JP2956732B2

JP2956732B2 - 固体撮像装置カラーフィルターの製造方法

Info

Publication number: JP2956732B2
Application number: JP12718892A
Authority: JP
Inventors: 幸司下村; 義和佐野
Original assignee: Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Current assignee: Panasonic Holdings Corp
Priority date: 1992-05-20
Filing date: 1992-05-20
Publication date: 1999-10-04
Anticipated expiration: 2014-10-04
Also published as: JPH05323114A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は固体撮像装置カラーフィ
ルターの製造方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、固体撮像装置（以下ＣＣＤと呼
ぶ）カラーフィルターとしてゼラチン、カゼインなどの
天然材料に重クロム酸アンモニウムを加えた感光材料が
使用されてきた。これが使用されてきたのは従来求めら
れた以下の特性を備えていたためである。

【０００３】（１）０．５〜５μｍ程度の均一な膜厚が
形成できる。（２）２〜２０μｍのパターン形成ができる。

【０００４】（３）透明膜層との接着性が良い。（４）可視光領域において無色透明である。

【０００５】（５）着色剤（酸性染料）により高濃度で
染色でき、変色しない。しかし、重クロム酸塩−天然材料を用いた場合の問題点
は、以下の５点である。

【０００６】（１）ＣＣＤの小型化と高画素化に対し特
性が不十分であり、さらに優れた塗布均一性と解像度と
染色性が求められる。

【０００７】（２）暗反応により貯蔵安定性が短い。（３）温度による感光液の粘度変化が大きい。

【０００８】（４）天然物であるために品質を一定にす
る事が困難である。（５）６価クロムの有害性がある。

【０００９】このような問題点から新しいフォトレジス
トの開発が望まれていた。その結果、数多くの異なる反
応機構を持つフォトレジストが開発されている。この新
しいフォトレジストは溶媒として用いる材料によって次
の２つに分類される。

【００１０】（１）純水を用いるもの（重クロム酸塩−
天然材料と同じ水可溶性材料）（２）有機溶剤を用いるもの（有機溶剤可溶性材料）また、従来の重クロム酸塩−天然材料でカラーフィルタ
ーを形成する工程は、下記の４工程で行われている。

【００１１】（１）デバイス表面を透明膜層により平坦
にする。（２）レジスト表面にカラーフィルター材料を塗布す
る。

【００１２】（３）カラーフィルターパターンを形成す
る。（４）カラーフィルターパターンに染色をする。

【００１３】新しいフォトレジストも溶媒に純水を用い
る水可溶性材料であれば、上記のカラーフィルターを形
成する工程を用いることが出来る。

【００１４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら溶媒に有
機溶剤を用いた有機溶剤可溶性材料では上記の従来のカ
ラーフィルターを形成する工程ではカラーフィルターパ
ターンを形成する事はできない。

【００１５】この原因は、溶媒に有機溶剤を用いた有機
溶剤可溶性のカラーフィルター材料を用いた工程は、初
めにＣＣＤデバイス表面を平坦にするために、有機溶剤
可溶性アクリル材料である透明膜層材料を塗布して、透
明膜層を形成する。次に透明膜層の上に有機溶剤可溶性
のカラーフィルター材料を塗布する。この時透明膜層は
有機溶剤に溶解する。したがって、透明膜層の上に溶剤
可溶性のカラーフィルター材料を塗布した場合、透明膜
層とカラーフィルター層との間に両方が混ざり合った混
合層ができる。そのため従来の重クロム酸塩−天然材料
を用いて従来のカラーフィルター形成工程でカラーフィ
ルターパターンを形成した場合、カラーフィルター材料
を除去した部分に混合層が残存する。このため染色工程
後、混合層にも染色が行なわれる。

【００１６】このように有機溶剤可溶性のカラーフィル
ター材料をＣＣＤのカラーフィルター材料として用いる
場合、重クロム酸塩−天然材料を用いた従来のカラーフ
ィルター形成方法ではカラーフィルターを形成できない
という問題点を有していた。

【００１７】本発明は上記問題点に鑑み、有機溶剤可溶
性の透明膜層の上に有機溶剤可溶性のカラーフィルター
材料を用いてカラーフィルターを形成するための方法を
提供するものである。

