JPS619467A - 透明電極形成用インキ - Google Patents
透明電極形成用インキInfo
- Publication number
- JPS619467A JPS619467A JP13131284A JP13131284A JPS619467A JP S619467 A JPS619467 A JP S619467A JP 13131284 A JP13131284 A JP 13131284A JP 13131284 A JP13131284 A JP 13131284A JP S619467 A JPS619467 A JP S619467A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ink
- transparent electrode
- thickener
- boiling point
- compd
- Prior art date
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- Pending
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- Conductive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、スクリーン印刷によって基体上にパターン状
印刷をしだ後、これを焼成して透明電極を得ることので
きる透明電極形成用インキに関するものでアシ、主とし
てエレクトロニクス産業において利用できるものである
。
印刷をしだ後、これを焼成して透明電極を得ることので
きる透明電極形成用インキに関するものでアシ、主とし
てエレクトロニクス産業において利用できるものである
。
従来例の構成とその問題点′
透明基板上に形成したインジウム、スズなどの酸化物薄
膜は、透明電極として優れた性能を有している。このよ
うな金属酸化物からなる透明電極は、表示素子、太陽電
池などの重要な構成材料の一つとして、近年その需要は
拡大してきている。
膜は、透明電極として優れた性能を有している。このよ
うな金属酸化物からなる透明電極は、表示素子、太陽電
池などの重要な構成材料の一つとして、近年その需要は
拡大してきている。
このものの主流としては、スズをドープした酸化インジ
ウム膜であるが、その形成方法として、真空蒸着法、ス
プレー法、ＣＶＤ法、スクリーン印刷法などがあるが、
製造工程の繁雑さや量産性などの点から、これらの中で
も特にスクリーン印刷法は有利な形成方法である。
ウム膜であるが、その形成方法として、真空蒸着法、ス
プレー法、ＣＶＤ法、スクリーン印刷法などがあるが、
製造工程の繁雑さや量産性などの点から、これらの中で
も特にスクリーン印刷法は有利な形成方法である。
すなわち、スクリーン印刷法では、インジウムとスズの
化合物を含有するインキを基体にパターン状形成できる
ため、他法によるようなエツチング工程が不要であシ、
さらに焼成によって製造できるため、連続的な量産ライ
ンによる製造が可能で、量産性に富むという利点がある
。まだ、製造設備として、スクリーン印刷機と焼成炉が
必要なだけであるため、設備費の点でも真空系を用いる
方法に比べて有利である。
化合物を含有するインキを基体にパターン状形成できる
ため、他法によるようなエツチング工程が不要であシ、
さらに焼成によって製造できるため、連続的な量産ライ
ンによる製造が可能で、量産性に富むという利点がある
。まだ、製造設備として、スクリーン印刷機と焼成炉が
必要なだけであるため、設備費の点でも真空系を用いる
方法に比べて有利である。
しかしながら、従来のこの種のインキは、化学的安定性
の点で問題が多く、このため印刷作業時の作業性が悪い
、インキ自体のポットライフが短かいなどの欠点があっ
た。また、印刷膜面の平滑性や、パターンエツジの盛シ
上がりやにじみに難点のあるものが多く、焼成して仕上
がった透明電極の表面に、膜厚のバラツキによるムラが
生じやすいものであった。このため電極の見栄えが悪く
、表面抵抗のバラツキが大きいという欠点も有していた
。
の点で問題が多く、このため印刷作業時の作業性が悪い
、インキ自体のポットライフが短かいなどの欠点があっ
た。また、印刷膜面の平滑性や、パターンエツジの盛シ
上がりやにじみに難点のあるものが多く、焼成して仕上
がった透明電極の表面に、膜厚のバラツキによるムラが
生じやすいものであった。このため電極の見栄えが悪く
、表面抵抗のバラツキが大きいという欠点も有していた
。
一方、増粘剤としてエチルセルロースやニトロセルロー
スを用いる方法では、比較的好結果が得られているよう
であるが、これらのものは熱安定性などの点で、焼成後
にも透明電極中に残留物を生じ、表面抵抗を上昇させる
という欠点を有していた。
スを用いる方法では、比較的好結果が得られているよう
であるが、これらのものは熱安定性などの点で、焼成後
にも透明電極中に残留物を生じ、表面抵抗を上昇させる
という欠点を有していた。
発明の目的
本発明の目的は上記の欠点をなくし、印刷作業性が良く
、形成した膜面が良好な透明電極形成用インキを提供す
ることにある。
、形成した膜面が良好な透明電極形成用インキを提供す
ることにある。
