(図で
は陰極端子ホルダー19b)と接続された制御電極(ヴェ
ーネルト)保持板55が取付けられており、この保持板
は例えば電子放出陰極と同一の電位で駆動される。その
場合に、保持板55は2つの陰極端子ホルダー19aない
し19bの一方としか接触しないようにして、それによっ
てヒーター電流が陰極26を通って短絡しないことが保
証される。保持板55には切欠き57が形成されてお
り、この切欠きにボルト59によって容易に交換可能な
孔カバー挿入片61が相補形状で固定されており、それ
によって電気的に接続され、制御電極を形成している。
この制御電極は、保持板55あるいは挿入片61を取り
付ける場合でも、電子放出陰極26の電位から絶縁して
取り付けることができ、かつ所望の電位に接続すること
ができる。
【0041】さらに図2と図1を参照することから明ら
かなように、スペーサブロック63がインターフェース
ブロック7と螺合され、孔カバー開口部を有する(同様
に螺合された)陽極プレート65を支持し、陰極放出面
に整合させている。
【0042】本発明のビーム発生器の上述のすべての部
分は基台1の所定の位置に所定の形状で取付け可能であ
って、ボルト結合を緩めることによって容易に交換する
ことができる。すでに説明したように制御電極挿入片6
1は容易に取り外し可能であって、消耗部品として形成
されている。特に孔カバー挿入片61は電子放出陰極2
6の磁気シールドとして、かつ熱シールドとして作用す
る。
【0043】そのために孔カバー挿入片61は、例えば
Mo とFeCoからサンドイッチ構造で形成されている。M
o 層はビーム保護シールドないし熱シールドとして作用
するが、FeCo層は電子放出陰極26に関する磁気的な
「分路」を形成して、ビーム形成の拡散磁場の影響を阻
止する。2つの層の間には、図3に示すように好ましく
は熱シールドとしての作用を向上させる間隙27が設け
られる。
【0044】スペーサホルダ63によって陽極65から
インターフェースブロック7へ良好に熱が伝導される。
本発明のビーム発生器と装置部分13との間の熱の搬出
は、迅速なロックを行う締付けボルト9により付勢され
た載置面を介して行われる。
【0045】
【発明の効果】以上説明した本発明の電子ビーム発生器
は小さくコンパクトに構成されており、上述の迅速な閉
鎖あるいは容易に取り外すことのできる他の取付方法に
よって、例えば検査のために迅速に交換することがで
き、製造装置を長く停止させる必要はない。
【図面の簡単な説明】
【図1】概略図示する装置部分に取り付けられた本発明
の発生器の側面図を(a) に示し、(b) は迅速ロック手段
の部分断面図である。
【図2】図1に示す本発明の発生器と一部破断された陽
極プレートの上面図である。
【図3】本発明の発生器の図2の III−III 線に沿った
断面図である。
【図4】本発明の発生器に使用される直接加熱される電
子放出陰極を示す上面図である。
【図5】本発明の発生器に使用される直接加熱される電
子放出陰極を示す上面図である。
【図6】平坦に形成された陰極と湾曲して形成された陰
極の図5のVI−VI線に沿った断面図である。
【図7】本発明のビーム発生器に使用される間接的に加
熱される本発明の放出陰極装置の他の実施例を示し、
(a) は断面図、(b) は平面図である。
【符号の説明】
1…支持体 7…金属接触体 9…ボルト 14…ねじ 15…円錐孔 26…電子放出陰極 32…陰極端子 34…放出面 51…電流供給線 53…シールド 61…制御電極

