JPS6180103A - カラ−フイルタの製造方法 - Google Patents
カラ−フイルタの製造方法Info
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- JPS6180103A JPS6180103A JP59200442A JP20044284A JPS6180103A JP S6180103 A JPS6180103 A JP S6180103A JP 59200442 A JP59200442 A JP 59200442A JP 20044284 A JP20044284 A JP 20044284A JP S6180103 A JPS6180103 A JP S6180103A
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- JP
- Japan
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- color filter
- layer
- substrate
- filter layer
- solvent
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
- G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本出明はカラーフィルターの製造方法に関し、災に詳し
くは、固体撮像素子、撮像管もしくはガラス板などの基
板上に高精細なカラーフィルタ層を形成する工程の改良
方法に関するものである。
くは、固体撮像素子、撮像管もしくはガラス板などの基
板上に高精細なカラーフィルタ層を形成する工程の改良
方法に関するものである。
固体撮像素子、撮像管またはガラス板上に・カラーフィ
ルタ層を形成する方法としては、従来、被染色性のレジ
ストを上記基板上に設け、露光・現像して染色所望域を
パターン化し、しかる後、該パターン域を各種染色を用
いて染色することに工９、フィルタ層を形成する所謂「
染色法」が知られている。この染色法においては、染色
域のパターン形状改善、染色層の膜厚均一化による分光
特性の再現安定化を主な目的として、染色層形成に先立
ち、基板上に透明な平滑化層を設けることが多い。
ルタ層を形成する方法としては、従来、被染色性のレジ
ストを上記基板上に設け、露光・現像して染色所望域を
パターン化し、しかる後、該パターン域を各種染色を用
いて染色することに工９、フィルタ層を形成する所謂「
染色法」が知られている。この染色法においては、染色
域のパターン形状改善、染色層の膜厚均一化による分光
特性の再現安定化を主な目的として、染色層形成に先立
ち、基板上に透明な平滑化層を設けることが多い。
しかしながら、上記方法にぶって基板上に形成されたカ
ラーフィルタ層には、レジストの塗布ムラ、現像ムラ、
リンスムラまたは染色ムラ等にニジ、層全体にムラが生
じる。また、カラーフィルタ層の形成時に、ゴミ等の付
着によりカラーフィルタ層上に黒キズが生じ、不良とな
ることがある。
ラーフィルタ層には、レジストの塗布ムラ、現像ムラ、
リンスムラまたは染色ムラ等にニジ、層全体にムラが生
じる。また、カラーフィルタ層の形成時に、ゴミ等の付
着によりカラーフィルタ層上に黒キズが生じ、不良とな
ることがある。
更に、取扱い時の不注意等により、カラーフィルタ層に
キズがついて不良となる場合もある。
キズがついて不良となる場合もある。
とくに、固体撮像素子上にカラーフィルタ層を形成する
場合には、上記不良が発生した際、素子を回収して再び
カッ−フィルタ層を形成し直すことも重要なことである
。固体撮像素子を回収しフィルタ層を形成し直す場合Ｉ
Ｉ′ｉ、一旦素子からカラーフィルタＳｔ−剥離しなけ
ればならないが、通常カラーフィルタ層を剥離する方法
としては、過酸化水素と硫酸等による酸処理方法、水酸
化ナトリウム水溶液や水酸化カリウム水溶液に全体を浸
漬して剥離する方法などが利用される。しかし、これら
の方法によれば、カラーフィルタ層を容易に剥離するこ
とができるものの、基板表面を荒すだけではなく、素子
表面にあるアルミ配線を溶解させてしまうため、剥離後
