WO2005121391A1

WO2005121391A1 - ニュートラライザ

Info

Publication number: WO2005121391A1
Application number: PCT/JP2005/000850
Authority: WO
Inventors: Hiroyuki Komuro; Masayuki Takimoto; Yutaka Fuse; Tatsumi Abe; Kazuhito Aonahata
Original assignee: Showa Shinku Co., Ltd.
Priority date: 2004-06-10
Filing date: 2005-01-24
Publication date: 2005-12-22
Also published as: CN1946870B; JP2005350721A; CN1946870A; JP4002958B2

Abstract

　電極が熱膨張しても歪みや破損のないニュートラライザを低コストかつ高メンテナンス性な構成にて提供する。　フィラメント、フィラメントに電流を流す一対の電極、及び、一対の電極を絶縁状態で支持するベースを有するニュートラライザであって、一対の電極とベースとを相対位置が少なくとも一方向に変動可能な状態で保持する保持手段を有する構成とした。

Description

明細書

ニュートラライサ

技術分野

[0001] 本発明は、電圧を印加したフィラメントから熱電子を放出する機構であるニュートラライザに関するものである。

背景技術

[0002] 真空蒸着法等において、真空槽内部へ導入したガスを電離させ、発生した陽ィォンによって蒸着分子を基板へ押し付けることにより密着力が強く緻密な薄膜を形成する手法を一般的に Ion Assist Deposition (以下 IADと称す。）と呼ぶ。

[0003] 図 6は IAD法を用いた光学薄膜用真空蒸着装置の概略図であり、以下同図に示す装置における薄膜形成の概要を説明する。

真空槽 30本体には真空排気のためにメインポンプ 32、メインバルブ 34、粗引ポンプ 33、粗引バルブ 35や補助バルブ 36などで構成される排気系が取付けられる。真空槽本体 30内部には基板 41、基板 41を搭載する基板ドーム 42、基板 41を加熱するための基板加熱用ヒーター 43、蒸着材料 39、蒸着材料 39を入れる坩堝 38、蒸着材料 39を蒸発温度まで加熱する電子銃 40、蒸着完了時に閉じ蒸着材料 39を遮蔽するシャッター 37、アシストのためのイオンを照射するイオン源 31、基板ドーム 42に対して電子を放出するニュートラライザ 46などが配置され、真空槽外部には、基板ドーム回転機構 44、図示しなレ、各種電源等が配置される。

[0004] IADは通常、プラスの電荷を持つ陽イオンによって蒸着分子をアシストするため、基板もしくは基板を搭載する基板ドームに陽イオンが溜まり、基板ドーム全体がプラスの電荷を帯びてしまう。この現象をチャージアップと呼ぶ。

チャージアップが発生すると基板ドームとアース電位である他の構成部品との間で絶縁破壊を起こしアーク放電が発生してしまう。また、基板ドーム全体がプラスの電荷を持ってしまう事により陽イオンが基板ドームへ向かっていかずアシストの効果が弱まるといった不具合も発生する。

[0005] 図 7にチャージアップ前、図 8にチャージアップ時の基板ドーム 42の様子を説明する模式図を示す。

図 7に示すように基板ドーム 42がチャージアップしていない状態であれば、蒸着分子 50が陽イオン 51によってアシストされ基板ドーム 42に向かって飛び込んでいき、緻密な薄膜を形成することが可能となる。しかし、図 8に示すように基板ドーム 42がチヤージアップしている状態であると、基板ドーム 42と陽イオン 51間の電位差が減少し、アシストの効果が弱まってしまう。また、基板ドーム 42と他の構成部品 53間でアーク放電 52が発生してしまう。

[0006] ニュートラライザ 46は、基板ドーム 42のチャージアップを防止するために、マイナスの電荷を持つ電子を基板ドーム 42に向かって放出し、基板ドーム 42上において電気的中和を行なう機構であり、例えば光学素子の成膜装置に関する特許文献 1等に開示される。

[0007] ニュートラライザ機構は電子を放出させる機構であるため、加速された電子を真空槽内部に導入したガスに衝突させて電離を促しプラズマを発生させる引き金としての役割も担っている。

[0008] 図 9に、従来のニュートラライザ 46の概略断面図を示す。

同図に示すニュートラライザは、熱電子を放出するフィラメント 60、フィラメント 60に加速電圧を印加してフィラメント電流を流す電極 61、電極 61に対してフィラメント 60 を固定するフィラメント押え 62、電極 61とフィラメント押え 62とを締結するビス 63、電極 61を取付けるベース 64、電極 61間を絶縁する電極間碍子 65、電極 61とベース 6 4間を絶縁するベース碍子 66、電極 61及びフィラメント 60をカバーするキャップ 67、キャップ 67をカバーしフィラメント 60から放出する熱電子を引出すアノードキャップ 6 8を有する。

