JPS6178639A - 銅箔のセラミツクス基体への結合方法 - Google Patents

銅箔のセラミツクス基体への結合方法

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JPS6178639A
JPS6178639A JP20245984A JP20245984A JPS6178639A JP S6178639 A JPS6178639 A JP S6178639A JP 20245984 A JP20245984 A JP 20245984A JP 20245984 A JP20245984 A JP 20245984A JP S6178639 A JPS6178639 A JP S6178639A
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JP
Japan
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copper foil
desired pattern
ceramic substrate
bonding
ceramic base
Prior art date
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Pending
Application number
JP20245984A
Other languages
English (en)
Inventor
悟 小川
昇 山口
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Electric Works Co Ltd
Original Assignee
Matsushita Electric Works Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Works Ltd filed Critical Matsushita Electric Works Ltd
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Publication of JPS6178639A publication Critical patent/JPS6178639A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/0306Inorganic insulating substrates, e.g. ceramic, glass
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/10Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
    • H05K3/107Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern by filling grooves in the support with conductive material
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/10Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
    • H05K3/20Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern by affixing prefabricated conductor pattern
    • H05K3/202Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern by affixing prefabricated conductor pattern using self-supporting metal foil pattern

Landscapes

  • Laminated Bodies (AREA)
  • Ceramic Products (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 この発明はセラミックス基体への導電性金属の結合技術
の分野に属する。
〔背景技術〕
ダイレクトポンド法とは、接着剤等を用いることなく、
鋼箔等の金鴫とセラミックス基体面を結合させる方法で
、例えば[金属と非金4基体に直接結合する方法」とし
C特開昭49−17381号公報に詳細に記載されCい
るうこの公報薯ζよると、酸素0.03%〜0.1%(
容積5分率)を含む不活性ガス雰囲気で、1065℃〜
1083℃の適切な温度まで、鋼箔とアルミナセラミッ
クスを加熱することにより、両者間に良好なlli合が
得られると記載されCいる。
しかしダイレクトポンド法は銅屑等によるパターン形成
に問題点がある。たとえば第1図に示すようなアルミナ
基体(1)の−面に、所望パターン状鋼箔n1固21.
22.2ne結合させる際に、加熱により両者間に結合
が生じるまでは、両者には円らの力も働かない、このた
め作業中の不手際や基体周辺の乱気流により面上の#4
W3がずれ、アルミナ基体面蚤こ、所望のパターン状銅
箔を位置精匹よく、結合させる事を困難にする。
この問題点を解決するには、いったんアルミナ社命の全
面に鋼箔をダイレクトボンド結合させ写疼触刻により、
所望パターンを得えばよいが写へ蝕刻工程は繁雑であり
、ダイレクトボンド法の利点であるところの簡単かつ短
時間工程を活かせない。
〔発明の目的〕
この発明の目的は、セラミックス基体面に所望パターン
状の鋼箔を、ダイレクトボッド法を用いC1位置siよ
く結きさせる方法を提供するにある。
〔発明の開示〕
この発明は、あらかじめ、セラミックス基体面蚤こ、所
望のパターンlこ対応する凹部を設け、その凹部;こ鋼
箔を挿入することを特徴とする。尚ここで鋼箔と称rる
らのとしCは鋼板も含む。以下実施列(こ基づいC説明
する。
実施例1゜ 第21に、セラミックス基体1:に、所望のパターンに
対応する凹部を設けたものを示す。この凹部(1,1+
 + (12) +”’(1+nJは、所望のパターン
に対1もした凸部が形成された保持材上に、ドクターブ
レード法により、泥しようを流して、グリーンシートを
形成することにより形成する。この方法は、いわば注櫨
法あるいはaSし法とも言える方法である。以下、こ几
を乾燥後、保持材を除去し、焼成し所望のセラミックス
基板を得る。
凹部の深さは、結合する鋼箔の1厚さ)こよるが、例え
ば、0.21@以上の鋼箔では0.2 fiあれば、十
分である。この実施例では所望パターン状の卓さ0.4
閤の′IA?Iiをわずかに衝撃を加えた程度では位置
ずれを起さない程度に仮固定できた。また、o2濃度0
,6vo1%、流速1.81/mln@度1065〜7
0℃時間30 winなる条ヰで、位置精度よく結合さ
せることができた。
実施例2 ドクターブレード法により、グリーンシート形成後、所
望パターンに凸部が対応した金型で、プレスすることに
より、凹部を形成し、焼成することIこより、セラミッ
クス基体面に所望バター/に対応する凹部を形成する事
ができた。これに、所望パターノ状の厚さ0.2111
の鋼箔を、わずかな衝撃を〃口えた程度では位置ずれを
起さない程度に固定できた。また実施例1と同条件下で
、位置精度よくセラミックス基体と鋼箔を結合させるこ
とができた。
〔発明の効果〕
本発明は、セラミックス基体面に、所望のパターンに対
応した凹を設ける事により、所望パターン状の鋼箔を位
It硝度よく、簡便tこセラミックス基体面に、ダイレ
クトボンド結合させる事ができる。また結合させる際、
スペーサー等を用いることな(、結合後も銅箔を切ると
いう後工程も必要としない。
【図面の簡単な説明】
第1図は、所望のパターンの銅箔をセラミックス基体に
結合させたアルミナ基板の斜視図、第2図は所望パター
ン状に凹部を設けたセラミックス基体の斜視図、第3図
は所望パター/状の凹部を示す断面図、第4図は所望パ
ターン状の凹部に鋼箔を挿入した場合の断面図である。 1・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・印・セラ
ミックス基体11.12.in・・・・・・・・セラミ
ックス基体上に設けられた゛所望パターン対応する凹部

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)銅箔をセラミックス基本へ、所望のパターン状に
    、ダイレクトボンド結合させる場合において、あらかじ
    め、セラミックス基体にパターンに対応する凹部を設け
    、その凹部に所定のパターン形状に調整した銅箔を挿入
    し、ダイレクトボンド結合させる事を特徴とする銅箔の
    セラミックス基体への結合方法。
  2. (2)セラミックス基体への所望パターンに対応する凹
    部の形成をグリーンシート形成時に注型法あるいはプレ
    スにより行なう事を特徴とする特許請求の範囲第1項記
    載の銅箔のセラミックス基体への結合方法。
JP20245984A 1984-09-25 1984-09-25 銅箔のセラミツクス基体への結合方法 Pending JPS6178639A (ja)

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JP2011222870A (ja) * 2010-04-13 2011-11-04 Citizen Electronics Co Ltd 半導体発光装置及び半導体発光装置の製造方法。

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