素子を再生使用することはできない。
場合には、上記不良が発生した際、素子を回収して再び
カッ−フィルタ層を形成し直すことも重要なことである
。固体撮像素子を回収しフィルタ層を形成し直す場合Ｉ
Ｉ′ｉ、一旦素子からカラーフィルタＳｔ−剥離しなけ
ればならないが、通常カラーフィルタ層を剥離する方法
としては、過酸化水素と硫酸等による酸処理方法、水酸
化ナトリウム水溶液や水酸化カリウム水溶液に全体を浸
漬して剥離する方法などが利用される。しかし、これら
の方法によれば、カラーフィルタ層を容易に剥離するこ
とができるものの、基板表面を荒すだけではなく、素子
表面にあるアルミ配線を溶解させてしまうため、剥離後
素子を再生使用することはできない。
本発明は、基板及び付属部品に悪影響を及ぼすことなく
、容易にカラーフィルタ層を剥離し得るカラーフィルタ
の製造方法の提供を目的とする。
、容易にカラーフィルタ層を剥離し得るカラーフィルタ
の製造方法の提供を目的とする。
本発明のカラーフィルタの製造方法は、基板上にカラー
フィルタ層を形成する工程において、該基板とカラーフ
ィルタ層との間に、光に対して感応せず、かつ透明であ
って、しかも有機溶媒にＬシ剥離可能な剥離層を設ける
ことを特徴とする。
フィルタ層を形成する工程において、該基板とカラーフ
ィルタ層との間に、光に対して感応せず、かつ透明であ
って、しかも有機溶媒にＬシ剥離可能な剥離層を設ける
ことを特徴とする。
以下１本発明を更に詳細に説明する。
本発明において基板とカラーフィルタ層との間に設けら
れる剥離層は、光に対して感応せず、かつ透明な材料か
ら形成される。かかる性質を有する材料を用いるのは、
固体撮像素子中のホトダイオードに外部の光がそのまま
入射されるようにする友めである。ここで、光に対して
感応しないとは、可視光又は紫外線に対して感応しない
ことを意味する。ま屍、剥離層全形成する材料は、 Ｍ
ＯＳもしくはＣＯＤなどの固体撮像素子上に剥離層を設
ける場合、素子表面及び素子の動作特性を損わない剥離
液に工って容易に剥離され得るものでなければならない
。したがって１本発明では素子に悪影響を与えない有機
溶媒に工って剥離される材料が用いられる。更に、この
材料は、カラーフィルタ層を形成するのに際して、剥離
層が変質したり又は剥離しないことが望まれる。即ち、
レジスト溶液の塗布、現像及びリンス工程において変質
せず、かつレジストの染色工程において染料が沈着した
！１あるいは変色することがなく、しかもこれらの工程
において剥離しないことが望ましい。
れる剥離層は、光に対して感応せず、かつ透明な材料か
ら形成される。かかる性質を有する材料を用いるのは、
固体撮像素子中のホトダイオードに外部の光がそのまま
入射されるようにする友めである。ここで、光に対して
感応しないとは、可視光又は紫外線に対して感応しない
ことを意味する。ま屍、剥離層全形成する材料は、 Ｍ
ＯＳもしくはＣＯＤなどの固体撮像素子上に剥離層を設
ける場合、素子表面及び素子の動作特性を損わない剥離
液に工って容易に剥離され得るものでなければならない
。したがって１本発明では素子に悪影響を与えない有機
溶媒に工って剥離される材料が用いられる。更に、この
材料は、カラーフィルタ層を形成するのに際して、剥離
層が変質したり又は剥離しないことが望まれる。即ち、
レジスト溶液の塗布、現像及びリンス工程において変質
せず、かつレジストの染色工程において染料が沈着した
！１あるいは変色することがなく、しかもこれらの工程
において剥離しないことが望ましい。
以上の工うな条件全溝たす剥離層の材料としては、カラ
ーフィルタ層で用いられるレジスト材料にエフ異なるが
、通常、ポリスチレン、ポリ−α−メチルスチレンなど
のスチレン系樹脂；ポリメチルアクリレート、ポリエチ
ルアクリレート、ポリ−１，１，１−）リフルオロエチ
ル−α−クロロアクリレートなどのアクリル酸エステル
樹脂；ポリメチルメタクリレート、ポリエチルメタクリ
レート、ポリ−１ｐ １＊ １− トリフルオロエチル
メタクリレートなどのメタクリル酸エステル樹脂；カー
ボネート樹脂；ポリジメチルシロキサン、ポリジフェニ
ルシロキサンなどのシリコーンイ封脂；ポリー４−メチ
ルペンテンなどが用いられる。これらの樹脂の中では、