Claims (29)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 加熱される電子放出陰極を有する電子ビ
    ーム発生器において、電気的に絶縁された支持体(1) が
    設けられ、支持体の一方側が発生器を装置に取り付ける
    ように形成され、他方側は電子放出陰極(26)を収容する
    ように形成されており、かつ支持体は機械的な位置基準
    として少なくとも放出陰極及び発生器の電子光学的に重
    要な部分を位置決めするストッパ面を有するように形成
    されていることを特徴とする電子ビーム発生器。
  2. 【請求項2】 支持体(1) がA1203から形成されること
    を特徴とする請求項1に記載の発生器。
  3. 【請求項3】 支持体(1) の一方側が金属の接触体(7)
    に大面積で締付け固定されていることを特徴とする請求
    項1あるいは請求項2に記載の発生器。
  4. 【請求項4】 支持体(1) の一方側に、発生器を迅速に
    取り付けるための少なくとも1つの迅速ロック機構が設
    けられていることを特徴とする請求項1から請求項3の
    いずれか1項に記載の発生器。
  5. 【請求項5】 迅速ロック機構に、径方向の円錐孔を有
    する少なくとも1つの突出するボルトが設けられている
    ことを特徴とする請求項4に記載の発生器。
  6. 【請求項6】 請求項5に記載の発生器と装置部分を結
    合する迅速ロック手段において、 装置部分にボルト(9) を収容する収容孔が形成され、ボ
    ルトには前記孔に挿入可能な円錐状の尖端を有する径方
    向の締付けねじが設けられており、ねじの軸(A14)は
    ボルトを挿入するとき及びねじ(14)を締め付ける前には
    ボルト(9) の孔(15)の軸に対して変位しており、それに
    よってねじを締め付けることにより発生器のボルト(9)
    の円錐孔(15)を介して発生器が装置部分に締付け固定さ
    れることを特徴とする迅速ロック手段。
  7. 【請求項7】 電子放出陰極が、ジュール熱により直接
    加熱される陰極、あるいは間接的に加熱される陰極であ
    って、間接的に加熱される場合には好ましくは加熱機構
    と一体に構成された陰極であることを特徴とする請求項
    1から請求項6のいずれか1項に記載の迅速ロック手
    段。
  8. 【請求項8】 支持体の他方の側に2つの金属の陰極端
    子保持ブロック(19)が設けられていることを特徴とする
    請求項1から請求項7のいずれか1項に記載の発生器。
  9. 【請求項9】 陰極が放出面に関して限定された周辺領
    域に取付可能であって、好ましくはほぼ平行な2つの保
    持端子が設けられており、保持端子は陰極放出面に関し
    て同一の側に突出しており、 陰極がこの2つの端子に機械的に保持されており、それ
    によって温度により自由に膨張できることを特徴とする
    請求項1から請求項8のいずれか1項に記載の発生器。
  10. 【請求項10】 陰極保持ブロックにそれぞれいずれか
    の陰極端子(32)を固定する固定装置(20,28) が設けられ
    ていることを特徴とする請求項9に記載の発生器。
  11. 【請求項11】 陰極端子が異なるように形成され、固
    定装置も同様に異なるように形成され、それぞれ一方の
    陰極端子が一方の固定装置のみに装着可能であって、陰
    極の誤りのない装着が保証されることを特徴とする請求
    項10に記載の発生器。
  12. 【請求項12】 固定装置の少なくとも一方にストッパ
    装置(22)が設けられており、放出陰極を所定の位置に位
    置決めできることを特徴とする請求項10に記載の発生
    器。
  13. 【請求項13】 支持体の他の部材側がカラー状(18)に
    突出するように覆われており、好ましくは両者間の洩れ
    電流路を延長する好ましくは一周する溝が形成されてい
    ることを特徴とする請求項10に記載の発生器。
  14. 【請求項14】 陰極保持ブロックが支持体(1) からカ
    ラー状に突出し、互いに接触しないような相補形状に形
    成されており、支持体の他方側の方向から見て支持体
    (1) が陰極保持ブロック(19)によって完全に遮閉されて
    いることを特徴とする請求項8から請求項13のいずれ
    か1項に記載の発生器。
  15. 【請求項15】 発生器に設けられ、陰極(26)の放出面
