JPS6177640A - 低温焼成用下釉薬 - Google Patents
低温焼成用下釉薬Info
- Publication number
- JPS6177640A JPS6177640A JP20246184A JP20246184A JPS6177640A JP S6177640 A JPS6177640 A JP S6177640A JP 20246184 A JP20246184 A JP 20246184A JP 20246184 A JP20246184 A JP 20246184A JP S6177640 A JPS6177640 A JP S6177640A
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- JP
- Japan
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- weight
- frit
- parts
- glaze
- ground coat
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- Glass Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[技術分野]
この発明は低温で焼成できるホーロー下釉薬の製造技術
の分野に属する。
の分野に属する。
[背景技術]
従来のホーロー用フリットは、800〜850°Cで基
板に焼き付けられるものであり、表面性能(耐酸性、耐
アルカリ性、耐魚沸性、耐候性等)の優れたガラス質皮
膜を基板の上に形成しうるちのである。しかし、焼成温
度がかなり高いため薄物鋼板等に焼き付けるような場合
には、薄物鋼板の熱変形量が大きくなり、得られるホー
ロー製品の寸法精度が悪くなった。これを解決するため
に、低融点のガラスフリフトをホーロー用フリットとし
て使用することが考えられた。
板に焼き付けられるものであり、表面性能(耐酸性、耐
アルカリ性、耐魚沸性、耐候性等)の優れたガラス質皮
膜を基板の上に形成しうるちのである。しかし、焼成温
度がかなり高いため薄物鋼板等に焼き付けるような場合
には、薄物鋼板の熱変形量が大きくなり、得られるホー
ロー製品の寸法精度が悪くなった。これを解決するため
に、低融点のガラスフリフトをホーロー用フリットとし
て使用することが考えられた。
以上のような要望に応えるために、本発明者等は特願昭
54−99761号として、いわゆる低温焼成用釉薬を
提案している。
54−99761号として、いわゆる低温焼成用釉薬を
提案している。
しかし、上記の低温焼成用釉薬を通常の高温焼成川下釉
薬の上に施釉(700〜750℃)しても、上記組成物
の特徴は、かならずしも充分には発揮できず、下釉薬も
低温で焼成する必要が生じる。
薬の上に施釉(700〜750℃)しても、上記組成物
の特徴は、かならずしも充分には発揮できず、下釉薬も
低温で焼成する必要が生じる。
また、低温焼成用下釉薬に使用するフリットとしては、
低温で焼成できることはもちろんであるが、それ以外に
下地の鋼板との密着が不十分となったり、ヘアーライン
などの外観不良が起こらないようにする必要がある。
低温で焼成できることはもちろんであるが、それ以外に
下地の鋼板との密着が不十分となったり、ヘアーライン
などの外観不良が起こらないようにする必要がある。
現在市販されているホーロー用下釉フリットは本来が8
00〜900℃の温度範囲での焼成用のために軟化温度
が高い。一方、焼成温度に幅をもたせるため低温側でも
焼成できるフリットは市販品として存在するが、それ等
はすべて熱膨張率(α)が11.OXI O−6/’c
以上と大きい。
00〜900℃の温度範囲での焼成用のために軟化温度
が高い。一方、焼成温度に幅をもたせるため低温側でも
焼成できるフリットは市販品として存在するが、それ等
はすべて熱膨張率(α)が11.OXI O−6/’c
以上と大きい。
それ故、市販品としてのフリットを低温焼成用下釉薬と
して使用すると軟化温度は低く、焼成は可能であるが熱
膨張率(α)が大きいために上釉焼成中にヘアーライン
が発生したり、鋼板との充分な密着が得られなかったり
する。
して使用すると軟化温度は低く、焼成は可能であるが熱
膨張率(α)が大きいために上釉焼成中にヘアーライン
が発生したり、鋼板との充分な密着が得られなかったり
