JPS58151469A - グロ−放電化学処理装置 - Google Patents

グロ−放電化学処理装置

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Publication number
JPS58151469A
JPS58151469A JP3060182A JP3060182A JPS58151469A JP S58151469 A JPS58151469 A JP S58151469A JP 3060182 A JP3060182 A JP 3060182A JP 3060182 A JP3060182 A JP 3060182A JP S58151469 A JPS58151469 A JP S58151469A
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JP
Japan
Prior art keywords
glow discharge
reaction vessel
wall
chemical treatment
vessel
Prior art date
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Pending
Application number
JP3060182A
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English (en)
Inventor
Takeshi Yasui
安井 毅
Masahiko Hirose
広瀬 昌彦
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp, Tokyo Shibaura Electric Co Ltd filed Critical Toshiba Corp
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Publication of JPS58151469A publication Critical patent/JPS58151469A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/50Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges
    • C23C16/503Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges using dc or ac discharges
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
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    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/56Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
    • C23C14/564Means for minimising impurities in the coating chamber such as dust, moisture, residual gases
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C8/00Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
    • C23C8/06Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using gases
    • C23C8/36Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using gases using ionised gases, e.g. ionitriding

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分゛野〕 本発明は、グロー放電空間中で化学反応を行なって基体
表面に被膜を形成するためのグロー放電化学処理装置に
関する。
〔発明の技術的背景とその問題点〕
従来よ染、金属、合金、セラミックス等の基体表面に、
耐摩耗性に優れる、例えば窒化チタン、炭化チタン等の
高融点化合物の被膜・を形成する方法として化学蒸着法
が知られている。この方法では、高融点化合物の被覆が
900〜1200℃で行なわれるため、基体が薄物ある
いは細物等の変形をおこしやすい形状のものや材質のも
のでは適用できないという制限があった。また得られる
被膜の表面状態が粗雑であシ、装飾用として不適当であ
るという欠点があった。
このため、腕時計等の耐摩耗性向上と装飾性付与の両方
の目的のために上述の金属化合物を被覆する場合には、
グロー放電空間を基体近傍に形成して、放電のエネルギ
ーにより化学反応をおこさせ、被覆に要する加熱湯度を
400〜600℃と低くして行なうグロー放電化学処理
法とも呼ぶべき方法が検討されている。
この方法に使用する装置としては、例えば第1図に示す
ように、ガス供給口1と排気口2とを備え九反応容器3
内に、被処理基体4を電気的に導通した状態で設置しつ
る陰極板5とその裏面に設けられた基体を加熱するため
の加熱板6とそれらを支持し、陰極を導入するための陰
極導入管7と、および陰極板の上方に所定の間隔をおい
て支持される陽極板8とが設けられ丸ものが知られてい
る。
なお各電極は、配@Sによ)直流電源1θのしかるべき
端子に接続され、陽極側はアース11により接地されて
いる。
而してこの方法において、例えば金属窒化物の被膜を形
成する場合には、主に金属ハロゲン化物と窒素と水素と
からなる混合ガスをガス供給口から反応容器内に供給し
、グロー放電空間内で化学反応させて基体表面に金属窒
化物の被膜を形成するわけであるが、この反応の際にハ
ロゲン化水素やハロゲンガスが形成されるため、反応容
器の内壁が徐々に腐食し、また腐食生成物や反応の残滓
が容器の内壁に付着したりするという現象があった。そ
の結果反応容器内の真空度があがらなくなつ九り、得ら
れる被膜が不均一なものとなったり、また処理終了後の
基体をとシだす際に、大気中の水分や酸素が付着物内に
とりこまれ、それが次の処理の際の不純物となって悪影
響を与えるという問題があった。
〔発明の目的〕
本発明はグロー放電化学処理装置における反応容器の腐
食及び反応残滓などによる上述の問題を解消するもので
ある。
〔発明の概要〕
すなわち本発明は、反応容器の壁を二層構造に構成する
ことを特徴とする。
以下本発明の詳細について説明する。
第2図は本発明装置の一実施例の概略を示す断面図であ
り、従来のステンレス等から成る反応容器の壁の内側に
、もう一層、層を設けて、反応容器の壁を二層構造とし
たものである。この二層構造の内層12は耐熱ガラスま
たはセラミック等をコーティングした金属板(例えばホ
ーローびき鉄板)あるいは金属板で形成され、取やはず
しできるようになっている。これを所定の処理回数毎に
取りかえることによシ、反応容器は常に清浄表状態とな
抄、真空度の低下や不純物による悪影響を防止すること
ができる。
あるいは内層12は、ステンレス壁の内側に周期律表の
l/a、Va、%a族の窒化物、炭化物またははう化物
を溶射等の方法によシ塗布して形成してもよい。   
この方法によれば腐食性ガスに対する耐食性が向上し、
また腐食によって反応生成物が生成して付着しても清浄
が簡単に行なえるため、同様の効果が得られる。
〔発明の実施例〕1 次に本発明の実施例について説明する。
ステンレス製の反応容器の内壁にTiNコーティングし
て二層構造とした反応容器を使用し、陰極板5の上にC
r 38%、AA! 3.8%、 Ni残残部組成合金
から成る50mX 50tmX 5mの金属板を被処理
基体4として載置し、次の条件で処理を50回繰り返し
丸。その後反応容器内の付着物を除去したが簡単に除去
することができた。また得られる窒化チタンの被膜は均
一で装飾性に優れていた。
一方従来のステンレス壁のみで形成された反応容器を使
用し、あとは実施例と同様の条件で処理を行なったとこ
ろ、数10回繰り返した段階で反応容器内に付着物がひ
どく堆積し、またこの付着物の除去はなかなか困難であ
った。
〔実施例〕 2 ステンレス製外容器の内壁に同形状のステンレス製内容
器の外壁が接するようにもうけられた2重構造の反応容
器を使用し、実施例1と同様の条件で処理を行なった。
そして処理を10回くり返し九後、内容器を交換した。
内容器の交換により真空度の低下や不純物の悪影響を防
ぐことができるようになった。
〔発明の効果〕
以上の実施例からも明らかなように・、反応容器の壁を
二層構造とした本発明装量によれば、腐食生成物や反応
残滓の付着物が少なく、真空度の低下や不純物の悪影響
を防止することができるため、得られる被膜が均一で、
装飾性にすぐれたものとなる。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来のグロー放電化学処理装置の例、第2図は
本発明のグロー放電化学処理装置の一実施例の概略を示
す断面図である。 1・・・・・・ガス供給口 2・・・・・・排ガス口 3・・・・・・反応容器 4・・・・・・被処理基体 5・・・・・・陰極板 6・・・・・・加熱板 8・・・・・・陽極板 12・・・・・・反応容器の内層 代理人弁理士  則 近 憲 ・佑 (他−名)

