JPS62103842A - 磁気記録用強磁性薄膜及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、磁気記録用強磁性薄膜、殊に、フロッピーデ
ィスク、リジッドディスク等の高記録密度用磁気記録媒
体として好適である、基板上に、Ｆｅ、　Ｃｏ合金を主
成分と子る厚さ１５〜１００　人の金属薄層とＦｅ、　
Ｃｏを主成分とする厚さ１５〜１００　人のスピネル型
酸化物薄層とが、交互に積層された多層膜であって、少
なくとも５回以上の繰り返しによる周期構造を有する人
工格子薄膜が形成されている磁気記録用強磁性薄膜及び
その製造方法に係るものである。

本発明において、「人工格子薄膜」とは、異なる二種類
の蒸着物質の薄層が交互に積層されており、各薄層はそ
れぞれ蒸着物質そのものの結晶構造を有しているが、一
方、異なる二種類の蒸着物質のそれぞれ一層当たりの厚
さの和をもって一周期とする周期構造が基板面に垂直な
方向に一次元的に形成されている多層膜をいう。

尚、人工的周期性は、その周期に対応して得られるＸ線
あるいは中性子線によってＢｒａｇｇ反射として、観測
することができる。

〔従来の技術〕

近年、情報機器、システムの小型化と高信頼性の傾向が
顕著であり、再生出力や感度等の優れた高密度磁気記録
媒体として、大きな残留磁束密度Ｂｒ及び大きな飽和磁
束密度Ｂｍを存する強磁性金属薄膜が注目を浴びている
。

この事実は、例えば、日本応用磁気学会第３９回研究会
資料（１９８５年）第２１頁の［金属薄膜型媒体は、面
内、垂直の記録方式にかかわらず木質的な高密度化が可
能であり、記録音度や画質の点でメタルテープより有利
である。」なる記載、同資料第２２頁の［強磁性金属（
Ｃｏ、Ｎｉ合金等）の薄膜を真空蒸着法で形成したもの
が蒸着テープであり、これは有機バインダを用いないの
でメタルテープに比べ、Ｂｒ　（残留磁束密度）が非常
に高く、・・・・・・」なる記載及び株式会社総合技術
センター発行「高密度磁気記録技術集成Ｊ　　（１９８
３年）第４５頁の「・・蒸着テープの特徴は飽和磁化お
よび残留磁化が大きく、酸化鉄テープに（らべて数倍以
上もあることである。」なる記載の通りである。

強磁性金属薄膜の製造方法には、真空蕉着、スパッタリ
ング及びメブキによる方法等が知られているが、真空蒸
着法には、膜形成速度が大きく、また、スパッタリング
による方法に比べ装置が簡単な為、広く利用されている
。

真空蒸着法による強磁性金属薄膜は、通常、真空槽中で
Ｃｏ等の強磁性金属を蒸発材料として蒸発させ、蒸発源
に対向して設置されている基板上に１０００〜３０００
人の厚さにＣｏ等の強磁性金属を蒸着させることにより
得られている。

ところで、近年、新素材の研究、開発が盛んに行われて
いるが、特に、人工格子薄膜は、一層の厚みが極めて薄
く、界面の原子層が全体積に占める割合が極めて大きく
なる為に、いわば、物質全体が界面層からなる新物質と
みなされるので、界面効果が大きくなり、バルクの性質
とは全く異なった、新しい性質を示す物質として、物性
の研究面でも、また応用面でも注目されている新素材で
ある。

〔発明が解決しようとする問題点３ 強磁性金属薄膜は、面述した通り、大きな残留磁束密度
Ｂｒと大きな飽和磁束密度Ｂｍを有する為、高密度磁気
記録媒体として好ましいものであるが、空気中における
磁気的（特に、飽和磁束密度Ｂｍ）安定性が劣る（この
不安定性の原因は、主として酸化によるので以下、単に
、酸化安定性という。

）という欠点があり、実用化に際して障害となっている
。

また、強磁性金属薄膜の一つである強磁性Ｆｅ金属薄膜
は、強磁性Ｃｏ金属薄膜、強磁性Ｎｔ金属薄膜に比べ大
きな残留磁束密度Ｂｒと飽和磁束密度Ｂｍを有するとい
う特徴を有するが、酸化安定性が悪く、しかも、保磁力
１１ｃが２０００ｅ以下と著しく低いという欠点がある
。