【００１８】

【課題を解決するための手段】上記問題点を解決するた
めに本発明の固体撮像装置カラーフィルターの製造方法
は、固体撮像装置デバイス上に透明膜層を形成する工程
と、前記透明膜層の平面上にカラーフィルター層を形成
する工程と、前記カラーフィルター層の所定領域に紫外
線光の照射を行なう工程と、前記紫外線光照射により生
じた前記カラーフィルター層の溶解性の高い部分を除去
してカラーフィルターパターンを形成する工程と、前記
カラーフィルター層を除去した前記透明膜層上に形成さ
れた混合層を除去する工程とを備えている。

【００１９】また、固体撮像装置デバイス上に透明膜層
を形成する工程と、前記透明膜層の平面上に混合防止層
を形成する工程と、前記混合防止層の平面上にカラーフ
ィルター層を形成する工程と、前記混合防止層とカラー
フィルター層との所定領域に紫外線光の照射を行なう工
程と、前記紫外線光照射により生じた前記カラーフィル
ター層の溶解性の高い部分を除去してカラーフィルター
パターンを形成する工程とを備えている。

【００２０】

【作用】本発明は上記に示す方法によって染色工程後カ
ラーフィルター材料を除去した場所に染色されなくなる
為、有機溶剤可溶性の材料をＣＣＤカラーフィルターと
して用いる事ができる。

【００２１】

【実施例】以下本発明の第１の実施例について、図面を
参照にしながら説明する。

【００２２】初めに本実施例で用いた透明膜材料につい
て説明する。透明膜材料としてポリメチルメタクリレー
ト（以下ＰＭＭＡと呼ぶ）を主成分とする有機溶剤可溶
性アクリル樹脂を用いる。溶媒はエチルセロソルブ（以
下ＥＣと呼ぶ）である。透明膜材料は遠紫外線光の照射
によりＰＭＭＡの分解が起こり低分子量化される。現像
液にメチルエチルケトン（以下ＭＥＫと略す）とイソプ
ロピルアルコール（ＩＰＡ）の混合液を用いると照射部
分は溶解して除去される。したがって、遠紫外線光の照
射に対しポジ型の特性を示す。しかし通常の紫外線光
（ｇ線またはｉ線）に対しては感度が低く、パターニン
グする事はできない。

【００２３】つぎに本実施例に使用したカラーフィルタ
ー材料を説明する。カラーフィルター材料は溶剤可溶性
アクリル樹脂と溶剤可溶性アジド化合物の感光剤を主成
分としている。溶媒はＥＣである。カラーフィルター材
料は紫外線光のｉ線を照射するとアジド化合物のアジド
基が分解するのと同時にアクリル樹脂が架橋する。現像
液にＩＰＡを用いると未露光部分は溶解されて除去され
る。また露光部分は残ってパターンを形成する。したが
って、紫外線光のｉ線を照射するとネガ型の特性を示
す。しかし、遠紫外線光には感度が低く、パターニング
されない。また、酸性染料に対し、染料とアクリル樹脂
中のアミノ基が結合する為、染色性を有する。

【００２４】次にカラーフィルターの形成方法につい
て、図面を参照にしながら説明する。図１に示すように
ＣＣＤデバイス１上に透明膜材料を塗布し、透明膜層２
の形成を行なう。透明膜層２を形成した後に加熱処理を
行う。この工程によりＣＣＤデバイス１表面は透明膜層
２により平坦化される。

【００２５】図１の工程において透明膜材料は回転塗布
装置で塗布を行い、透明膜層２を形成する。加熱処理は
２００℃以上で数分間行う。

【００２６】次に図２に示すように、デバイス１を平坦
にした透明膜層２の上にカラーフィルター材料を塗布し
て、カラーフィルター層３の形成を行なう。カラーフィ
ルター層３を形成した後に加熱処理を行なう。

【００２７】ここで本実施例で用いたカラーフィルター
材料は有機溶剤可溶性のアクリル樹脂であり溶媒は有機
溶剤のＥＣである。また透明膜材料も有機溶媒に溶解性
を持つ。したがって、この工程により透明膜層２とカラ
ーフィルター層３との間に、両方が混ざりあった混合層
４が形成される。

【００２８】図２の工程においてカラーフィルター材料
を回転塗布装置で塗布を行い、カラーフィルター層３を
形成する。カラーフィルター層３の膜厚は０．５μｍ以
下である。加熱処理は７０℃から９０℃の範囲で数分間
行う。