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、 ガス供給口と排気口とを備えた反応容器内に、被
    処理基体を載置するための陰極板と、それに対抗して設
    けられた陽極板とを有するグロー放電化学処理装置にお
    いて、前記反応容器の壁が二層構造に構成されているこ
    とを4?徴とするグロー放電化学処理装置。 2、反応容器の内層が着脱可能である特許請求の範囲第
    1項記載のグロー放電化学処理装置。 3、反応容器の内層が絶縁物である特許請求の範囲第2
    項記載のグロー放電化学処理装置。 4、反応容器の内層が塗布によシ形成される特許請求の
    範囲第1項記載のグロー放電化学処理装置。 5、塗布物が周期律表Wa、Va、 ■a族の窒化物、
    炭化物またはほう化物である特許請求の範囲第4項記載
    のグロー放電化学処理装置。
JP3060182A 1982-03-01 1982-03-01 グロ−放電化学処理装置 Pending JPS58151469A (ja)

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JP3060182A JPS58151469A (ja) 1982-03-01 1982-03-01 グロ−放電化学処理装置

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JP3060182A JPS58151469A (ja) 1982-03-01 1982-03-01 グロ−放電化学処理装置

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JPS58151469A true JPS58151469A (ja) 1983-09-08

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ID=12308383

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JP3060182A Pending JPS58151469A (ja) 1982-03-01 1982-03-01 グロ−放電化学処理装置

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62218570A (ja) * 1986-03-20 1987-09-25 Canon Inc 堆積膜製造装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62218570A (ja) * 1986-03-20 1987-09-25 Canon Inc 堆積膜製造装置

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