JPS6187861A - 真空装置用構造材の表面処理方法 - Google Patents
真空装置用構造材の表面処理方法Info
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- JPS6187861A JPS6187861A JP59210792A JP21079284A JPS6187861A JP S6187861 A JPS6187861 A JP S6187861A JP 59210792 A JP59210792 A JP 59210792A JP 21079284 A JP21079284 A JP 21079284A JP S6187861 A JPS6187861 A JP S6187861A
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- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
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- C23C4/04—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge characterised by the coating material
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- C23C4/11—Oxides
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/16—Vessels; Containers
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、真空を利用した加工・処理装置、特に、真空
蒸着法によシ基体衣面に誘電体、半導体、金属等の薄膜
を被覆するための真空装置等の容器内壁、内部治具の表
面処理に関するものである。
蒸着法によシ基体衣面に誘電体、半導体、金属等の薄膜
を被覆するための真空装置等の容器内壁、内部治具の表
面処理に関するものである。
従来、真空装置の構造材としては、該表面が化学的・熱
的に安定で、かつ真空にした場合の放出ガスが出来るだ
け少ない事が望まれている。
的に安定で、かつ真空にした場合の放出ガスが出来るだ
け少ない事が望まれている。
また、真空槽を構成する材質として高圧力に耐えるため
の機械的強度が要求される。
の機械的強度が要求される。
そのため、従来装置の構造材としては、ステンレス鏑あ
るいはニッケル・メッキ処理した鉄鋼を使用するのが一
般的であるが、真空にした場合の放出ガス量が多いとい
う欠点があった。
るいはニッケル・メッキ処理した鉄鋼を使用するのが一
般的であるが、真空にした場合の放出ガス量が多いとい
う欠点があった。
このため、近年該金属に比べて放出ガス量の少ないアル
ミニウムを構造材として使用する例がある。
ミニウムを構造材として使用する例がある。
構造材としてアルミニウムを使用する場合、その加工方
法としてはアルミ・ブロック材から切削によって構造物
を製作する方法、ステンレス鉋等の伺を使用した構造材
表面に真空蒸着法によってアルミニウム膜を被覆する方
法がある。
法としてはアルミ・ブロック材から切削によって構造物
を製作する方法、ステンレス鉋等の伺を使用した構造材
表面に真空蒸着法によってアルミニウム膜を被覆する方
法がある。
しかしながら、前者は大型の真空槽を芽4作する場合、
機械的強度の点から槽壁の肉厚を厚くしなければならな
い等の欠点があり、また、後者は加工処理可能な構造材
の大きさ、形状および蒸着できるアルミニウム膜の膜厚
に制限がちった。
機械的強度の点から槽壁の肉厚を厚くしなければならな
い等の欠点があり、また、後者は加工処理可能な構造材
の大きさ、形状および蒸着できるアルミニウム膜の膜厚