強磁性薄膜の保磁力を向上させる方法として、一般に斜
め蒸着という方法が知られているが、この方法による場
合には、高い保磁力を得る為には入射角を８０°近くと
する必要があり、装置が煩雑となる。

そこで、強磁性Ｆｅ金属薄膜の特徴である大きな残留磁
束密度Ｂｒと飽和磁束密度Ｂｍを保持し、且つ、酸化安
定性に優れており、しかも、高い保磁力１１ｃを有する
強磁性薄膜を得る方法が強く要望されている。

〔問題を解決する為の手段〕

本発明者は、強磁性Ｆｅ金属薄膜と同等の大きな残留磁
束密度Ｂｒと飽和磁束密度Ｂｍを有し、乱つ、酸化安定
性に優れており、しかも、高い保磁力Ｈｃを有する強磁
性薄膜を得るべく種々検討を重ねた結果、本発明に到達
したのである。

即ち、本発明は、基板上に、Ｆｅ、　Ｃｏ合金を主成分
とする厚さ１５〜１００人の金属薄層とＦｅ、　Ｃｏを
主成分とする厚さ１５〜１００人のスピネル型酸化物薄
層とが、交互に積層された少なくとも５回以上の繰り返
しによる周期構造を有する人工格子薄膜が形成されてい
る磁気記録用強磁性薄膜及び、Ｆｅ。

Ｃｏを主成分とする合金を蒸発材料とし該蒸発材料を真
空度１０−’Ｔｏｒｒ以上の真空槽内において基板に向
けて蒸発させることにより該基板上に１５〜１００人の
厚さでＦｅ、　Ｃｏ合金を主成分とする金属薄層を形成
させた後、真空槽内に酸素含有ガスを導入して１０−’
Ｔｏｒｒ以上の酸素分圧とし前記Ｆｅ、　Ｃｏ合金を主
成分とする金属薄層の表面部分を酸化することにより該
金属薄層表面層をＦｅ、　Ｇｏを主成分とするスピネル
型酸化物薄層とし、次いで、蒸発金属を蒸発させる前記
操作とＦｅ、　Ｃｏ合金を主成分とする金属薄層の表面
部分を酸化させる前記操作とを交互に繰り返して前記Ｆ
ｅ、　Ｃｏを主成分とするスピネル型酸化物薄層上にＦ
ｅ、　Ｃｏを主成分とする金属薄層とｌｉｅ、　Ｃｏを
主成分とするスピネル型酸化物薄層とを交互に積層させ
ることによって、金属薄層と酸化物薄層との少なくとも
５回以上の繰り返しによる周期構造を有する人工格子薄
膜を形成させることからなる磁気記録用強磁性薄膜の製
造方法である。

〔作　用〕

先ず、本発明において最も重要な点は、基板上に、Ｆｅ
、　Ｃｏ合金を主成分とする金属薄層とＦｅ、　Ｃｏを
主成分とするスピネル型酸化物薄層とが交互に積層され
た多層膜であって、少なくとも５回以上の繰り返しによ
る周期構造を有する人工格子薄膜が形成されていること
によって、強磁性Ｆｅ金属薄膜と同等の大きな残留磁束
密度Ｂｒと飽和磁束密度Ｂｎ＋を有し、且つ、酸化安定
性に優れており、しかも、高い保磁力Ｈｃ、殊に、５０
００ｅ以上を有する強磁性薄膜が得られる点である。

本発明者は、上記強磁性薄膜が高い保磁力１１ｃを有す
るのは、Ｆｅ、　Ｃｏを主成分とするスピネル型酸゛化
物中のＣｏイオンに起因して結晶異方性が生じたことと
、Ｆｅ、　Ｃｏ合金を主成分とする金属薄層とＦｅ。

Ｇｏを主成分とするスピネル型酸化物薄層とが交互に積
層されていることに起因して界面において表面異方性が
生じたことによって、異方性定数が増加した為であろう
と考えている。

また、強磁性Ｃｏ金属薄膜の保磁力Ｈｃは、一般に４０
０〜５０００ｅ程度であり、更に、保磁力を高める為に
前述した斜め蒸着という方法が採られているが、強磁性
Ｆｅ−Ｃｏ合金の異方性定数は、Ｃｏの添加によって減
少することが知られているから、ＦｅとＣｏとを混合す
ることによって本発明における＃ＩＭｉ性薄膜の保磁力
が向上したものとは考えられない。