【００２９】次に図３に示すようにカラーフィルターの
パターンを有するマスクをフォトマスクとして使用し、
紫外線光の照射を行なう。この照射工程により図２の工
程で形成された混合層４のなかで紫外線光を照射された
混合層は特性変化が生じる。紫外線光が照射された混合
層５は、混合層５に含まれるカラーフィルター材料が光
架橋することにより、混合層５自体にも架橋性が増加す
る。また、紫外線の照射されない混合層６は光架橋は起
こらないので、化学変化は生じない。従って、混合層６
は混合層５よりも架橋性が弱い。

【００３０】図３の工程ではステッパーを用いてｉ線の
照射を行う。露光量は２０ｍＷ／cm ²である。

【００３１】次に図４に示すように、カラーフィルター
層３のうち紫外線の未照射部分をカラーフィルター材料
の現像液に溶解させる。溶解終了後に現像液を除去し
て、加熱処理を行なう。この工程により、カラーフィル
ター層３のうち紫外線の未照射場所は除去されて、カラ
ーフィルターパターン７が形成される。しかし、透明膜
層２とカラーフィルター層３との間に、両方が混ざりあ
った混合層６の除去は行なわれない。

【００３２】図４の工程では現像液にＩＰＡを用いる。
現像液は常温で数分間カラーフィルター層３の溶解を行
う。加熱処理は１４０℃から１６０℃の範囲で数分間行
う。上記の条件でｉ線未照射部分のカラーフィルター材
料の除去は完了する。

【００３３】次に図５に示すように、カラーフィルター
パターン７が形成された後に、遠紫外線光（Ｄｅｅｐ−
ＵＶ）の全面照射を行なう。

【００３４】次に現像工程は図６に示すように、透明膜
層材料の現像液を用いて、混合層６を現像液に溶解させ
る。溶解終了後に現像液を除去して、加熱処理を行な
う。この工程により混合層６は除去される。

【００３５】この図５と図６の２つの工程についてさら
に詳しく説明する。図３の前工程により混合層５と混合
層６との架橋性に差が生じている。そのため、混合層５
と混合層６は遠紫外線の照射量により、その感光特性に
差が生じる。遠紫外線露光量が少ない場合は、混合層６
のみのＰＭＭＡの光分解が進み、図６の工程により混合
層６が除去される。遠紫外線露光量を増やすと混合層６
の除去はさらに進む。しかしこの場合混合層５において
も含まれるＰＭＭＡの光分解が進み、混合層５の除去が
始まる。このため混合層５の上に形成されたカラーフィ
ルターパターンは欠損やはがれが生じる。したがって混
合層６のみ除去を行なう為には、最適な遠紫外線照射量
が必要となる。

【００３６】本実施例で実施した条件では遠紫外線照射
量は７０００ｍＷ／cm²程度まで混合層６のみ除去さ
れ、この値が本実施例における最適値である。また、こ
の最適な遠紫外線照射量は、用いる透明膜材料、透明膜
層２の現像液、カラーフィルター材料、カラーフィルタ
ー層３の現像液、ＣＣＤデバイス条件、図１の工程にお
ける透明膜層２の塗布膜厚、透明膜層２の加熱条件、図
２の工程におけるカラーフィルター層３の塗布膜厚、カ
ラーフィルター層３の加熱条件、図３の工程における紫
外線の照射量、図４におけるカラーフィルター層３の溶
解条件、加熱条件、図６における混合層４の溶解条件に
よって異なる。

【００３７】また図５の工程において、混合層６のみに
遠紫外線光の照射を行なえばカラーフィルターパターン
の欠損やはがれが生じない為、さらに有効である。

【００３８】図５の工程では遠紫外線露光装置にコンタ
クトアライナーを使用する。露光量は５０００ｍＷ／cm
²である。

【００３９】また、図６の現像工程は現像液にＭＥＫと
ＩＰＡとの混合液を用いる。現像液の温度は常温で数分
間混合層４の溶解を行う。加熱処理は１４０℃から１６
０℃での範囲で数分間行う。

【００４０】次に図７に示すように、形成されたカラー
フィルターパターン７は酸性染料に浸水させて染色を行
ない、次に固着液に浸水させて固着を行なう。固着終了
後に加熱処理を行なう。