に制限がちった。
本発明の目的は、従来装置の構造材の機械的強度および
機械加工性などの特徴を損々うことなく、該構造材表面
をガス放出量の少ない膜で撥dすることによって従来装
置に比べて真空中でのガス放出の少ない装置、すなわち
真空排気特性の良い装置を提供することにある。
機械加工性などの特徴を損々うことなく、該構造材表面
をガス放出量の少ない膜で撥dすることによって従来装
置に比べて真空中でのガス放出の少ない装置、すなわち
真空排気特性の良い装置を提供することにある。
また、本発明の別の目的は、該構造材を用いた従来装置
をより真空排気特性の良い装置に改良するための簡便な
改造手段を提供するところにある。
をより真空排気特性の良い装置に改良するための簡便な
改造手段を提供するところにある。
而して前記した目的を達成するためになされた本発明の
要旨とするところは、真空雰囲気中で蒸着等の加工・処
理を行なう装置の真空容器の内壁および内部治具の表面
を、該構造材とは異なる材料の膜を溶射法によ!ll被
覆形成させることを特徴とする真空装置構造材の表面処
理方法にある。
要旨とするところは、真空雰囲気中で蒸着等の加工・処
理を行なう装置の真空容器の内壁および内部治具の表面
を、該構造材とは異なる材料の膜を溶射法によ!ll被
覆形成させることを特徴とする真空装置構造材の表面処
理方法にある。
本発明における溶射法とは、例えばガスプラズマ雰囲気
中で溶射材料を加熱溶融石せて、この溶融材料を構造材
料の表面に噴霧状に吹き付ける。あるいは前記ガスプラ
ズマに替えて可燃性ガスの火炎を用いる等の方法が適用
される。
中で溶射材料を加熱溶融石せて、この溶融材料を構造材
料の表面に噴霧状に吹き付ける。あるいは前記ガスプラ
ズマに替えて可燃性ガスの火炎を用いる等の方法が適用
される。
本発明において対象とされる真空装置の構造材料とは、
通常、ステンレス鋼等の鋼をいうが、これに限定される
ものではない。
通常、ステンレス鋼等の鋼をいうが、これに限定される
ものではない。
また構造材料の表面に溶射されて膜生成てれる溶射材料
には、真空中でのガス放出量の少ない材料としてアルミ
ニウムが好ましく使用され、真空装置に導電性が求めら
れる場合には金属アルミニウムの膜として、また非導電
性である場合には酸化雰囲気下で膜生成してアルミナA
t203の膜とすることができ、また後者の場合には5
102の膜としてもよい。
には、真空中でのガス放出量の少ない材料としてアルミ
ニウムが好ましく使用され、真空装置に導電性が求めら
れる場合には金属アルミニウムの膜として、また非導電
性である場合には酸化雰囲気下で膜生成してアルミナA
t203の膜とすることができ、また後者の場合には5
102の膜としてもよい。
なお、本発明の溶射法による膜生成処理に際しては、こ
れに先立って構造材料の表面にブラスト処理を行なうこ
とが望ましい。
れに先立って構造材料の表面にブラスト処理を行なうこ
とが望ましい。
本発明の内容を以下に図面に従って説明する。
第1図(a)ないし第1図(C)は、一般的な溶射処理
法の概念を示した図である。
法の概念を示した図である。
第1図(、)は、溶射処理前の構造材の断面を示す。
図中1は、ステンレス鋼等の鋼を示す。
第1図(b)は、ブラスト処理中の構造材を示す。
図中2はセラミックス粒子等を原料とするブラスト材で
あり、空気圧や水圧を利用して高速で構造材表面に吹き
つけることによって該表面を凹凸状に荒らす。3はブラ
スト処理された該構造材表面である。
あり、空気圧や水圧を利用して高速で構造材表面に吹き
つけることによって該表面を凹凸状に荒らす。3はブラ
スト処理された該構造材表面である。
第1図(c)は、該構造材表面にアルミニウムを溶射し
ている状態を示す。
ている状態を示す。
図中4は、プラズマ(あるいはガス炎中)で加熱・溶融
し、ガス(H2t Ar # N2)圧でスプレー状に
吹き付けられるアルミニウム粒子である。At2o3と