本発明における強磁性薄膜が、強磁性Ｆｅ金属薄膜と同
等の大きな残留磁束密度Ｂｒと飽和磁束密度Ｂｍを有し
、且つ、酸化安定性に優れているのは、人工格子が形成
されていることによって、新しい特性が発揮されたもの
と考えられる。

尚、「日本化学会第４７回春季大会（１９８３年）講演
予稿集■第５８２頁」には、金属薄層と酸化物薄層との
多層膜であって、人工格子薄膜が形成されている強磁性
薄膜とその製造方法について報告されているが、この公
知方法は酸化物薄層を反応蒸着によって形成するもので
あって、酸素含有ガスを導入することによってＦｅ、　
Ｃｏ合金を主成分とする金属薄層の表面部分を酸化する
本発明の方法とは、その技術手段を全く異にするもので
あり、生成される金属薄層及び酸化物薄層の種類も異な
るものである。

次に、本発明実施にあたっての諸条件について述べる。

本発明における蒸着源としては、Ｆｅ、　Ｃｏを主成分
とする合金を蒸着材料として用いることができ、該蒸着
材料のＣｏ量を調製することにより、合金の組成を制御
して任意の組成を有するＦｅ、　Ｃｏ合金を主成分とす
る金属薄膜を得ることができる。

また、強磁性薄膜の膜強度を向上させることを目的とし
て通常添加されるＮｉ、　Ｃｒ、　ＡＩ、　Ｔｉ等を蒸
着材料に添加しておくことができ、この場合には、Ｆｅ
、　Ｃｏ合金を主成分とし必要に応じてＮｉ、　Ｃｒ、
　ＡＩ、Ｔｉ等の一種又は二種以上を含有する金属薄膜
とＦｅ、Ｃｏを主成分とし必要に応じてＮｉ、　Ｃｒ、
　ＡＩ、Ｔｉ等の一種又は二種以上を含有するスピネル
型酸化物との多層膜が得られる。

本発明におけるＦｅ、　Ｃｏ合金を主成分とする金属の
蒸発時の真空度は１Ｏ−５Ｔｏｒｒ以上の高真空である
。

１０−’Ｔｏｒｒ以下の真空度である場合は、非磁性の
酸化物も同時に生成してしまうのでＣｏ、　Ｆｅを主成
分とする純粋な金属薄膜が得られにくい。

本発明における蒸発材料の加熱方法は、周知の抵抗加熱
法、誘導加熱法及び電子ビーム加熱法等によることがで
きる。

本発明における基板材料としては、アルミニウム、ポリ
エステル、ガラス、ポリイミド等のいずれをも使用する
ことができ、目的に応じて適宜選択すればよい。

基板温度により得られる強磁性薄膜の結晶性が異なるこ
ともあるので、基板温度として室温〜２００℃が好まし
い。

本発明におけるＦｅ、　Ｃｏ合金を主成分とする金属薄
層の厚みは１５〜１００　人である。

１５人以−ドである場合には、酸素含有ガスを導入して
酸化する際に金属薄層が全て酸化されてしまい、目的と
する周期性多層膜が得られない。

１００Å以上である場合にも、目的とする人工格子膜は
形成されるが、各金属薄層の厚みが増加する程酸化安定
性が悪くなる傾向にあり、厚みが１００人を越えるとバ
ルクの性質が強く現れる為、酸化安定性が低下する等の
現象が現れる。

本発明における蒸着速度は、金属薄膜の膜厚が制御でき
る範囲に選べばよい。

本発明におけるＦｅ、　Ｃｏを主成分とするスピネル型
酸化物薄層は、真空槽内に酸素含有ガスを導入して１０
−’Ｔ−ｏｒｒ以上の酸素分圧としＦｅ、　Ｃｏ合金を
主成分とする金属薄層の表面部分を酸化することにより
得られる。

