JPS6192051U - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6192051U JPS6192051U JP17772084U JP17772084U JPS6192051U JP S6192051 U JPS6192051 U JP S6192051U JP 17772084 U JP17772084 U JP 17772084U JP 17772084 U JP17772084 U JP 17772084U JP S6192051 U JPS6192051 U JP S6192051U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- exhaust chamber
- gas inlet
- quartz tube
- quartz
- diffusion furnace
- Prior art date
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- Pending
Links
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- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
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Landscapes
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Description
第１図は本考案の一実施例による拡散炉の概略
構造を示す断面図、第２図は従来の拡散炉の概略
構造を示す外観図、第３図は第２図の−断面
の模式図である。 １…拡散炉本体、２…スカベンジヤー（排気室
）、３…石英チユーブ、４…ダクト、５…扉、６
…不純物を含んだドーピングガス、７…発熱体、
８…石英ボート、９…シリコンウエハ、１０ａ〜
１０ｄ…ガス導入口、１１…水分を含まないガス
。
構造を示す断面図、第２図は従来の拡散炉の概略
構造を示す外観図、第３図は第２図の−断面
の模式図である。 １…拡散炉本体、２…スカベンジヤー（排気室
）、３…石英チユーブ、４…ダクト、５…扉、６
…不純物を含んだドーピングガス、７…発熱体、
８…石英ボート、９…シリコンウエハ、１０ａ〜
１０ｄ…ガス導入口、１１…水分を含まないガス
。
Claims (1)
- 石英チユーブ内の石英ボートに載置されたウエ
ハへ不純物を拡散炉において、前記石英チユーブ
の開口部を囲む排気室にガス導入口を具備し、こ
のガス導入口から水分を含まない乾燥空気などの
ガスを前記排気室内へ流入させるように構成した
ことを特徴とする半導体製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17772084U JPS6192051U (ja) | 1984-11-22 | 1984-11-22 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17772084U JPS6192051U (ja) | 1984-11-22 | 1984-11-22 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6192051U true JPS6192051U (ja) | 1986-06-14 |
Family
ID=30735292
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17772084U Pending JPS6192051U (ja) | 1984-11-22 | 1984-11-22 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6192051U (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07297145A (ja) * | 1995-03-02 | 1995-11-10 | Tokyo Electron Tohoku Ltd | 熱処理装置 |
-
1984
- 1984-11-22 JP JP17772084U patent/JPS6192051U/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07297145A (ja) * | 1995-03-02 | 1995-11-10 | Tokyo Electron Tohoku Ltd | 熱処理装置 |