するときは含酸素気体を用いればよい。該アルミニウム
粒子は、該構造材の凹凸状表面のくぼみを埋め、さらに
その表面に堆積してアルミニウム膜で該構造材表面を被
う。5は、アルミニウム溶射膜(以下At溶射膜という
)を示す。溶射てれた膜は、このくぼみをアンカーとし
て機械的に強固に付着する。
し、ガス(H2t Ar # N2)圧でスプレー状に
吹き付けられるアルミニウム粒子である。At2o3と
するときは含酸素気体を用いればよい。該アルミニウム
粒子は、該構造材の凹凸状表面のくぼみを埋め、さらに
その表面に堆積してアルミニウム膜で該構造材表面を被
う。5は、アルミニウム溶射膜(以下At溶射膜という
)を示す。溶射てれた膜は、このくぼみをアンカーとし
て機械的に強固に付着する。
第2図は、構造材およびAt溶射膜のエネルギー分散型
X線分析装置(以下XbiAと略称する)による構成元
素分析の結果を示す。
X線分析装置(以下XbiAと略称する)による構成元
素分析の結果を示す。
第2図(a)は、従来装置の構造材として使用されてい
るステンレス鋼であるところのJIS −8US304
鋼(以下、5US304鋼と称す)のXMAによる分析
結果を示す。図中、横軸は含有元素の原子番号によるス
ペクトルを、縦軸は各元素の含有量に比例した強度を示
す。試料として用いた5US304t4にはJIS規格
によシ、クロム(Cr)〜20〜18 %、ニッケル(
Nl)=8〜10%、マンゴy(Mn)≦2%。
るステンレス鋼であるところのJIS −8US304
鋼(以下、5US304鋼と称す)のXMAによる分析
結果を示す。図中、横軸は含有元素の原子番号によるス
ペクトルを、縦軸は各元素の含有量に比例した強度を示
す。試料として用いた5US304t4にはJIS規格
によシ、クロム(Cr)〜20〜18 %、ニッケル(
Nl)=8〜10%、マンゴy(Mn)≦2%。
シリコン(si)≦1%、残部鉄(Fe)、というよう
な比率で元素が含有されているが、XMA分析の結果も
これとよく一致しており、チオーダーで含有される元素
の分析が可能であることが分かる。
な比率で元素が含有されているが、XMA分析の結果も
これとよく一致しており、チオーダーで含有される元素
の分析が可能であることが分かる。
第2図(b)は純アルミニウム板(曲品名:スーノで−
・2スター)のXMAによる分析結果を示す。アルミニ
ウム以外の元素は検出されず、はぼ99%以上の純度で
アルミニウムが含有されていた。
・2スター)のXMAによる分析結果を示す。アルミニ
ウム以外の元素は検出されず、はぼ99%以上の純度で
アルミニウムが含有されていた。
第2図(、)は、前記5US304鋼の表面に高純度(
99,99%)アルミニウム膜をグラズマ溶射した試料
のXhTA分析結果である・ ここで、At溶射膜の厚みは200〜300μm程度で
あり、通常の溶射処理と同じく溶射に先立ちSUS 3
04基板表面はブラスト処理を行った。
99,99%)アルミニウム膜をグラズマ溶射した試料
のXhTA分析結果である・ ここで、At溶射膜の厚みは200〜300μm程度で
あり、通常の溶射処理と同じく溶射に先立ちSUS 3
04基板表面はブラスト処理を行った。
At溶射膜側からの分析結果では、第2図(b)の純ア
ルミニウム板と同様99%以上のAtが含有されていた
。
ルミニウム板と同様99%以上のAtが含有されていた
。
すなわち、母材であるところの5US3Q4鋼衣面が純
At溶射膜で完全に被覆されていることが明らかとなっ
た。
At溶射膜で完全に被覆されていることが明らかとなっ
た。
第2図(d)は、該At溶射膜表面の電子顕微鏡写真で
ある。
ある。
At溶射膜の表面には約30μm程度のAt粒子が付着
しているが、膜内部は緻密な構造であった。
しているが、膜内部は緻密な構造であった。
以上の分析結果から、従来装置に使用されていたSUS
304鋼の表面な溶射処理することによって、純At