１０−５Ｔｏｒｒ以下の酸素分圧雰囲気の場合には、短
時間に金属薄膜の表面を均一に酸化させることが困難と
なる。

均一に酸化することを考慮すれば、酸化速度を制御する
為に１０−４〜１０弓Ｔｏｒｒの酸素分圧の範囲が好ま
しい。

酸素含有ガス導入時における温度は、２００℃以下であ
ればよい。

本発明における強磁性薄膜は、５回以上の繰り返しによ
る周期構造からなるが、酸化安定性の点から好ましくは
、１０層以上である。

〔実施例〕

次に、実施例により、本発明を説明する。

実施例１ ■５　Ｘ　１０７Ｔｃｒｒの高真空槽内で室温に保持し
たポリエチレンテレツクレートのヘースフィルム基板上
に、９０ａ　ｔ％Ｆｅ　　１０ａｔ％Ｃｏ合金を０．３
　人／ｓｅｅの蒸着速度で厚さ３０人に蒸着してＦｅ−
Ｃｏ合金薄層を形成した後、 ■２　Ｘ　１０−　’Ｔｏｒｒの酸素ガスを１０秒間槽
内に導入して前記Ｆｅ−Ｃｏ合金薄層の表面を酸化処理
した。

次いで、槽内の真空度を５　Ｘ　１０−’Ｔｏｒｒまで
高真空にした後、■と■の操作を３０回繰り返して行い
Ｆｅ−Ｃｏ合金の金属薄層とＦｅ−Ｃｏを含有する酸化
物薄層からなる周期性多層膜を生成させた。

上記多層膜は、図１に示すＸｖＡによる回折図形により
、３５人を周期とする人工格子薄膜であることが確認さ
れた。

また、酸化物層の構造を同定する為には、ポリエチレン
テレフタレート基板横に設けたＮａＣ１％板上に、上記
周期性多層膜を同時に形成し、その多層膜をＮａＣ１基
板より剥離して電子線回折を行った。

電子線回折により、酸化物層はスピネル型酸化物を形成
していることが確認された。

上記人工格子薄膜について、東英工業製ＶＳＭ３５型を
用いて１５　ＫＯｅ　　の磁場を印加して行った磁気測
定の結果は、保磁力Ｈｃ＝６２５０ｅ、飽和磁束密度Ｂ
ｍ＝１１９５０　Ｇａｕｓｓ　、残留磁束密度）１ｒ　
＝　１０１３０Ｇａｕｓｓ　、角型比Ｒｓ＝０．８４８
であった。

また、温度６０℃、相対湿度９０％雰囲気でのＢｍの変
化を測定したところ、７日間でΔＢｍ／Ｂｍ＝−５，２
％のＢ１１１の減少が観測された。

実施例２ ■５×１０〜’Ｔｏｒｒの高真空槽内で室温に保持した
ポリエチレンテレフタレートのベースフィルム基板上に
、９５ａ　ｔ％Ｆｅ　−５ａｔ％Ｃｏ合金を１人へ〇ｃ
の蒸着速度で厚さ５０人に蒸着してＦｅ−Ｃｏ合金薄層
を形成した後、 ■２　Ｘｌ０−’Ｔｃ＋ｒｒの酸素ガスを１０秒間槽内
に導入して前記Ｆｅ−Ｃｏ合金薄層の表面を酸化処理し
た。

次いで、槽内の真空度を５　Ｘ　１０−’Ｔｏｒｒまで
高真空にした後、■と■の操作を２０回繰り返して行い
Ｆｅ−Ｃｏ合金の金属薄層とＦｅ−Ｃｏを含有する酸化
物′ａ層からなる周期性多層膜を生成した。

上記多層膜は、図２に示すＸ線による回折図形により、
６０人を周期とする人工格子薄膜であることが確認され
た。

また、実施例１と同じ方法で行った電子線回折にまり、
酸化物層はスピネル型酸化物を形成していることが確認
された。

上記人工格子薄膜について、実施例１と同様の方法で測
定した磁気測定の結果は、櫟磁力１１ｃ　−６０００ｅ
、飽和磁束密度Ｂｍ＝１２５７０　Ｇａｕｓｓ　、残留
磁束密度Ｂｒ＝ｌＯ１８０Ｇａｕｓｓ　、角型比１２ｓ
＝０．８１０であった。

また、実施例１と同様の方法で測定したΔＢｍ／Ｂｍは
−６，７％であった。

実施例３ ■５　Ｘ　１０−’Ｔｏｒｒの高真空槽内で室温に保持
したポリエチレンテレフタレートのベースフィルム基板
上に、９０ａ　ｔ％Ｆｅ−１０ａｔ％Ｃｏ合金を５人７
ｓｅｃの蒸着速度で厚さ１００人に蒸着してＦｅ−Ｃｏ
合金薄層を形成した後、 ■２　Ｘ　１０−’Ｔｏｒｒの酸素ガスを１５秒間槽内
に導入して前記Ｆｅ−Ｃｏ合金ＦＩ［の表面を酸化処理
した。