    (34)から陰極ヒーター電流を供給する電流供給線(51)
    が、放出面によって定義される空間面、好ましくは平坦
    な面をできるだけ大きな距離(A) をもって横切ることを
    特徴とする請求項1から請求項14のいずれか1項に記
    載の発生器。
  16. 【請求項16】 支持体(1) がほぼ方形の物体内に張架
    されており、 陰極(26)の放出面(34)がほぼ四辺形の一角に設けられて
    おり、 陰極にヒーター電流を供給する電流供給線(51)が方形の
    前記一角を形成しない側面に配置されていることを特徴
    とする請求項1から請求項15のいずれか1項に記載の
    発生器。
  17. 【請求項17】 放出電極の上方に少なくとも1つの電
    子光学制御電極(61)が設けられ、この制御電極が好まし
    くは螺合されていることを特徴とする請求項1から請求
    項16のいずれか1項に記載の発生器。
  18. 【請求項18】 制御電極が、陰極側の少なくとも1つ
    第1の層と、磁気的に良好に導通し陰極面と反対側で好
    ましくは第1の層から少なくとも部分的に離れた第2の
    層とを有するサンドイッチ状に形成されていることを特
    徴とする請求項17に記載の発生器。
  19. 【請求項19】 接触体(7) に金属の結合体(63)を介し
    て取り付けられた陽極(65)が陰極放出面(34)の上方に設
    けられていることを特徴とする請求項3から請求項18
    のいずれか1項に記載の発生器。
  20. 【請求項20】 陰極放出面(34)を有する領域が、陰極
    にヒーター電流を供給するヒーター電流供給線からシー
    ルド(53)によって分離されていることを特徴とする請求
    項1から請求項19のいずれか1項に記載の発生器。
  21. 【請求項21】 支持体(1) が接触体(7) と、及び/あ
    るいは支持体(1) が陰極保持ブロック(19)と、及び/あ
    るいは支持体(1) あるいは一方の陰極保持ブロック(19)
    が制御電極(61)と、及び/あるいは陰極保持ブロック(1
    9)が電子放出陰極(26)と、所定の位置においてのみ相補
    形状で取付可能であって、好ましくはねじ結合によって
    取付可能であることを特徴とする請求項1から請求項2
    0のいずれか1項に記載の発生器。
  22. 【請求項22】 請求項1から請求項21のいずれか1
    項に記載の発生器を有する電子ビーム蒸発装置。
  23. 【請求項23】 電子ビーム蒸発器と請求項1から請求
    項21のいずれか1項に記載の発生器とを有する真空処
    理装置。
  24. 【請求項24】 部材が支持体(1) にねじ結合によっ
    て、好ましくはねじ結合だけによって固定されており、
    支持体にはそのためのねじが設けられていないことを特
    徴とする請求項1から請求項21のいずれか1項に記載
    の発生器。
  25. 【請求項25】 放出面とそれから離れた加熱装置とを
    有する間接的に加熱される電子放出装置において、 加熱装置が、ジュール効果によって加熱されるヒーター
    電流導体であって、 放出面がヒーター電流導体とユニットとして結合されて
    いることを特徴とする電子放出装置。
  26. 【請求項26】 放出面が鉢状部分の端面であって、そ
    の中にヒーター電流導体が配置されていることを特徴と
    する請求項25に記載の装置。
  27. 【請求項27】 端面が、鉢状部分の壁にねじ止めされ
    るなどして交換可能であることを特徴とする請求項26
    に記載の装置。
  28. 【請求項28】 ヒーター電流導体の端子が電気的に放
    出面と接続されていることを特徴とする請求項25から
    請求項27のいずれか1項に記載の装置。
  29. 【請求項29】 ヒーター電流導体と放出面との間に熱
    伝導媒体としてガスが封入されていることを特徴とする
    請求項25から請求項28のいずれか1項に記載の装
    置。
JP107491A 1990-01-10 1991-01-09 電子ビーム発生器及び放出陰極 Pending JPH0745226A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE4000573A DE4000573A1 (de) 1990-01-10 1990-01-10 Elektronenstrahlerzeuger und emissionskathode
DE40005739 1990-01-10