膜で完全に被覆することが容易にできることが明らかと
なった。
304鋼の表面な溶射処理することによって、純At
膜で完全に被覆することが容易にできることが明らかと
なった。
第3図は1本実施例の目的の一つであるところの真空雰
囲気での各構造材からの吸着ガス放出量を測定した結果
である。
囲気での各構造材からの吸着ガス放出量を測定した結果
である。
測定には、内容積が内径260ym、高さ120鴫の5
US304鋼製円筒形真空槽を用い、これを排気速度1
35 L/sの油拡散ポンプと5.3 t/8の油回転
ポンプを直結した排気系で真空排気した。
US304鋼製円筒形真空槽を用い、これを排気速度1
35 L/sの油拡散ポンプと5.3 t/8の油回転
ポンプを直結した排気系で真空排気した。
第3図中曲線■は、該真空装置の到達真空度曲線を表わ
す。図中、横軸は時間(分)を、縦軸は真空度(Tor
r)を弄わす。
す。図中、横軸は時間(分)を、縦軸は真空度(Tor
r)を弄わす。
曲線■は前記り仏分析に用いたものと同様、表面に純A
tグラズマ溶射膜を被覆した10の×10の、厚さ1間
のSUS 304 fil板を6枚、該真空槽中に投入
した場合の到達真空度曲線を表わす。
tグラズマ溶射膜を被覆した10の×10の、厚さ1間
のSUS 304 fil板を6枚、該真空槽中に投入
した場合の到達真空度曲線を表わす。
測定に使用した5US304 銅板は堀裏面にAt溶射
をほどこし、アセトン液による洗浄の後、投入した。
をほどこし、アセトン液による洗浄の後、投入した。
また、曲線■はp、t @射処理しない10crnX1
0m、厚さ1門の5US304鋼板のみを6枚、該真空
槽中に投入した場合の到達真空度曲線を衣わす。該5U
S304鍋板は、ガラス・ビーズによる液体ホーニング
後、純水にて洗浄し、150℃で大気圧ベーキング処理
を行って、該真空q中に投入した。
0m、厚さ1門の5US304鋼板のみを6枚、該真空
槽中に投入した場合の到達真空度曲線を衣わす。該5U
S304鍋板は、ガラス・ビーズによる液体ホーニング
後、純水にて洗浄し、150℃で大気圧ベーキング処理
を行って、該真空q中に投入した。
ここで、表面積A(m”)の真空槽が排気速度S(t/
s)の排気装置で排気され、該真空槽の内壁および内部
治具表面からの吸着ガス放出量がq(W/r+1つで、
該真空411の漏れ(リーク)量がQ (w/m”)で
あった場合、該真空装置の到着真空度P(Pa)は一般
に (q+Q)・A p = 1ooo・□ (1)で表わ
される。
s)の排気装置で排気され、該真空槽の内壁および内部
治具表面からの吸着ガス放出量がq(W/r+1つで、
該真空411の漏れ(リーク)量がQ (w/m”)で
あった場合、該真空装置の到着真空度P(Pa)は一般
に (q+Q)・A p = 1ooo・□ (1)で表わ
される。
式(1)から、第3図中の各到達真空変曲りコンク・ら
6各の吸着ガス放出量を算出すると、曲線■の場合(q
o +Q ) ” 3J I X 10−’w/m2、
曲線■の場合(qo +Q ) + 91 =2.86
X 10−’ v7’m2、曲線■の場付(qo +Q
) +q2 =2.18X 10−3vr/m”であっ
た。
6各の吸着ガス放出量を算出すると、曲線■の場合(q
o +Q ) ” 3J I X 10−’w/m2、
曲線■の場合(qo +Q ) + 91 =2.86
X 10−’ v7’m2、曲線■の場付(qo +Q
) +q2 =2.18X 10−3vr/m”であっ
た。
ここで、qoは該真空槽内壁からの吸着ガス放出量、q
lは純Al溶射した5US304銅板からの吸着ガス放
出量、q2は溶射処理してない5LJS、304 y、
4板からの吸着ガス放出量を表わす。
lは純Al溶射した5US304銅板からの吸着ガス放
出量、q2は溶射処理してない5LJS、304 y、
4板からの吸着ガス放出量を表わす。
また、第3図中の曲線■は真空槽のみの場合(曲線■と