光に対してより感応しにくく、かつ透明度が高いという
理由から、ポリスチレン、メタクリル酸エステル樹脂、
ポリカーボネートなどが好ましい。
ーフィルタ層で用いられるレジスト材料にエフ異なるが
、通常、ポリスチレン、ポリ−α−メチルスチレンなど
のスチレン系樹脂；ポリメチルアクリレート、ポリエチ
ルアクリレート、ポリ−１，１，１−）リフルオロエチ
ル−α−クロロアクリレートなどのアクリル酸エステル
樹脂；ポリメチルメタクリレート、ポリエチルメタクリ
レート、ポリ−１ｐ １＊ １− トリフルオロエチル
メタクリレートなどのメタクリル酸エステル樹脂；カー
ボネート樹脂；ポリジメチルシロキサン、ポリジフェニ
ルシロキサンなどのシリコーンイ封脂；ポリー４−メチ
ルペンテンなどが用いられる。これらの樹脂の中では、
光に対してより感応しにくく、かつ透明度が高いという
理由から、ポリスチレン、メタクリル酸エステル樹脂、
ポリカーボネートなどが好ましい。
本発明のカラーフィルタの製造方法は、上記材料からな
る剥離層を設ける工程が新たに加わった以外は、全て従
来公知の方法と同一でよい。基板として固体撮像素子を
用いた場合につき、以下に本発明におけるカラーフィル
タの製造方法の一例を述べる。
る剥離層を設ける工程が新たに加わった以外は、全て従
来公知の方法と同一でよい。基板として固体撮像素子を
用いた場合につき、以下に本発明におけるカラーフィル
タの製造方法の一例を述べる。
まず、前記樹脂を有機溶媒に溶解せしめて塗布溶液を調
整する。ここで、有機溶媒は、前記樹脂を溶解せしめる
ことができて、かつ素子に悪影響を与えないものであれ
ば格別限定されず、その具体例としては、例えば、ベン
ゼン、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチ
ルイソプデルケトン、シクロヘキサノン、シクロヘキセ
ン、トリフレｙなどが挙げられる。かかる溶媒は、樹脂
の８ｉ類に応じて適宜に選択される。次いで、固体撮像
素子上に上記塗布溶液を所定量塗布し、しかる後乾燥さ
せて剥離層を形成する。塗布方法としてｆ″１回転塗布
法（スピンコード法ン、浸漬法（ディップ法］などがあ
るが、いずれを採用してもよい。また、乾燥は風乾でも
加熱しながらであっても＝い。続いて必要であれば、カ
ラーフィルタ層上平滑に形成する目的で、平滑化層を設
ける。該層は例えば、ネガ型透明レジスト溶液を所定量
剥離層上に塗布し、しかる後所定のパターンに露光し、
現像することにより形成される。なお、平滑化層を設け
た場合は、該層をマスクとして剥離層の不必要な部分を
エツチングする。
整する。ここで、有機溶媒は、前記樹脂を溶解せしめる
ことができて、かつ素子に悪影響を与えないものであれ
ば格別限定されず、その具体例としては、例えば、ベン
ゼン、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチ
ルイソプデルケトン、シクロヘキサノン、シクロヘキセ
ン、トリフレｙなどが挙げられる。かかる溶媒は、樹脂
の８ｉ類に応じて適宜に選択される。次いで、固体撮像
素子上に上記塗布溶液を所定量塗布し、しかる後乾燥さ
せて剥離層を形成する。塗布方法としてｆ″１回転塗布
法（スピンコード法ン、浸漬法（ディップ法］などがあ
るが、いずれを採用してもよい。また、乾燥は風乾でも
加熱しながらであっても＝い。続いて必要であれば、カ
ラーフィルタ層上平滑に形成する目的で、平滑化層を設
ける。該層は例えば、ネガ型透明レジスト溶液を所定量
剥離層上に塗布し、しかる後所定のパターンに露光し、
現像することにより形成される。なお、平滑化層を設け
た場合は、該層をマスクとして剥離層の不必要な部分を
エツチングする。
次いで、平滑化層上又は該層を設けない場合は剥離層上
に水溶性レジストを塗布し、しかる後露光・現稼して所
定のパターンを形成する。続いて染色液中に浸漬した後
、水洗・乾燥することにエフカラーフィルタ層が形成さ
れる。なお、必要であれば、更に前記平滑化層に用いた
ものと同様のレジスト溶液１＆：塗布し、露光・現像し
て所定のパターンを形成することに１９．オーバーコー
ト保握層を設ける。
に水溶性レジストを塗布し、しかる後露光・現稼して所