する。
そこで、熱膨張率(α)が小さく軟化温度が低い下釉薬
が要望されることとなるのである。
が要望されることとなるのである。
[発明の目的]
この発明は、下地の鋼板との密着層が良(、ヘアーライ
ン等の外観不良が生じないような低温焼成用下釉薬を提
供することを目的とする。
ン等の外観不良が生じないような低温焼成用下釉薬を提
供することを目的とする。
[発明の開示]
この発明は、チタン酸アルミまたは(および)β−スボ
ジュメンを含ませたことを特徴とする低温焼成用下釉薬
を提供するものである。以下、詳しく説明する。
ジュメンを含ませたことを特徴とする低温焼成用下釉薬
を提供するものである。以下、詳しく説明する。
釉薬配合用の原料としてのチタン酸アルミ、β−スポジ
ュメン、ニオブ亜鉛などは低膨張粉末として古くから知
られているが、これらの内ニオブ亜鉛はガラス中に熔は
込みやすく、下釉薬の熱膨張を下げると言う効果が少な
く不適当である。
ュメン、ニオブ亜鉛などは低膨張粉末として古くから知
られているが、これらの内ニオブ亜鉛はガラス中に熔は
込みやすく、下釉薬の熱膨張を下げると言う効果が少な
く不適当である。
また、チタン酸アルミ、β−スボジュメンも高温になる
とガラス中に溶は込みやすいと言う傾向があるが、かな
りの量が残存すると思われ、熱膨張率(α)を下げる効
果が大きい。そこでこの発明では前記チタン酸アルミ、
β−スポジュメンを添加剤として釉薬中に配合して所期
の目的全達成しようとするものである。なお、これらの
ものの使用は何れか一方でもよく、または併用すること
も出来る。
とガラス中に溶は込みやすいと言う傾向があるが、かな
りの量が残存すると思われ、熱膨張率(α)を下げる効
果が大きい。そこでこの発明では前記チタン酸アルミ、
β−スポジュメンを添加剤として釉薬中に配合して所期
の目的全達成しようとするものである。なお、これらの
ものの使用は何れか一方でもよく、または併用すること
も出来る。
前記添加剤の配合量については、特に限定する趣旨では
なく、焼成温度、下釉フリットの種類を考えて決めるべ
きであるが、その好ましい配合量はフリット100重量
部に対して3〜20重量部の範囲である。この範囲を下
回ると得ようとする効果が充分発揮出ない傾向があり、
一方、上回ると下地鋼板と下釉薬との密着が悪くなる傾
向が生じる。
なく、焼成温度、下釉フリットの種類を考えて決めるべ
きであるが、その好ましい配合量はフリット100重量
部に対して3〜20重量部の範囲である。この範囲を下
回ると得ようとする効果が充分発揮出ない傾向があり、
一方、上回ると下地鋼板と下釉薬との密着が悪くなる傾
向が生じる。
なお、この発明ではベースとなる下釉薬の組成について
はなにら限定するものではなく、低温で焼成できる釉薬
であれば使用可能である。たとえば市販品としては、日
本フェロ−社製フリット#2240 (α=Li
8xlO−6/’C) 、#2220S(α=12.4
X10−6/’C) 、同#2246 (α=12.5
X10−6/”C) 、日本フリット社製フリット5O
−1078(α=12.3X10−6/’c) 、同5
G−1066、(α=12.8XIO−6/’C)等が
ある。
はなにら限定するものではなく、低温で焼成できる釉薬
であれば使用可能である。たとえば市販品としては、日
本フェロ−社製フリット#2240 (α=Li
8xlO−6/’C) 、#2220S(α=12.4
X10−6/’C) 、同#2246 (α=12.5
X10−6/”C) 、日本フリット社製フリット5O
−1078(α=12.3X10−6/’c) 、同5
G−1066、(α=12.8XIO−6/’C)等が
ある。
特に推奨できる下釉薬配合は、この発明に係る添加剤を
配合した組成で示すと、 フリット 100重量部チタン酸ア
ルミまたは(および) β−スポジュメン 3〜20重量部ケイ石
0〜20重量部粘土
3〜10重量部ホウ砂 0.3〜1.
0重量部亜硝酸ソーダ 0.05〜0.30重量部水
40〜70重量部であ
り、この配合は低温で焼成でき、かつ熱膨張率(α)も
好ましい範囲にあり、かつヘアーライン等の外観不良も
生じないホーロー製品を製造できるる釉薬を提供するも
のである。
配合した組成で示すと、 フリット 100重量部チタン酸ア
ルミまたは(および) β−スポジュメン 3〜20重量部ケイ石
0〜20重量部粘土
3〜10重量部ホウ砂 0.3〜1.