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0745226A true JPH0745226A (ja) 1995-02-14

Family

ID=6397851

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP107491A Pending JPH0745226A (ja) 1990-01-10 1991-01-09 電子ビーム発生器及び放出陰極

Country Status (3)

Country Link
US (1) US5159234A (ja)
JP (1) JPH0745226A (ja)
DE (1) DE4000573A1 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7220999B2 (en) 2003-04-01 2007-05-22 Seiko Epson Corporation Electro-optical device, electronic instrument having the same, and manufacturing method of the same
JP2017516279A (ja) * 2014-03-21 2017-06-15 テトラ ラバル ホールディングス アンド ファイナンス エス エイ 電子ビーム発生器及び電子ビーム殺菌デバイス

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10483077B2 (en) 2003-04-25 2019-11-19 Rapiscan Systems, Inc. X-ray sources having reduced electron scattering
US8243876B2 (en) 2003-04-25 2012-08-14 Rapiscan Systems, Inc. X-ray scanners
US8094784B2 (en) 2003-04-25 2012-01-10 Rapiscan Systems, Inc. X-ray sources
GB0525593D0 (en) 2005-12-16 2006-01-25 Cxr Ltd X-ray tomography inspection systems
US9208988B2 (en) 2005-10-25 2015-12-08 Rapiscan Systems, Inc. Graphite backscattered electron shield for use in an X-ray tube
GB0812864D0 (en) 2008-07-15 2008-08-20 Cxr Ltd Coolign anode
US9046465B2 (en) 2011-02-24 2015-06-02 Rapiscan Systems, Inc. Optimization of the source firing pattern for X-ray scanning systems
GB0816823D0 (en) 2008-09-13 2008-10-22 Cxr Ltd X-ray tubes
GB0901338D0 (en) * 2009-01-28 2009-03-11 Cxr Ltd X-Ray tube electron sources
US10585206B2 (en) 2017-09-06 2020-03-10 Rapiscan Systems, Inc. Method and system for a multi-view scanner
US11212902B2 (en) 2020-02-25 2021-12-28 Rapiscan Systems, Inc. Multiplexed drive systems and methods for a multi-emitter X-ray source

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1145953A (en) * 1966-03-15 1969-03-19 Gen Electric Improvements in or relating to an electron gun assembly
DE2302938C3 (de) * 1973-01-22 1979-07-12 Polymer-Physik Gmbh & Co Kg, 2844 Lemfoerde Mehrstufiger Beschleuniger für geladene Teilchen mit Hochvakuumisolation
GB1454196A (en) * 1974-07-04 1976-10-27 Sokolov B G Electron beam apparatus
JPS57147860A (en) * 1981-03-06 1982-09-11 Hamamatsu Tv Kk Cathode for gas discharge tube

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7220999B2 (en) 2003-04-01 2007-05-22 Seiko Epson Corporation Electro-optical device, electronic instrument having the same, and manufacturing method of the same
JP2017516279A (ja) * 2014-03-21 2017-06-15 テトラ ラバル ホールディングス アンド ファイナンス エス エイ 電子ビーム発生器及び電子ビーム殺菌デバイス

Also Published As

Publication number Publication date
US5159234A (en) 1992-10-27
DE4000573A1 (de) 1991-07-11
DE4000573C2 (ja) 1992-12-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR890004172B1 (ko) 진공 스퍼터링장치
JP4384359B2 (ja) 半導体ウェーハ処理システムにおいてrf戻り電流経路制御を行う装置
JPH0745226A (ja) 電子ビーム発生器及び放出陰極
EP0851453B1 (en) Endcap for indirectly heated cathode of ion source
KR100944291B1 (ko) 간접 가열식 음극 이온 소스
US3710072A (en) Vapor source assembly
US4657654A (en) Targets for magnetron sputter device having separate confining magnetic fields to separate targets subject to separate discharges
KR100210255B1 (ko) 이온원 장치
JPH0359138B2 (ja)
KR890004171B1 (ko) 진공 스퍼터링 장치
JP5015869B2 (ja) モジュラガスイオン源
US9153406B2 (en) Supporting structure and ion generator using the same
US4876984A (en) Apparatus for forming a thin film
US9640361B2 (en) Emitter structure, gas ion source and focused ion beam system
JPS6213570A (ja) 陰極スパツタ用タ−ゲツト板
US5855683A (en) Thin film deposition apparatus
WO2005121391A1 (ja) ニュートラライザ
JP2540492B2 (ja) イオン源用ア−クチヤンバ−装置
JP2002302766A (ja) 高周波マグネトロンスパッタリング装置
JP2000208091A (ja) イオン注入装置
JPS63230872A (ja) タ−ゲツト及び磁気的に強められたr.f.バイアスを分離する分離制限磁場を有するマグネトロン・スパツタ装置
JPH10289664A (ja) イオン打ち込み装置
US20060137978A1 (en) Arc evaporation device
JP3030420B2 (ja) イオンプレーティング装置
JPH08222166A (ja) イオン源