定のパターンを形成する。続いて染色液中に浸漬した後
、水洗・乾燥することにエフカラーフィルタ層が形成さ
れる。なお、必要であれば、更に前記平滑化層に用いた
ものと同様のレジスト溶液１＆：塗布し、露光・現像し
て所定のパターンを形成することに１９．オーバーコー
ト保握層を設ける。
以上の操作Ｐこよってカラーフィルタが製造されるが、
固体撮像素子上にまず平滑化層を設け、その上に剥離層
を形成してもよい。なお、固体撮像素子以外の基板を用
いてカラーフィルタを製造する場合も、上記と同様の操
作に１９行うことができる。
固体撮像素子上にまず平滑化層を設け、その上に剥離層
を形成してもよい。なお、固体撮像素子以外の基板を用
いてカラーフィルタを製造する場合も、上記と同様の操
作に１９行うことができる。
上記方法により形成されたカラーフィルタ層に何らかの
問題が生じ、基板を回収しなければならなくなった場合
は、剥離Ｎ１ｔ−形成するために用いた前記有機溶媒中
にカッ・−フィルタを所定時間浸漬しておくたけで、力
９−フィルタ層を＃艇することができ、基板が回収され
る。浸漬時間は数分程度でよい。加熱した有縁溶媒中に
浸漬した場合は、数秒程度でカラーフィルタ層が剥離さ
れる。
問題が生じ、基板を回収しなければならなくなった場合
は、剥離Ｎ１ｔ−形成するために用いた前記有機溶媒中
にカッ・−フィルタを所定時間浸漬しておくたけで、力
９−フィルタ層を＃艇することができ、基板が回収され
る。浸漬時間は数分程度でよい。加熱した有縁溶媒中に
浸漬した場合は、数秒程度でカラーフィルタ層が剥離さ
れる。
なお、本発明では剥離層を有するカラーフィルタが得ら
れるが、該フィルタは従来の剥離層を有しないカッ−フ
ィルタと比べて１機能的に何ら劣るものではない。また
、カラーフィルタ層を剥離するのに用いる有機溶媒は、
従来からレジスト溶液を調整する際に用いられていたも
のと同一でよいため、基板及びその付属部品に悪影響を
及ぼすおそれは全くない。
れるが、該フィルタは従来の剥離層を有しないカッ−フ
ィルタと比べて１機能的に何ら劣るものではない。また
、カラーフィルタ層を剥離するのに用いる有機溶媒は、
従来からレジスト溶液を調整する際に用いられていたも
のと同一でよいため、基板及びその付属部品に悪影響を
及ぼすおそれは全くない。
工発明の動態〕
従来法では基板からカラーフィルタを剥ｍｆるために、
強酸もしくは強アルカリを用いていたため、基板が汚染
された９表面性が低下し、あるいは固体撮像素子が損傷
をうけてい九が、本発明を用いることにニジ、これらの
弊害がなくなった。
強酸もしくは強アルカリを用いていたため、基板が汚染
された９表面性が低下し、あるいは固体撮像素子が損傷
をうけてい九が、本発明を用いることにニジ、これらの
弊害がなくなった。
とくに固体撮像素子に本発明を適用し次場合は。
該素子は全く損傷を受けず、その動作特性に何らの変動
を生じることもなく再生使用することが可能となった。
を生じることもなく再生使用することが可能となった。
これＫより、各工程における失敗による基板の回収とカ
ラーフィルム層形成のやり直しが可能となり、検査工程
などを省くことができる↓うになった。
ラーフィルム層形成のやり直しが可能となり、検査工程
などを省くことができる↓うになった。
実施例１〜１０
００１）固体撮像素子上に第１表に示し次実雄側１〜１
０のポリマ溶液（粘度１０００Ｐ）を、５．００Ｏｒｐ
ｍで回転する回転塗布装置に工９それぞれ膜厚０．５μ
ｍとなる＝う塗布し、加熱乾燥させて剥離層を設けた。
０のポリマ溶液（粘度１０００Ｐ）を、５．００Ｏｒｐ
ｍで回転する回転塗布装置に工９それぞれ膜厚０．５μ
ｍとなる＝う塗布し、加熱乾燥させて剥離層を設けた。
続いて、カラーフィルタ層を設ケた。すなわち、カラー
フィルタ層を正確に設けるため、グリシジルメタクリレ
ートと４′−メタクロイロキシカルコンもしくは４−メ
タクロイロキシカルコンとの共重合体からなるネガ製透
明レジストを１回転塗布により、１．５〜３μｍの膜厚
となるよう塗布し、しかる後遠紫外線露光装置（キャノ
ン＠）製、ＭＰＡ−５２ＱＦＡ） ｔ−用い、所定のパ
ターンを形成して平滑化層を設けた。この際、平滑用レ