【００４１】図７の工程では染色液として０．０１ｗｔ
％のマゼンタ（以下Ｍｇと略す）酸性染料を使用した。
染色液温度は３０℃から７０℃の範囲である。染色液に
数分間浸水した後に常温の純水を使用して洗浄処理を数
分間行う。次に回転による振り切りと加熱処理により脱
水を行う。また、本実施例では固着処理は削除する。

【００４２】図１から図７の工程が終了すると、カラー
フィルター８が形成されている。別のカラーフィルター
を形成する為には、上記図１から図７までの工程を繰り
返す。

【００４３】図８に第１の実施例の透過率測定結果を示
す。線９と線１０は本発明の分光特性を示す。線９はカ
ラーフィルターパターンが形成された部分の特性を示
す。線１０はカラーフィルター材料が除去された部分の
特性を示す。

【００４４】線１１と線１２は従来の方法で行った場合
の分光特性を示す。従来の方法は本発明の図５と図６の
工程を削除したプロセスであり、図１，２，３，４，７
の順序で行っている。線１１はカラーフィルターパター
ン７が形成された部分の特性を示す。線１２はカラーフ
ィルター材料が除去された部分の特性を示す。

【００４５】図８から、線９と線１１では分光特性に差
が生じていないことがわかる。また、表面観察と断面観
察からカラーフィルター８のパターン形状に差は見られ
ない。しかし、カラーフィルター材料が除去された部分
においては従来方法の線１２では最低値８０％であり、
混合層６が染色されている。本実施例の線１０では最低
値９４％と高い透過率を示している。したがって、本実
施例では透明膜層２とカラーフィルター層３との間の両
方が混ざりあった混合層６は除去されていることがわか
る。

【００４６】上記した方法によって混合層６の除去が進
み、染色工程後カラーフィルター材料を除去した場所が
染色されなくなる。したがって、有機溶剤可溶性の材料
をＣＣＤカラーフィルターとして用いる事ができる。

【００４７】また顔料分散型カラーフィルター材料を用
いて上記の方法でカラーフィルターを形成する場合も本
発明が有効である。カラーフィルター材料を除去した透
明膜層の上に形成された顔料の残存を除去する事ができ
る。したがって、顔料分散型カラーフィルター材料をＣ
ＣＤカラーフィルターとして用いる事ができる。

【００４８】前述した発明は理解を明瞭にするために図
解および例示の方法によって詳細に説明したけれども、
ある変化およびある変形は添付した特許請求の範囲で行
なわれ得ることは明らかである。

【００４９】次に、以下本発明の第２の実施例につい
て、図面を参照にしながら説明する。初めに本実施例で
用いた混合防止材料について説明する。混合防止材料は
水可溶性アクリル樹脂を主成分とする。溶媒は純水であ
る。

【００５０】次に本実施例で用いた透明膜材料について
説明する。透明膜材料は有機溶剤可溶性のアクリル樹脂
を主成分とする。溶媒はＥＣである。

【００５１】次に本実施例に使用したカラーフィルター
材料を説明する。カラーフィルター材料は溶剤可溶性ア
クリル樹脂と溶剤可溶性アジド化合物の感光剤を主成分
とする。溶媒はＥＣである。カラーフィルター材料は紫
外線光のｉ線を照射するとアジド化合物のアジド基が分
解するのと同時にアクリル樹脂を架橋する。現像液にＩ
ＰＡを用いると未露光部分は溶解されて除去される。ま
た露光部分は残ってパターンを形成する。したがって、
紫外線光のｉ線を照射するとネガ型の特性を示す。しか
し、低波長側紫外線光には感度が低く、パターニングさ
れない。また、酸性染料に対し、染料とアクリル樹脂中
のアミノ基が結合する為、染色性を有する。

【００５２】次に本発明の第２の実施例であるカラーフ
ィルターの形成方法について、図面を参照にしながら説
明する。

【００５３】図９に示すようにＣＣＤデバイス１上に透
明膜材料を塗布して透明膜層２の形成を行なう。透明膜
層２を形成した後に加熱処理を行う。この工程によりＣ
ＣＤデバイス表面は透明膜層２により平坦化される。

【００５４】図９の工程において透明膜材料は回転塗布
装置で塗布を行い、透明膜層２を形成する。加熱処理は
２００℃以上で数分間行う。

【００５５】次に図１０に示すように、ＣＣＤデバイス
１を平坦にした透明膜層２の上に混合防止材料の塗布を
行ない、混合防止層１３を形成する。混合防止層１３を
形成した後に加熱処理を行う。透明膜層２は純水には溶
けない。したがって、透明膜層２と混合防止層１３との
間に、両方が混ざりあった混合層４が形成されない。