[0009] その構成は、真空槽外部電源からの配線を電極 61に接続し、電極 61に固定されるフィラメント 60へカ卩速電圧を印加してフィラメントに電流を流し、フィラメント 60より熱電子を放出するものである。アノードキャップ 68及びベース 64は接地され、フィラメント 60より放出された電子は、アース電位であるアノードキャップ 68に引出され基板ドーム 42に向かって照射される。アノードキャップ 68にはもちろん正の電位を与えてもよい。 [0010] キャップ 67と電極 61、アノードキャップ 68とベース 64には、お互い細目のネジが切られており、ねじ込む構造となっている。その他構成部品についてはビス留めによつて固定されている。

[0011] 図 6に示す装置により蒸着を行なう場合は、まず基板ドーム 42に蒸着を行なう基板

41を設置する。そして蒸着材料 39を坩堝 38に入れる。そして粗引ポンプ 33及び粗引きバルブ 35を用い真空槽内を数 Pa程度の圧力まで真空引きした後メインポンプ 3 2やメインバルブ 34及び補助バルブ 36などを用レ、、高真空まで真空排気を行なう。真空槽内が真空状態となつてから、基板ドーム回転機構 44により基板ドーム 42を回転させながら基板用ヒーター 43用いて基板 41を加熱する。真空度及び基板温度が目標値に到達したら電子銃 40から電子ビームを蒸着材料 39へ照射し、蒸着材料 39 を蒸発温度まで昇温させる。また、イオン源 (イオン銃） 31を用いてイオンを照射する。イオン化手段はイオン源に限られるものではなぐ例えば、基板ドームに高周波電圧（以下、 RFと称す。）を印カロ、もしくはアンテナを導入してこれに RFを印加することにより真空槽内部にプラズマを発生させてイオンィ匕する等適宜選択すればよい。シャッター 37を開くと蒸着材料 39は真空槽内を飛散し、イオンにアシストされて基板 42 上に堆積することで緻密な薄膜を形成する。このとき同時にニュートラライザ 46からは基板に向けて電子を放出する。膜厚が目標値に到達したらシャッター 37を閉じ、電子銃 40やニュートラライザ 46、基板加熱用ヒーター 43、及びイオン源 31などを停止させ、冷却後真空槽内に大気を導入した後薄膜が形成された基板を取り出す。特許文献 1 :特開 2004 - 131783号公報

発明の開示

発明が解決しょうとする課題

[0012] ニュートラライザは、抵抗加熱により発熱したフィラメントから熱電子を放出する機構であるため、フィラメント及び電極は通電時に高温度まで上昇してしまう。

従来型ニュートラライザ機構は、絶縁を目的として電極が碍子上にビス留めにて固定されている力電極と碍子との熱膨張率の違いから通電時に電極が碍子に比して大きく膨張し、碍子が歪んでしまうという問題や、破損してしまうという問題が発生していた。例えば、電極材料にステンレス鋼 SUS304を、碍子材料にアルミナ製絶縁碍子を用いた場合、ステンレス鋼 SUS304の線膨張係数は約 17.3E-6であり、アルミナ製絶縁碍子の線膨張係数は約 7.0E-6であるため、フィラメントに電流を流し、ユニット内の温度が数百。 Cに上昇すると線膨張係数の差によりステンレス鋼が碍子よりも格段に熱膨張する。このとき、電極間碍子は電極に挟まれビスで確実に固定されているため、熱膨張時に歪みや破損が生じてしまう。また、ベース碍子もベース内部へビスによって固定されているため、熱膨張時同様に歪みや破損が生じてしまう。

[0013] また、従来型ニュートラライザ機構は、アノードキャップ及びキャップを外し、フィラメント取付けビスを緩めてフィラメントの交換を行なう力アノードキャップ及びキャップは細目のネジによってネジ込む構造となっているため、ニュートラライザ使用後本体に余熱が残っている場合、この細目ネジにかじり等が発生してしまうという問題があつた。カロえて、フィラメント取付けビスを均等に締め付けないと、フィラメント通電時加熱の影響でフィラメント押えの破損、フィラメント取付けボルトのかじり、緩み等が発生する可能性もあり、フィラメント交換時の作業性に個人差が生じてしまうという問題もあつた。