ジストをマスクとして、下の剥離層の不必要な部分を有
事溶媒でエツチングした。
フィルタ層を正確に設けるため、グリシジルメタクリレ
ートと４′−メタクロイロキシカルコンもしくは４−メ
タクロイロキシカルコンとの共重合体からなるネガ製透
明レジストを１回転塗布により、１．５〜３μｍの膜厚
となるよう塗布し、しかる後遠紫外線露光装置（キャノ
ン＠）製、ＭＰＡ−５２ＱＦＡ） ｔ−用い、所定のパ
ターンを形成して平滑化層を設けた。この際、平滑用レ
ジストをマスクとして、下の剥離層の不必要な部分を有
事溶媒でエツチングした。
続いて、カラーフィルタ層のレジストとして、ゼラチン
水溶液に１０重量−重クロム酸アンモニウムを添加する
ことにより水溶性レジストを調製した。しかる後、該レ
ジス）１一回転塗布装置にて塗布し、上記遠紫外線露光
装置にて所定のパターンを形成した。その後、染色液中
に浸漬し次後、水洗・乾燥してカラーフィルタ層を形成
した。
水溶液に１０重量−重クロム酸アンモニウムを添加する
ことにより水溶性レジストを調製した。しかる後、該レ
ジス）１一回転塗布装置にて塗布し、上記遠紫外線露光
装置にて所定のパターンを形成した。その後、染色液中
に浸漬し次後、水洗・乾燥してカラーフィルタ層を形成
した。
更に、カラーフィルタ層を保護するため、上記平滑層レ
ジストと同等のものを回転塗布装置にて塗布し、上記遠
紫外線露光装置にて、所定のパターンを形成して、オー
バーコート保護層を設けた。
ジストと同等のものを回転塗布装置にて塗布し、上記遠
紫外線露光装置にて、所定のパターンを形成して、オー
バーコート保護層を設けた。
この工うにして得たカラーフィルタ層にゴミ等が付着し
たと仮定し、素子を回収するべく核層の剥１ｌｌｉを進
めた。すなわち、カラーフィルタを形成したＣＯＤ固体
撮像素子を、剥離層を形成するために溶解したものと同
一の有機溶媒中に浸漬したところ、数分でカラーフィル
タ層が剥離されること１＆：確認し友。
たと仮定し、素子を回収するべく核層の剥１ｌｌｉを進
めた。すなわち、カラーフィルタを形成したＣＯＤ固体
撮像素子を、剥離層を形成するために溶解したものと同
一の有機溶媒中に浸漬したところ、数分でカラーフィル
タ層が剥離されること１＆：確認し友。
第１表
実施例１１〜２２
００Ｄ固体撮像素子表面を平滑とするため、グリシジル
メタクリレートと４′−メタクロイロキシカルコ／お工
び４−メタクロイロキシカルコ／のうちの少なくとも一
種類とからなる共重合体のネガ型レジストを、回転塗布
により、１．５〜３μｍの膜厚となるよう塗布し、しか
る後遠紫外ｍｕ光装＊（中ヤノ／（株）製、ＭＰＡ−５
２０ＦＡ） ｔ−用いて所定のパターン形成を行ない、
平滑にした。
メタクリレートと４′−メタクロイロキシカルコ／お工
び４−メタクロイロキシカルコ／のうちの少なくとも一
種類とからなる共重合体のネガ型レジストを、回転塗布
により、１．５〜３μｍの膜厚となるよう塗布し、しか
る後遠紫外ｍｕ光装＊（中ヤノ／（株）製、ＭＰＡ−５
２０ＦＡ） ｔ−用いて所定のパターン形成を行ない、
平滑にした。
続いて、第２表に示した実施例１１〜２２のポリマ溶液
（粘度１００ ａＰ ） ′ｆｊ：、 ５０００ ｒ
ｐｍで回転する回転塗布装置に工すそれぞれ膜厚０．５
μｍとなる工う塗布し、加熱乾燥させて剥離層を設けた
。
（粘度１００ ａＰ ） ′ｆｊ：、 ５０００ ｒ
ｐｍで回転する回転塗布装置に工すそれぞれ膜厚０．５
μｍとなる工う塗布し、加熱乾燥させて剥離層を設けた
。
その後、カラーフィルタ層ｔ−，実施例１〜１０と同様
にして設けた。更に、力２−フィルタ層を保護するため
にオーバーコート保護層を設けた。
にして設けた。更に、力２−フィルタ層を保護するため
にオーバーコート保護層を設けた。
この工うにして得たカラーフィルタ層にゴミ等が付着し
たと仮定し、素子を回収するべく剥１１Ｊ操作を行なっ
た。すなわち、剥離層を形成するために用い友ものと同
一の有機ｍ媒中にこのカラーフィルタ層に６２漬したと
ころ、数分でカラーフィルタ層が完全に剥離されること
が確認された。
たと仮定し、素子を回収するべく剥１１Ｊ操作を行なっ
た。すなわち、剥離層を形成するために用い友ものと同
一の有機ｍ媒中にこのカラーフィルタ層に６２漬したと