【００５６】図１０の工程において混合防止層材料を回
転塗布装置で塗布を行い、混合防止層１３をする。混合
防止層１３の膜厚は０．２μｍ以下である。加熱処理は
７０℃から９０℃の範囲で数分間行う。

【００５７】次に図１１に示すように、混合防止層１３
の上にカラーフィルター材料の塗布を行ない、カラーフ
ィルター層３を形成する。カラーフィルター層３を形成
した後に加熱処理を行なう。混合防止材料は有機溶剤に
溶けない。したがって、混合防止層１３とカラーフィル
ター層３との間に、両方が混ざりあった混合層４は形成
されない。

【００５８】図１１の工程においてカラーフィルター材
料を回転塗布装置で塗布を行い、カラーフィルター層３
を形成する。カラーフィルター層の膜厚は０．５μｍ以
下である。加熱処理は７０℃から９０℃の範囲で数分間
行う。

【００５９】次に図１２に示すようにカラーフィルター
のパターンを有するマスクをフォトマスクとして使用
し、紫外線光の照射を行なう。紫外線光が照射された混
合防止層１３とカラーフィルター層３とは光架橋が進
む。また、混合防止材料は紫外線光の照射によるジアゾ
基の分解により窒素ガスを発生する。しかし、このガス
は混合防止層１３とカラーフィルター層３に残存せずに
大気中に抜ける。

【００６０】図１２の工程ではステッパーを用いてｉ線
の照射を行う。露光量は２０ｍＷ／cm²である。

【００６１】次に図１３に示すように、カラーフィルタ
ー層３のうち紫外線の未照射領域をカラーフィルター材
料の現像液に溶解させる。溶解終了後に現像液を除去す
る。この工程により、カラーフィルター層３のうち紫外
線の未照射部分は除去されて、カラーフィルターパター
ン７が形成される。

【００６２】図１３の工程では現像液にＩＰＡを用い
る。現像液は常温で数分間カラーフィルター層３の溶解
を行う。上記の条件でｉ線未照射部分のカラーフィルタ
ー層３の除去は完了する。

【００６３】次に図１４に示すように、形成されたカラ
ーフィルターパターン７は酸性染料に浸水させて染色を
行ない、次に固着液に浸水させて固着を行なう。固着終
了後に加熱処理を行なう。

【００６４】図１４の工程では染色液として０．０１ｗ
ｔ％のＭｇ酸性染料を用いる。染色液温度は３０℃から
７０℃の範囲である。染色時間は数分間である。染色液
に浸水した後に常温の純水を使用して洗浄処理を数分間
行う。次に回転による振り切りと加熱処理により脱水を
行う。また、本実施例では固着処理は削除する。

【００６５】図９から図１４まで工程終了により、カラ
ーフィルター８が形成される。別のカラーフィルター８
を形成する為には、上記図９から図１４までの工程を繰
り返す。

【００６６】図１５において本実施例の透過率測定結果
を示す。線１４と線１５は本発明の分光特性を示す。線
１４はカラーフィルターパターン７が形成された部分の
特性を示す。線１５はカラーフィルター材料と混合防止
材料とが除去された部分の特性を示す。

【００６７】線１６と線１７は従来方法による分光特性
を示す。従来方法では本発明の図１０と図１４の工程を
削除したプロセスであり、図９，１１，１２，１３の順
序で行った。線１６はカラーフィルターパターン７が形
成された部分を示す。線１７はカラーフィルター材料が
除去された部分を示す。

【００６８】図１５から、線１４と線１６とでは分光特
性に差がないことがわかる。また、表面観察と断面観察
からカラーフィルター８のパターン形状に差は見られな
い。しかし、カラーフィルター材料が除去された部分に
おいては従来方法の線１７では最低値８５％となってお
り、混合層４が染色されているのに対し、本実施例の線
１５では可視光領域において１００％透過率を示してい
る。したがって、カラーフィルター材料を除去した部分
は現像工程が完全に終了している。透明膜層２と混合防
止層１３との間に両方が混じりあった混合層４は形成さ
れていない。またカラーフィルター層３と混合防止層１
３との間に両方が混じりあった混合層４は形成されてい
ない。