発明の構成
この目的を達成するために本発明の透明電極形応用イン
キは、インジウム化合物を主剤とし、これに添加物とし
てスズ化合物を含有し、溶剤として脂肪族炭化水素と芳
香族炭化水素の内の少なくとも１種と、補助溶剤として
沸点１００℃以上のケトン類、アルコール類およびエス
テル類の内の少なくとも１種を含有し、かつ増粘剤とし
て一般式ＣＨＣ０ＯＨで示される脂肪族カルボン酸ｎ
２ｎ＋１ を１種またはそれ以上含むことから構成されている。
キは、インジウム化合物を主剤とし、これに添加物とし
てスズ化合物を含有し、溶剤として脂肪族炭化水素と芳
香族炭化水素の内の少なくとも１種と、補助溶剤として
沸点１００℃以上のケトン類、アルコール類およびエス
テル類の内の少なくとも１種を含有し、かつ増粘剤とし
て一般式ＣＨＣ０ＯＨで示される脂肪族カルボン酸ｎ
２ｎ＋１ を１種またはそれ以上含むことから構成されている。
実施例の説明
以下、本発明の一実施例について散開する。
実施例１
下記のような組成にインキを調整した。
インジウムアセチルアセトネー） ６．５ｙ
２−エチルヘキサン酸スズ ０．５．９
’テトラリン（沸点２０７〜２１５°Ｃ） ２０
ｙジエチルベンゼン（沸点１７６〜１８３℃） ２
．ｏｙクメン（沸点１６２°Ｃ） １
０ｙトルエン（沸点１１Ｑ６°Ｃ） １ｏ
ｙ酢酸ベンジル ０．５ｙ
インホロン ０．５７ラ
ウリン酸（ＣＨＣ０ｏＨ） ２８ｙこのインキを
用いて、ソーダ石灰ガラス板上にスクリーン印刷を行っ
た。ここで、スクリーン版としては３００メツシユのス
テンレス鋼ネットで、乳剤厚７μのものを用い、印刷は
連続で５０回行った。この間、インキによるスクリーン
版の目づまりなどは生じなかった。
２−エチルヘキサン酸スズ ０．５．９
’テトラリン（沸点２０７〜２１５°Ｃ） ２０
ｙジエチルベンゼン（沸点１７６〜１８３℃） ２
．ｏｙクメン（沸点１６２°Ｃ） １
０ｙトルエン（沸点１１Ｑ６°Ｃ） １ｏ
ｙ酢酸ベンジル ０．５ｙ
インホロン ０．５７ラ
ウリン酸（ＣＨＣ０ｏＨ） ２８ｙこのインキを
用いて、ソーダ石灰ガラス板上にスクリーン印刷を行っ
た。ここで、スクリーン版としては３００メツシユのス
テンレス鋼ネットで、乳剤厚７μのものを用い、印刷は
連続で５０回行った。この間、インキによるスクリーン
版の目づまりなどは生じなかった。
こうして印刷したガラス板を５０℃で１５分間乾燥した
後、大気中で５００°Ｃにて６０分間保持することによ
り、透明電極を得た。これらの透明電極は印刷回数によ
らず表面平滑性が良好であり、極端なパターンエツジの
盛り上がり、亀裂などは全く認められなかった。
後、大気中で５００°Ｃにて６０分間保持することによ
り、透明電極を得た。これらの透明電極は印刷回数によ
らず表面平滑性が良好であり、極端なパターンエツジの
盛り上がり、亀裂などは全く認められなかった。
実施例２
下記のような組成にインキを調整した。
２−エチルへキサン酸インジウム １４．４Ｐ２
−エチルへキサン酸スズ ０．６タデカリ
ン（沸点１８８〜１９５℃） ２７ｙクメン（沸
点１５２°Ｃ） ６ｙジエチルベ
ンゼン（沸点１７６〜１８３°Ｃ） ６ｙテトラ
リン（沸点２０７〜２１５°Ｃ） １８ｙベンジ
ルアルコール ４ｙ正オクチル
アルコール ４ｙミリスチン酸（Ｃ
１３Ｈ２□Ｃ０ｏＨ） ６ｙパノベチン酸（Ｃ
４５Ｈ３１ＣＯＯＨ） ６Ｆこのインキを用い
て実施例１と同じ方法によって透明電極を得だ。この場
合の特性は実施例１で得たものと同様であった。
−エチルへキサン酸スズ ０．６タデカリ
ン（沸点１８８〜１９５℃） ２７ｙクメン（沸
点１５２°Ｃ） ６ｙジエチルベ
ンゼン（沸点１７６〜１８３°Ｃ） ６ｙテトラ
リン（沸点２０７〜２１５°Ｃ） １８ｙベンジ
ルアルコール ４ｙ正オクチル
アルコール ４ｙミリスチン酸（Ｃ
１３Ｈ２□Ｃ０ｏＨ） ６ｙパノベチン酸（Ｃ
４５Ｈ３１ＣＯＯＨ） ６Ｆこのインキを用い
て実施例１と同じ方法によって透明電極を得だ。この場
合の特性は実施例１で得たものと同様であった。
ここで、上記実施例においてインジウム化合物。
スズ化合物および増粘剤としてのＣｎＨ２ｎ＋１ＣＯＯ
Ｈで示される脂肪族カルボン酸を溶解させるための溶剤
として使用したテトラリン、ジエチルベンゼン、クメン
、トルエンは芳香族炭化水素、デカリンは脂肪族炭化水
素、イソホロンは沸点が１００℃以上のケトン類、ベン
ジルアルコール、正オクチルアルコールは沸点が１００
°Ｃ以上のアルコール類、さらに酢酸ベンジルは沸点が
１００°Ｃ以上のエステル類である。
Ｈで示される脂肪族カルボン酸を溶解させるための溶剤
として使用したテトラリン、ジエチルベンゼン、クメン
、トルエンは芳香族炭化水素、デカリンは脂肪族炭化水
素、イソホロンは沸点が１００℃以上のケトン類、ベン
ジルアルコール、正オクチルアルコールは沸点が１００
°Ｃ以上のアルコール類、さらに酢酸ベンジルは沸点が
１００°Ｃ以上のエステル類である。
そして、溶剤としては脂肪族炭化水素と芳香族炭化水素
の内の少なくとも１種と、補助溶剤として沸点１ｏＯ°
Ｃ以上のケトン類、アルコール類およびエステル類の内
の少なくとも１種を含有していれば、上記実施例と同様
の結果を得られることが本発明者の実験によシ確認され
た。