[0014] 更に、従来型のニュートラライザ機構でフィラメントを 2つ使用する必要の有る場合、図 9に示すニュートラライザ機構全体を 2式搭載する必要があり、その結果部品点数力 ¾倍に増えてしまレ、、真空槽内部における占有面積の拡大及びコストアップという問題も発生していた。

課題を解決するための手段

[0015] 本発明は、電極が熱膨張しても歪みや破損のないニュートラライザを、低コストかつ高メンテナンス性な構成にて提供することを目的とするものである。

[0016] 本発明の第 1の側面は、フィラメント、フィラメントに電流を流す一対の電極、及び、一対の電極を絶縁状態で支持するベースを有するニュートラライザであって、一対の電極とベースとを相対位置が少なくとも一方向に変動可能な状態で保持する保持手段を有するニュートラライザである。ここで、一方向を一対の電極の電極間距離方向と垂直をなす方向とした。さらに、保持手段が固定手段及び位置決め手段からなり、固定手段は一対の電極をベースに各電極につき少なくとも 1箇所固定し、位置決め手段は一対の電極を各電極につき少なくとも 1箇所でベースに対して位置決めし、一対の電極とベースとの相対位置が少なくとも一方向に変動可能となるように構成したものである。また、固定手段はボルト又はビス等からなる第 1の揷通固定具からなり、位置決め手段は一対の電極に設けられた一対の第 1の孔、ベースに設けられた一対の第 2の孔及び少なくとも第 1の孔を貫通する第 2の揷通固定具からなり、第 1又は第 2の孔の形状と第 2の揷通固定具の外周側面形状とが異なる形状を有し、第 1又は第 2の孔の面積が第 2の揷通固定具のベース面で切られる断面積よりも大きくなるようにした。またさらに、第 1又は第 2の孔が、一対の電極の電極間距離方向と垂直をなす方向に長半径を有する略楕円形状又は該方向に伸長した長円形状であるようにした。そして、ベースは少なくとも電極との固定個所が碍子からなるようにした。

[0017] 本発明第 2の側面は、上記第 1の側面のニュートラライザにおいて、さらに、フィラメントを電極に固定するためのフィラメント押えを有し、各電極の一対の電極間距離方向の断面が上方に開口する形状の欠けを有し、フィラメント押えが該欠けに嵌合する形状を有し、フィラメント押えが電極に第 3の挿通固定具で固定され、該嵌合部でフィラメントの端部が支持されるようにしたものである。さらに、欠けの形状が略台形となるようにした。また、第 3の挿通固定具をボルトとした。

[0018] 本発明第 3の側面は、上記第 1又は第 2の側面のニュートラライザにおいて、電極に複数のフィラメントが固定されるようにしたものである。

[0019] 本発明第 4の側面は、上記第 1から第 3いずれかの側面のニュートラライザにおいて、フィラメントから放出する電子を引出すアノードプレート、並びに、フィラメント及び電極の側面を覆う側板を有し、アノードプレートが側板の上面に第 4の揷通固定具で固定される構成としたものである。さらに、第 4の揷通固定具をボルトとした。

[0020] 本発明第 5の側面は、上記第 1から第 4いずれかの側面のニュートラライザにおいて、使用される揷通固定具は全て同一方向に揷通される構成としたものである。

[0021] 本発明第 6の側面は、フィラメント、電圧を印加してフィラメントに電流を流す一対の電極、及び、一対の電極を絶縁状態で支持する電極と熱膨張率の異なるベースを有するニュートラライザにおいて一対の電極をベースに固定する方法であって、一対の電極とベースとを相対位置を少なくとも一方向に変動可能な状態で固定する方法である。さらに、該ー方向を、該一対の電極の電極間距離方向と垂直をなす方向とした

[0022] 本発明第 7の側面は、使用される揷通固定具の全てを一方向のみに挿通して上記第 1から第 5の側面いずれかのニュートラライザを組立又は分解する方法である。発明の効果

[0023] 本発明ニュートラライザにより、部品点数を削減しながらも、熱膨張により生じる歪みあるいは破損を防止する設計を提案するため、長寿命化、コストの削減に貢献する。また、メンテナンス性の向上、作業者による組立'調整の個人差防止にも効果を奏する。