【００６９】上記した方法によって染色工程後カラーフ
ィルター材料を除去した場所が染色されなくなる。した
がって、有機溶剤可溶性の材料をＣＣＤカラーフィルタ
ーとして用いる事ができる。

【００７０】また顔料分散型カラーフィルター材料を用
いて上記の方法でカラーフィルターを形成する場合も本
発明が有効である。透明膜層２と混合防止層１３との間
に両方が混じりあった混合層４は形成されない。またカ
ラーフィルター層３と混合防止層１３との間に両方が混
じりあった混合層４は形成されない。したがって、顔料
分散型カラーフィルター材料をＣＣＤカラーフィルター
として用いる事ができる。

【００７１】前述した発明は理解を明瞭にするために図
解および例示の方法によって詳細に説明されたけれど
も、ある変化およびある変形は添付した特許請求の範囲
で行なわれ得ることは明らかである。

【００７２】

【発明の効果】以上のように本発明はカラーフィルター
材料を除去する部分に形成された混合層を削除する工
程、または透明膜層とカラーフィルター材料との間に混
合防止層を備えて混合層が形成されないようにする工程
を備えることにより有機溶剤可溶性の材料をＣＣＤカラ
ーフィルターとして用いることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施例である固体撮像装置カラ
ーフィルターの製造方法を説明する断面工程図

【図２】本発明の第１の実施例である固体撮像装置カラ
ーフィルターの製造方法を説明する断面工程図

【図３】本発明の第１の実施例である固体撮像装置カラ
ーフィルターの製造方法を説明する断面工程図

【図４】本発明の第１の実施例である固体撮像装置カラ
ーフィルターの製造方法を説明する断面工程図

【図５】本発明の第１の実施例である固体撮像装置カラ
ーフィルターの製造方法を説明する断面工程図

【図６】本発明の第１の実施例である固体撮像装置カラ
ーフィルターの製造方法を説明する断面工程図

【図７】本発明の第１の実施例である固体撮像装置カラ
ーフィルターの製造方法を説明する断面工程図

【図８】本発明の第１の実施例の透過率測定結果を示す
図

【図９】本発明の第２の実施例である固体撮像装置カラ
ーフィルターの製造方法を説明する断面工程図

【図１０】本発明の第２の実施例である固体撮像装置カ
ラーフィルターの製造方法を説明する断面工程図

【図１１】本発明の第２の実施例である固体撮像装置カ
ラーフィルターの製造方法を説明する断面工程図

【図１２】本発明の第２の実施例である固体撮像装置カ
ラーフィルターの製造方法を説明する断面工程図

【図１３】本発明の第２の実施例である固体撮像装置カ
ラーフィルターの製造方法を説明する断面工程図

【図１４】本発明の第２の実施例である固体撮像装置カ
ラーフィルターの製造方法を説明する断面工程図

【図１５】本発明の第２の実施例の透過率測定結果を示
す図

【符号の説明】

１ＣＣＤデバイス２透明膜層３カラーフィルター層４，５，６混合層７カラーフィルターパターン８カラーフィルター

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】固体撮像装置デバイス上に透明膜層を形成
する工程と、前記透明膜層の平面上にカラーフィルター
層を形成する工程と、前記カラーフィルター層の所定領
域に紫外線光の照射を行なう工程と、前記紫外線光照射
により生じた前記カラーフィルター層の溶解性の高い部
分を除去してカラーフィルターパターンを形成する工程
と、前記カラーフィルター層を除去した前記透明膜層上
に形成された混合層を除去する工程とを備えたことを特
徴とする固体撮像装置カラーフィルターの製造方法。
【請求項２】固体撮像装置デバイス上を透明膜層を形成
する工程と、前記透明膜層の平面上に混合防止層を形成
する工程と、前記混合防止層の平面上にカラーフィルタ
ー層を形成する工程と、前記混合防止層と前記カラーフ
ィルター層との所定領域に紫外線光の照射を行なう工程
と、前記紫外線光により生じた前記カラーフィルター層
の溶解性の高い部分を除去してカラーフィルターパター
ンを形成する工程とを備えたことを特徴とする固体撮像
装置カラーフィルターの製造方法。
【請求項３】前記透明膜層の材料に有機溶剤可溶性材料
と、前記混合防止層の材料に水可溶性材料と、前記カラ
ーフィルター層の材料に有機溶剤可溶性材料とを用いた
請求項２記載の固体撮像装置カラーフィルターの製造方
法。