ころ、数分でカラーフィルタ層が完全に剥離されること
が確認された。
第２表
比較例１〜８
００Ｄ固体撮像素子上にグリシジルメタクリレートと４
−メタクロイロキシカルコ／との共重合体から成るネガ
型透明しジストｔ−塗布し遠紫外線露光装置を用い所定
のバター／を形成して平滑層を設けた。続いて、力２−
フィルタ層ｔ″実施例１に従い形成し、更にオーバーコ
ート層を設けた。
−メタクロイロキシカルコ／との共重合体から成るネガ
型透明しジストｔ−塗布し遠紫外線露光装置を用い所定
のバター／を形成して平滑層を設けた。続いて、力２−
フィルタ層ｔ″実施例１に従い形成し、更にオーバーコ
ート層を設けた。
この工うにして得た力２−フィルタ層にゴミ等が付着し
たと仮定し、素子を回収すべく第３表に示した比較例１
〜Ｂの溶液を用い剥離をすすめた。
たと仮定し、素子を回収すべく第３表に示した比較例１
〜Ｂの溶液を用い剥離をすすめた。
その結果、比較例１〜３ではアルカリ溶液であるため、
素子表面に露出°しているＡｌｔ極部が腐食され、回収
再生不能となった。また、比較例４〜８の溶液を用いて
剥離を進めたところ、カラーフィルタ層は全く変化せず
剥離回収ができなかった。
素子表面に露出°しているＡｌｔ極部が腐食され、回収
再生不能となった。また、比較例４〜８の溶液を用いて
剥離を進めたところ、カラーフィルタ層は全く変化せず
剥離回収ができなかった。
Claims (2)
- （１）基板上にカラーフィルタ層を形成する工程におい
て、該基板とカラーフィルタ層との間に、光に対して感
応せずかつ透明であつて、しかも有機溶媒により剥離可
能な剥離層を設けることを特徴とするカラーフィルタの
製造方法。 - （２）剥離層がスチレン系樹脂、アクリル酸エステル樹
脂、メタクリル酸エステル樹脂又はカーボネート樹脂か
らなる特許請求の範囲第１項記載の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59200442A JPS6180103A (ja) | 1984-09-27 | 1984-09-27 | カラ−フイルタの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59200442A JPS6180103A (ja) | 1984-09-27 | 1984-09-27 | カラ−フイルタの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6180103A true JPS6180103A (ja) | 1986-04-23 |
Family
ID=16424361
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59200442A Pending JPS6180103A (ja) | 1984-09-27 | 1984-09-27 | カラ−フイルタの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6180103A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10289991A (ja) * | 1997-04-15 | 1998-10-27 | Toppan Printing Co Ltd | リニア型カラー固体撮像素子 |
| JP2014160460A (ja) * | 2013-01-25 | 2014-09-04 | Fujifilm Corp | 透明樹脂膜、転写フィルム、導電膜積層体、静電容量型入力装置および画像表示装置 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS49116915A (ja) * | 1973-03-09 | 1974-11-08 |
-
1984
- 1984-09-27 JP JP59200442A patent/JPS6180103A/ja active Pending
Patent Citations (1)
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