図面の簡単な説明

[0024] [図 1]本発明のニュートラライザ機構の外観図

[図 2]本発明のニュートラライザ機構内部の概略図

[図 3]位置決めピン詳細図

[図 4]フィラメント取付け概略図

[図 5]本発明他の実施例の概略図

[図 6]光学薄膜用真空蒸着装置の概略図

[図 7]基板ドームチャージアップの説明図 1

[図 8]基板ドームチャージアップの説明図 2

[図 9]従来型ニュートラライザの概略断面図

符号の説明

[0025] 1 フィラメント

2 電極

3 フィラメント押え

4 ビス

5 ニュートラライザベース

6 アノードサポート

7 ベース碍子

8 位置決めピン皿ビス

圧着端子

アノードプレートニュートラライザケースビス

ベース碍子位置決めピンビス

真空槽本体イオン源

メインポンプ粗引きポンプメインバルブ粗引きバルブ補助バルブシャッター

坩堝

蒸着材料

電子銃

基板

基板ドーム

基板加熱用ヒーター基板ドーム回転機構蒸着分子

陽イオン

アーク放電

他の構成部品孔発明を実施するための最良の形態

[0026] 図 1に本発明実施例の外観図を、図 2に内部概略図を示す。以下、本発明に係るニュートラライザは、図 6に示される装置と同様の真空装置に搭載されるものとし、その動作は従来と同様であるため説明を省略するが、本発明を実施可能な装置はこれに限られるものではない。

[0027] 図 1及び図 2に示すニュートラライザは、フィラメント 1、加速電圧を印加してフィラメント 1に電流を流す電極 2、電極 2に真空槽外部電源からの配線を接続する圧着端子 10、電極 2に対してフィラメント 1を固定するフィラメント押え 3、電極 2とフィラメント押え 3とを締結するビス 4、電極 2を取付けるベース碍子 7、電極 2及びフィラメント 1をカバーするニュートラライザケース 12、フィラメント 1から放出する熱電子を引出すァノードプレート 11、を有する。

[0028] アノードプレート 11は取付けビス 13によってアノードサポート 6に固定されている。

ニュートラライザケース 12はニュートラライザベース 5上に配され、アノードプレート 11 との間に挟まれ、脱落しない構造となっている。実施例では加工性及びコストを考慮し、アノードプレート 11とニュートラライザケース 12とアノードサポート 6とを全て別体でボルト留めする構造としたが、全てを一体にし箱形状とする事も可能である。

[0029] 実施例は、細目ネジによってネジ込むキャップ形状のアノード 68を使用せず、プレート状のアノードをビス留めする構造を採用したため、加熱によるかじり等を極力抑えた構造となっている。また、キャップ 67とアノードキャップ 68により二重にカバーしてレ、た従来の構造を一重のカバーに変更したため、構成の簡略化及びメンテナンス性の向上にも貢献する。

[0030] 電極 2は、ニュートラライザベース 5上にビスで固定されたベース碍子 7の上に、位置決めピン 8及び皿ビス 9によって、ニュートラライザベース 5とは絶縁された状態で固定される。実施例ではベース碍子 7を絶縁碍子により構成するが、少なくとも電極 2 との接触面のみが絶縁材により構成されるベースを用いればよい。

[0031] 図 3に位置決めピン 8の詳細図を示す。電極 2に設けられた位置決めピン 8用の孔 80は、電極間距離方向と垂直をなす方向に長半径を持つ略楕円形状とし、略楕円の短半径はピン 8の径よりもほんのわずか大きいものとする。なお、この略楕円形状とは、一方向に円を伸長させた長円形も含む概念である。これにより、図 3に示す矢印 C方向、図 2に示す矢印 B方向が保たれ、電極間距離を確実に保つ構造となっている。よって、図 9に示す従来型の様な電極間碍子 65を必要としない構造となるため、電極間碍子破損の可能性を皆無とした。

[0032] 位置決めピン 8用の孔 80の形状により、電極 2は図 2に示す A方向にのみ熱膨張可能となる。従来の様に電極を両端ビスで固定するのでなぐ片側を位置決めピン 8によって固定しているため、通電によりフィラメント 1が加熱されても電極 2の熱膨張が可能となり、ベース碍子 7に無理な力がかからずベース碍子 7が破損する可能性を著しく低減することが可能となる。

[0033] 同図では、孔 80を略楕円又は長円形とした力孔 80の形状は電極 2の電極間距離方向と垂直をなす方向（長手方向）に位置決めピン 8の可動の自由度があり、電極間距離方向に可動範囲が制限される形状であれば他の形状であってもよい。さらに、本実施例では位置決めピン 8の断面が円形のものを想定した力 S、位置を決めることができれば断片が円形でなくてもよぐ例えば多角形等、他の断面形状のものであつてもよレ、。また、これに従って孔 80の形状も位置決めピン 8の断面形状に対応したものとしてもよレ、。