同条件)排気から一定時間経過後排気パルブを閉じ、真
空槽からのリークおよび壁面からの吸着ガス放出によシ
真空度が変化する状態を測定した封止圧曲線である。
同条件)排気から一定時間経過後排気パルブを閉じ、真
空槽からのリークおよび壁面からの吸着ガス放出によシ
真空度が変化する状態を測定した封止圧曲線である。
曲線■は同じく該真空槽に純At溶射5US304テ゛
1板を投入した状態(曲線■と同条件)での封止圧曲線
であり、曲線のは該真空槽にSUS 304釧板(曲糺
■と同条件)を投入した状態での封止圧曲祿を表わす。
1板を投入した状態(曲線■と同条件)での封止圧曲線
であり、曲線のは該真空槽にSUS 304釧板(曲糺
■と同条件)を投入した状態での封止圧曲祿を表わす。
先に求めた吸着ガス放出量と封止圧曲線は、きわめて良
い一致を示している。すなわち、純At溶射sUs′3
o4儒板が真空中での吸着ガス放出量が量も少なく、封
止状態での真空槽内圧の変化も少ない。また、ガス放出
量の多い溶射してない5US304鋼投入時が内圧変化
が極端に太きい。
い一致を示している。すなわち、純At溶射sUs′3
o4儒板が真空中での吸着ガス放出量が量も少なく、封
止状態での真空槽内圧の変化も少ない。また、ガス放出
量の多い溶射してない5US304鋼投入時が内圧変化
が極端に太きい。
ただし、何も投入していない真空槽の場合に比べて、純
At溶射5US304鋼板投入時の方がガス放出量が少
ないのは、真空槽のリーク量Qが投入口の真空シールの
状態が悪く、大きくなったためでおる。
At溶射5US304鋼板投入時の方がガス放出量が少
ないのは、真空槽のリーク量Qが投入口の真空シールの
状態が悪く、大きくなったためでおる。
以上の結果から、純At溶射処理によって、従来真空装
置用構造材として多用されてきた5US304鋼に比べ
て、真空中での吸着ガス放出量がきわめて少なく、しか
も機械強度・加工上、従来の5US304鋼とまったく
変わらない特性をもつことが明らかになった。
置用構造材として多用されてきた5US304鋼に比べ
て、真空中での吸着ガス放出量がきわめて少なく、しか
も機械強度・加工上、従来の5US304鋼とまったく
変わらない特性をもつことが明らかになった。
なお本発明は、前記した真空排気性のよい装置の提供と
は別に、プラズマ・ドライ・エツチング装置のように腐
蝕性の強い例えばフッ素化合物ガスを使用する真空装置
の腐蝕防止処理としてもきわめて有効である。
は別に、プラズマ・ドライ・エツチング装置のように腐
蝕性の強い例えばフッ素化合物ガスを使用する真空装置
の腐蝕防止処理としてもきわめて有効である。
従来、上述耐蝕性構造材としてはアルミニウム材を使用
することが一般に行なわれていたが、真空槽のような機
械強度を求められるものにはその使用が限定てれている
。しかし、不発明を用いて真空槽の母材を5US304
鋼で製作し、その内壁面のみに純Atプラズマ溶射膜を
被覆するようにすれば、容易に耐蝕性が向上した鋼橋造
材からなる真空槽を形成することが可能となるのである
。
することが一般に行なわれていたが、真空槽のような機
械強度を求められるものにはその使用が限定てれている
。しかし、不発明を用いて真空槽の母材を5US304
鋼で製作し、その内壁面のみに純Atプラズマ溶射膜を
被覆するようにすれば、容易に耐蝕性が向上した鋼橋造
材からなる真空槽を形成することが可能となるのである
。
また、真空装置内部において、一般に5US304鋼で
被覆されている基体加熱用ヒーターのように熱変形の大
きな部材についても、その表面処理としても適用でき、
加熱時のガス放出量も従来の5US304鋼を用いた場
合に比べて少なくすることができる効果がある。
被覆されている基体加熱用ヒーターのように熱変形の大
きな部材についても、その表面処理としても適用でき、
加熱時のガス放出量も従来の5US304鋼を用いた場
合に比べて少なくすることができる効果がある。