の内の少なくとも１種と、補助溶剤として沸点１ｏＯ°
Ｃ以上のケトン類、アルコール類およびエステル類の内
の少なくとも１種を含有していれば、上記実施例と同様
の結果を得られることが本発明者の実験によシ確認され
た。
発明の効果
以上の実施例から明らかなように、本発明の透明電極形
成用インキによれば、一般式ＣｎＨ２ｎ＋１ＣＯＯＨで
示される脂肪族カルボン酸を′増粘剤として含有するこ
とにより、印刷作業性が良く、また表面平滑性が良好で
、表面抵抗のバラツキが少ない透明電極が得られ、その
効果は実用上大きなものがある。
成用インキによれば、一般式ＣｎＨ２ｎ＋１ＣＯＯＨで
示される脂肪族カルボン酸を′増粘剤として含有するこ
とにより、印刷作業性が良く、また表面平滑性が良好で
、表面抵抗のバラツキが少ない透明電極が得られ、その
効果は実用上大きなものがある。
Claims (1)
- インジウム化合物を主剤とし、これに添加物としてスズ
化合物を含有し、溶剤として脂肪族炭化水素と芳香族炭
化水素の内の少なくとも１種と、補助溶剤として沸点１
００℃以上のケトン類、アルコール類およびエステル類
の内の少なくとも１種を含有し、かつ増粘剤として一般
式Ｃ＿ｎＨ＿２＿ｎ＿＋＿１ＣＯＯＨで示される脂肪族
カルボン酸を１種またはそれ以上含むことを特徴とする
透明電極形成用インキ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13131284A JPS619467A (ja) | 1984-06-26 | 1984-06-26 | 透明電極形成用インキ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13131284A JPS619467A (ja) | 1984-06-26 | 1984-06-26 | 透明電極形成用インキ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS619467A true JPS619467A (ja) | 1986-01-17 |
Family
ID=15055009
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13131284A Pending JPS619467A (ja) | 1984-06-26 | 1984-06-26 | 透明電極形成用インキ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS619467A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE202008005553U1 (de) | 2008-04-22 | 2008-08-14 | Evonik Degussa Gmbh | Hochleitfähige, transparente Metalloxid-Schichten durch Plasmaimmersion |
| DE102007013181A1 (de) | 2007-03-20 | 2008-09-25 | Evonik Degussa Gmbh | Transparente, elektrisch leitfähige Schicht, ein Verfahren zur Herstellung der Schicht sowie die Verwendung |
-
1984
- 1984-06-26 JP JP13131284A patent/JPS619467A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102007013181A1 (de) | 2007-03-20 | 2008-09-25 | Evonik Degussa Gmbh | Transparente, elektrisch leitfähige Schicht, ein Verfahren zur Herstellung der Schicht sowie die Verwendung |
| US7867606B2 (en) | 2007-03-20 | 2011-01-11 | Evonik Degussa Gmbh | Transparent, electrically conductive layer, a process for producing the layer and its use |
| US8137794B2 (en) | 2007-03-20 | 2012-03-20 | Evonik Degussa Gmbh | Transparent electrically conductive layer, a process for producing the layer and its use |
| DE202008005553U1 (de) | 2008-04-22 | 2008-08-14 | Evonik Degussa Gmbh | Hochleitfähige, transparente Metalloxid-Schichten durch Plasmaimmersion |
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