[0034] また、上記のような形状の孔を電極 2ではなくベース碍子 7に設けても、電極 2とべース碍子 7の双方に設けてもよい。孔をベース碍子 7のみに設けた場合、位置決めピン 8はベース碍子 7を貫通してもよいし、ベース碍子 7中に位置決めピン 8の終端が位置するようにしてもよレ、。位置決めピン 8がベース碍子 7を貫通する場合は、位置決めピン 8に絶縁処理を施し、ニュートラライザベース 5と位置決めピン 8とを絶縁する必要力 Sある。また、電極 2とベース碍子 7双方に孔を設けた場合、位置決めピン 8はニュートラライザベース 5に固定されることになるので、上記と同様に位置決めピン 8を絶縁する必要がある。また、電極 2とベース碍子 7とを全ての箇所で位置決めピン 8により固定してもよいが、この場合電極 2の位置がベース碍子 7に対して自由に可動してしまうため、実施例では一端を皿ボルト 9により正確に位置出しする方法を採用している。

[0035] 実施例で、破損する可能性のある碍子の数を減らし 1つのみとし、電極と碍子とをビスで固定するのではなぐ片側をピンにより位置決めする構造を採用したことにより、電極が熱膨張しても碍子に無理な力力 Sかからず歪みや破損を防ぐことが可能となつた。

[0036] 図 4を参照にフィラメントの取付けを説明する。

フィラメント 1は、フィラメント押え 3及びフィラメント取付け用ビス 4によって電極 2に固定され、フィラメント 1には真空槽外部の電源力も圧着端子 10及び電極 2を介して電圧が印加され電流が流れる。フィラメント押え 3は断面が略台形状のブロックにより構成され、ビス 4により図 4に示す矢印 D方向に締め付ける事によって電極 2に固定される。略台形状のブロックにより、フィラメント 1には図 4に示す矢印 E方向に力が働き、確実にフィラメント 1を固定する事が可能となる。また、フィラメント押え 3の断面を略台形状ブロックとする事により複数のフィラメントを同時にかつ確実に固定することが可能となる。

なお、実施例においてはフィラメント押え 3の断面形状を上方に開口した台形とした力下方への押圧によってフィラメント押え 3の側面に圧力力 Sかかる構成であれば、例えば上方に開口した多角形等、他の断面形状で構成することも可能である。

[0037] 実施例で、一つのユニット内に複数のフィラメントを取付ける構造を採用したことにより、従来のようにユニットを追加することなくフィラメントを追加することが可能となり、部品点数の大幅な削減が可能となった。一つのユニット内へのフィラメントの装着数は適宜選択すればよぐもちろん一つのユニットに一つのフィラメントを装着してもよレ、。この場合は、実施例と同機構で寸法を小さくすればよい。また、フィラメントは形状を問わず使用可能であるため所望の形状を適宜選択すればよい。

[0038] 実施例でフィラメント押え 3の形状を略台形状のブロックとし、上面からのビス留めによりフィラメント 1を確実に固定できる構造を採用したことにより、フィラメント取付け位置及び高さの個人差軽減を図った。

[0039] また、フィラメント押え 3を上面からビス留めする構造としたこと、プレート状のァノード 11を上面からビス留めする構造としたことにより、取付け部品のビス留め方向を統一することが可能となった。実施例では、フィラメント交換時及びメンテナンス時に着脱する部品を全て上面からビス留めする構造を採用したため、作業性及びメンテナンス性を著しく向上させることが可能となった。

[0040] 本発明の他の実施例を図 5に示す。

図 2に示す実施例では、電極の熱膨張時可動範囲を得るため、電極 2に長穴を設け、碍子 7に位置決めピン 8を取付ける構造としているが、図 5に示すニュートラライザは、ベース碍子 20を分割し、分割した一方の碍子をニュートラライザベース 5上にビス留めし、他方の碍子に長穴加工を施して位置決めピン 21によって固定したことを特徴とする。電極は分割された碍子 20上にボルト 22で固定すれば、図 2に示す実施例と同様に熱膨張時の可動範囲を設けることが可能となる。

[0041] なお、上記では IAD法に用いられるニュートラライザについて説明した力本発明は、フィラメントから熱電子を放出する機構であれば上記実施例に限らず実施可能である。