以上説明したように、本発明は従来装置の構造材として
用いられてきたステンレス鋼等の鍋の渦部に純At膜を
常圧下で溶射・付着させるという簡単な表面処理方法に
よって、従来装置の製造技術に支障をきたすことなく真
空排気特性やフッ素化合物ガスに対する耐蝕性を容易に
改善する効果がある。
用いられてきたステンレス鋼等の鍋の渦部に純At膜を
常圧下で溶射・付着させるという簡単な表面処理方法に
よって、従来装置の製造技術に支障をきたすことなく真
空排気特性やフッ素化合物ガスに対する耐蝕性を容易に
改善する効果がある。
また、すでに現存する装置についても、性能改善のため
の安価な処理゛方法として利用することができるなどき
わめて有用である。
の安価な処理゛方法として利用することができるなどき
わめて有用である。
第1図(、)〜第1図(c)は、溶射処理工程の一般的
概念を説明するための図である。 第2図(、)〜第2図(c)は、各構造材の心性を用い
た元素分析ス4クトルであり、図中横軸には含有される
元素名を示している。 第2図(d)は、純At溶射膜表面の電子顕微鏡写真で
ちり、図中の白線は10μmの大きさを示す。 第3図は、各構造材を投入した場合の到達真空度曲線と
封止圧曲線を示す図であシ、 横軸は時間(分)を示し、縦軸は真空度(Torr)を
示している。 第1図 <a) (b) (C) 第2図 (d) 第3図 手続補正書0幻 昭和40年2月7を日 1、事件の表示 昭和t?年特 許願第y+o’t?Z号18(名称)
(100)キャノン株式会社4、代理 人 住 所 東京都千代田区丸の内2丁目6番2号丸の内
へ重洲ピル33G5 補正命令の日付 昭和 (o年 l 月2?日 補 正 書 本願明細書中下記事項を補正いたします。 記 1、第13頁下から6行目に 「溶射膜表面の」とあるを 「溶射膜表面の金属組織の」と訂正する。
概念を説明するための図である。 第2図(、)〜第2図(c)は、各構造材の心性を用い
た元素分析ス4クトルであり、図中横軸には含有される
元素名を示している。 第2図(d)は、純At溶射膜表面の電子顕微鏡写真で
ちり、図中の白線は10μmの大きさを示す。 第3図は、各構造材を投入した場合の到達真空度曲線と
封止圧曲線を示す図であシ、 横軸は時間(分)を示し、縦軸は真空度(Torr)を
示している。 第1図 <a) (b) (C) 第2図 (d) 第3図 手続補正書0幻 昭和40年2月7を日 1、事件の表示 昭和t?年特 許願第y+o’t?Z号18(名称)
(100)キャノン株式会社4、代理 人 住 所 東京都千代田区丸の内2丁目6番2号丸の内
へ重洲ピル33G5 補正命令の日付 昭和 (o年 l 月2?日 補 正 書 本願明細書中下記事項を補正いたします。 記 1、第13頁下から6行目に 「溶射膜表面の」とあるを 「溶射膜表面の金属組織の」と訂正する。
Claims (4)
- (1)真空雰囲気中で加工・処理を行なう装置の真空容
器の内壁および内部治具の表面に、該構造材とは異なる
材料の膜を溶射法により被覆させることを特徴とする真
空装置構造材の表面処理方法。 - (2)構造材がステンレス鋼等の鋼であり被覆膜材料が
高純度のアルミニウムであることを特徴とする特許請求
の範囲第(1)項記載の真空装置構造材の表面処理方法
。 - (3)溶射工程に先立ち、該構造材表面にブラスト等の
処理により凹凸状の起伏を形成することを特徴とする特
許請求の範囲第(1)項記載の真空装置構造材の表面処
理方法。 - (4)被覆膜は、溶射材料をガス・プラズマ雰囲気中も
しくは可燃性ガスの火炎中において加熱溶融して粉霧状
に該構造材表面に吹き付けることによって形成されるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第(1)項記載の真空装
置構造材の表面処理方法。
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