次いで、槽内の真空度を５　Ｘ　１０−　？Ｔｏｒｒま
で高真空にした後、■と■の操作を３０回繰り返して行
いＦｅ−Ｃｏ合金の金属薄層とＦｅ−Ｃｏを含有する酸
化物薄層との積層からなる多層膜を生成させた。

上記多層膜は、図３に示すＸ線による回折図形により、
１２０人を周期とする人工格子薄膜であることが確認さ
れた。

上記人工格子薄膜について、実施例１と同様の方法で測
定した磁気測定の結果は、保磁力１１ｃ＝５５００ｅ、
飽和磁束密度Ｂｍ＝１４０００　Ｇａｕｓｓ　、残留磁
束密度Ｂｒ　＝　９８６０　　Ｇａｕｓｓ　、角型比Ｒ
ｓ　＝　０．７０４であった。

また、実施例１と同様の方法で測定したΔＢｍ／Ｂｍは
、１０．３％であった。

実施例４ ■ｌ　Ｘ　１０−’Ｔｏｒｒの高真空槽内で１３０℃に
保持したポリイミドフィルムの基板上に、８５ａ　ｔ％
Ｆｅ　−１１ａｔ％Ｃｏ−２ａｔ％Ｎｉ−２ａｔ％Ａ１
合金を蒸着材料として０．４　人／ｓｅｃの蒸着速度で
厚さ２０人に蒸着してＦｅ−Ｃｏ−Ｎｉ−Ａｌ合金薄層
を形成した後、■Ｉ　Ｘ　１０−　’Ｔｏｒｒの酸素ガ
スを５秒間槽内に導入して前記Ｆｅ−Ｇｏ−Ｎｉ−Ａ１
合金の金属薄層の表面を酸化処理した。

次いで、槽内の真空度をＩ　Ｘ　１０−　’Ｔｏｒｒま
で高真空にした後、■と■の操作を５０回繰り返して行
いＦｅ、　Ｃｏを主成分としＮｉ、　ＡＩを含有する合
金の金属層とＦｅ、　Ｃｏを主成分とし、Ｎｉ、　ＡＩ
を含有する酸化物薄層との積層からなる周期性多Ｆ［を
生成させた。

上記多層膜は、Ｘ線による回折図形により、２５人を周
期とする人工格子薄膜であることが確認された。

また、実施例１と同様の方法で行った電子線回折により
、酸化物層はスピネル型酸化物を形成していることが確
認された。

上記人工格子薄膜について、実施例１と同様の方法で測
定した磁気測定の結果は、保磁力Ｈｃ　＝　７６５０ｅ
、飽和磁束密度Ｂ１６＝１１１８０　Ｇａｕｓｓ　、残
留磁束密度Ｂｒ　＝　９４４０　　Ｇａｕｓｓ　、角型
比Ｒｓ＝０．８４４であり高密度磁気記録媒体に適する
ものであった。また実施例１と同様の方法で測定したΔ
［１ｍ／Ｂｍは−５，６％であった。

実施例５ ■Ｉ　Ｘ　１０−’Ｔｏｒｒの高真空槽内で１８０°Ｃ
に保持したＡＩ基板上に、１３５ａ　ｔ％Ｆｅ−９ａｔ
％Ｃｏ−３ａｔ％Ｎｉ　−２ａｔ％Ｃｒ合金を蒸着源と
して０．５　Ａ　／ｓｅｃの蒸着速度で厚さ４０人に蒸
着してＦｅ−Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ合金薄層を形成した後、 ■Ｉ　Ｘ　１０−’Ｔｏｒｒの酸素ガスを５秒間槽内に
導入して前記Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ合金の金属薄層の
表面を酸化処理した。

次いで、槽内の真空度を一旦Ｉ　Ｘ　１０−７Ｔｏｒｒ
まで筋真空にした後、■と■の操作を２５回繰り返して
行い、Ｆｅ、　Ｃｏを主成分として〜１、Ｃｒを含有す
る合金の金属薄層と、Ｆｅ、　Ｃｏを主成分とし、Ｎｉ
、　Ｃｒを含有する酸化物薄層との積層からなる周期性
多層膜を生成させた。