Claims

請求の範囲

[1] フィラメント、該フィラメントに電流を流す一対の電極、及び、該一対の電極を絶縁状態で支持するベースを有するニュートラライザであって、

該一対の電極と該ベースとを相対位置が少なくとも一方向に変動可能な状態で保持する保持手段を有することを特徴とするニュートラライザ。

[2] 請求項 1記載のニュートラライザであって、

前記一方向は該一対の電極の電極間距離方向と垂直をなす方向であることを特徴とするニュートラライザ。

[3] 請求項 1又は請求項 2記載のニュートラライザであって、

前記保持手段が固定手段及び位置決め手段からなり、

該固定手段は該一対の電極を該ベースに各該電極につき少なくとも 1箇所固定し該位置決め手段は該一対の電極を各該電極につき少なくとも 1箇所で該ベースに対して位置決めし、該一対の電極と該ベースとの相対位置が少なくとも一方向に変動可能となるように構成されたことを特徴とするニュートラライザ。

[4] 請求項 3記載のニュートラライザであって、

前記固定手段は第 1の揷通固定具からなり、

前記位置決め手段は該一対の電極に設けられた一対の第 1の孔、該ベースに設けられた一対の第 2の孔及び少なくとも該第 1の孔を貫通する第 2の揷通固定具からなり、

該第 1又は第 2の孔の形状と該第 2の揷通固定具の外周側面形状とが異なる形状を有し、該第 1又は第 2の孔の面積が該第 2の揷通固定具の該ベース面で切られる断面積よりも大きレ、ことを特徴とするニュートラライザ。

[5] 請求項 4記載のニュートラライザであって、

該第 1又は第 2の孔が、該一対の電極の電極間距離方向と垂直をなす方向に長半径を有する略楕円形状又は該方向に伸長した長円形状であることを特徴とするニュ一トラライサ。

[6] 請求項 4又は請求項 5記載のニュートラライザであって、該第 1の揷通固定具はボルト又はビスであることを特徴とするニュートラライザ。

[7] 請求項 1から請求項 6いずれか一項に記載のニュートラライザであって、

該ベースは少なくとも該電極との固定個所が碍子からなることを特徴とする二ユートラライザ。

[8] 請求項 1から請求項 7いずれか一項に記載のニュートラライザであって、

さらに、該フィラメントを該電極に固定するためのフィラメント押えを有し、

各該電極の該一対の電極間距離方向の断面が上方に開口する形状の欠けを有し該フィラメント押えが該欠けに嵌合する形状を有し、

該フィラメント押えが該電極に第 3の揷通固定具で固定され、

該嵌合部で該フィラメントの端部が支持されることを特徴とするニュートラライザ。

[9] 請求項 8記載のニュートラライザであって、該欠けの形状が略台形であることを特徴とするニュートラライザ。

[10] 請求項 9記載のニュートラライザであって、

該第 3の揷通固定具がボルトであることを特徴とするニュートラライザ。

[11] 請求項 1から請求項 10記載いずれか一項に記載のニュートラライザであって、該電極に複数のフィラメントが固定されたことを特徴とするニュートラライザ。

[12] 請求項 1から請求項 11いずれか一項に記載のニュートラライザであって、

該フィラメントから放出する電子を引出すアノードプレート、並びに、該フィラメント及び該電極の側面を覆う側板を有し、

該アノードプレートが該側板の上面に第 4の挿通固定具で固定されたことを特徴とするニュートラライザ。

[13] 請求項 12記載のニュートラライザであって、

該第 4の揷通固定具がボルトであることを特徴とするニュートラライザ。

[14] 請求項 4から請求項 13いずれか一項に記載のニュートラライザであって、

前記揷通固定具は全て同一方向に揷通されることを特徴とするニュートラライザ。

[15] フィラメント、電圧を印加して該フィラメントに電流を流す一対の電極、及び、該一対の電極を絶縁状態で支持する該電極と熱膨張率の異なるベースを有するニュートラライザにおいて、該一対の電極を該ベースに固定する方法であって、該一対の電極と該ベースとを相対位置を少なくとも一方向に変動可能な状態で固定することを特徴とする方法。

[16] 請求項 15記載の方法であって、

前記一方向は該一対の電極の電極間距離方向と垂直をなす方向であることを特徴とする方法。

[17] 前記揷通固定具の全てを一方向のみに揷通することを特徴とする請求項 4から請求項 14レ、ずれ力、一項に記載のニュートラライザの組立又は分解方法。