上記多層膜は、Ｘ線による回折図形により、５０人を周
期とする人工格子薄膜であることが確認された。

上記人工格子薄膜について、実施例１と同様の方法で測
定した緒特性は以下の通りであり磁気記録媒体に適する
ものであった。

保磁力Ｈｃ＝１４００ｅ、飽和磁束密度Ｂｍ＝９８７０
　Ｇａｕｓｓ。

残留飽和磁束密度Ｂｒ＝７９４０Ｇａｕｓｓ　、角型比
Ｒｓ　＝０．８０４　、ΔＣｍ／　Ｂｍ　＝　−４，５
％比較例１ ５　Ｘｌ０−’Ｔｏｒｒの高真空層内で室温に保持した
ポリエチレンテレフタレートのヘースフィルム基板上に
９５ａ　ｔ％Ｆｅ−５ａｔ％Ｃｏ合金を１０人／ｓｅｃ
の蒸着速度で１０００人蒸着Ｌｒ後２　Ｘ　１０”’Ｔ
ｏｒｒの酸素ガスを２０秒間槽内に導入して表面を酸化
処理したＦｅ−Ｃｏ合金薄１１りを生成した。

実施例１と同様な方法で測定した磁気特性は保磁力＋１
ｃ＝１４００ｅ、飽和磁束密度Ｂｍ　＝　１８２６０Ｇ
ａｕｓｓ、残留磁束密度Ｂｒ　＝　７３６０Ｇａｕｓｓ
　、角型比Ｒｓ＝０．４０３でｌｌｃの低いものであっ
た。

また６０℃相対湿度９０％雰囲気でのＢｉｎの変化は７
白目で４５％の減少が観測された。

〔効　果〕

本発明に係る強磁性薄膜は、前出実施例に示した通り、
Ｆｅ、　Ｃｏ合金を主成分とする金属薄層とＦｅ、“Ｃ
Ｏを主成分とするスピネル型酸化物薄層とが交互に積層
された金属薄層と酸化物薄層からなる多層膜であって、
少なくとも、５回以上の繰り返しによる周期構造を有す
る人工格子薄膜が形成されていることに起因して、残留
磁束密度Ｂｒ、飽和磁束密度Ｂｍが大きく、且つ、空気
中における磁気的安定性に優れており、しかも、高い保
磁力Ｈｃを有する為、フロッピーディスク、リジッドデ
ィスク等の高性能、高記録密度用磁気記録媒体として好
適である。

【図面の簡単な説明】

図ｒＰＪ’Ａ図、３は、それぞれ実施例１乃至実施例３
で得ろれた強磁性薄膜のＸ線小角散乱による回折図であ
る。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）基板上に、Ｆｅ、Ｃｏ合金を主成分とする厚さ１
   ５〜１００Åの金属薄層とＦｅ、Ｃｏ合金を主成分とす
   る厚さ１５〜１００Åのスピネル型酸化物薄層とが、交
   互に積層された少なくとも５回以上の繰り返しによる周
   期構造を有する人工格子薄膜が形成されている磁気記録
   用強磁性薄膜。
2. （２）Ｆｅ、Ｃｏを主成分とする合金を蒸発材料とし該
   蒸発材料を真空度１０＾−＾５Ｔｏｒｒ以上の真空槽内
   において基板に向けて蒸発させることにより該基板上に
   １５〜１００Åの厚さでＦｅ、Ｃｏ合金を主成分とする
   金属薄層を形成させた後、真空槽内に酸素含有ガスを導
   入して１０＾−＾４Ｔｏｒｒ以上の酸素分圧とし前記Ｆ
   ｅ、Ｃｏ合金を主成分とする金属薄層の表面部分を酸化
   することにより該金属薄層表面層をＦｅ、Ｃｏを主成分
   とするスピネル型酸化物薄層とし、次いで、蒸発金属を
   蒸発させる前記操作とＦｅ、Ｃｏ合金を主成分とする金
   属薄層の表面部分を酸化させる前記操作とを交互に繰り
   返して前記Ｆｅ、Ｃｏを主成分とするスピネル型酸化物
   薄層上にＦｅ、Ｃｏを主成分とする金属薄層とＦｅ、Ｃ
   ｏを主成分とするスピネル型酸化物薄層とを交互に積層
   させることによって、金属薄層と酸化物薄層との少なく
   とも５回以上の繰り返しによる周期構造を有する人工格
   子薄膜を形成させることを特徴とする磁気記録用強磁性
   薄膜の製造方法。