0重量部亜硝酸ソーダ 0.05〜0.30重量部水
40〜70重量部であ
り、この配合は低温で焼成でき、かつ熱膨張率(α)も
好ましい範囲にあり、かつヘアーライン等の外観不良も
生じないホーロー製品を製造できるる釉薬を提供するも
のである。
また、前記上釉薬に使用するフリットの組成で特に推奨
できる配合は、重量%で示されるフリット組成が、 30.0≦5i02 ≦40.0 15.0≦8209 ≦25.0 0≦K2O ≦ 5.0 15.0≦l’Ja20 ≦20.00≦Li2O≦
3. 0 3.0≦AN203≦ 8.0 3.0≦CaO≦15.0 2.0≦F2 ≦ 5.0 1 0≦Co O+ N i O+ M n O2+C
uO≦ 5.0 のちのである。このフリットの製法は公知の方法が通用
される。たとえば原料については、焼成により前記組成
の酸化物、またはそれ等の酸化物の混合物になり得るも
のであればどのような物でもよ(、その例を示すと無水
珪酸、珪酸アルミ、硫酸ソーダ、珪酸ソーダ、硝酸ソー
ダ、塩化ナトリウム、炭酸ソーダ、フッ化ソーダ、炭酸
カルシウム、水酸化カルシウム、硫酸カルシウム、フン
化カルシウム、ホウ酸、ホウ酸ソーダ、水酸化アルミ、
アルミナ、フン化アルミ、等の化合物まが使用される。
できる配合は、重量%で示されるフリット組成が、 30.0≦5i02 ≦40.0 15.0≦8209 ≦25.0 0≦K2O ≦ 5.0 15.0≦l’Ja20 ≦20.00≦Li2O≦
3. 0 3.0≦AN203≦ 8.0 3.0≦CaO≦15.0 2.0≦F2 ≦ 5.0 1 0≦Co O+ N i O+ M n O2+C
uO≦ 5.0 のちのである。このフリットの製法は公知の方法が通用
される。たとえば原料については、焼成により前記組成
の酸化物、またはそれ等の酸化物の混合物になり得るも
のであればどのような物でもよ(、その例を示すと無水
珪酸、珪酸アルミ、硫酸ソーダ、珪酸ソーダ、硝酸ソー
ダ、塩化ナトリウム、炭酸ソーダ、フッ化ソーダ、炭酸
カルシウム、水酸化カルシウム、硫酸カルシウム、フン
化カルシウム、ホウ酸、ホウ酸ソーダ、水酸化アルミ、
アルミナ、フン化アルミ、等の化合物まが使用される。
以上の各原料を使用して目的のガラスを得るには以下の
ようにする。
ようにする。
■ 常温で、要すれば加熱して充分粉砕する。
もちろん粉砕混合せずにガラス溶融を行わせてもよい。
もちろん粉砕混合せずにガラス溶融を行わせてもよい。
■ 上記混合物を炉中で加熱溶融してようなうガラス化
させる。
させる。
■ ガラス熔融の最終段階では800〜1300℃で1
〜4時間熔融させる。必要があれば途中で攪拌する。
〜4時間熔融させる。必要があれば途中で攪拌する。
■ なお、ガラス溶融に際しては、要すれば前焼成を行
ってもよい。例えばホウ酸、炭酸ソーダ、ホウ酸ソーダ
、水酸化アルミを使用した場合は、まず常温で原料を充
分に混合反応させる。この際に要すれば加熱する。つぎ
に150〜500°Cで、1〜3時間反応させつつ脱水
する。このようにして固形物を得る。つぎに粉砕する。
ってもよい。例えばホウ酸、炭酸ソーダ、ホウ酸ソーダ
、水酸化アルミを使用した場合は、まず常温で原料を充
分に混合反応させる。この際に要すれば加熱する。つぎ
に150〜500°Cで、1〜3時間反応させつつ脱水
する。このようにして固形物を得る。つぎに粉砕する。
つぎに■のガラスン容融を行うのである。このようにす
れば、ガラスの溶融時に脱水、脱炭酸ガスが殆ど起こら
ないために、ルツボ中より吹きこぼれ等が起こらず安全
かつ好都合である。
れば、ガラスの溶融時に脱水、脱炭酸ガスが殆ど起こら
ないために、ルツボ中より吹きこぼれ等が起こらず安全
かつ好都合である。
■ 以上の他、原料として、たとえば水酸化アルミ等の
水を含むものや、炭酸塩、アンモニウム塩を使用した場
合は、溶融する前に上記の■の前焼成を行うのが好まし
い。
水を含むものや、炭酸塩、アンモニウム塩を使用した場
合は、溶融する前に上記の■の前焼成を行うのが好まし
い。
■ 熔融したガラスは水中に投じて急冷するか、厚い鉄
板の上に流して冷却する。
板の上に流して冷却する。
■ 得られたガラスはポットミル、振動ミル、らいかい
機などで微粉砕して釉薬とする。得られた釉薬の施釉は
常法による。
機などで微粉砕して釉薬とする。得られた釉薬の施釉は
常法による。
■ 以上の釉薬の製造操作は例示的なものであり、上記
例示以外の操作あるいは他の付随的操作、補助的操作を
含んでもよい。例えばガラスの上にコーティングする場
合には除冷を原則とし、最高550〜600℃で3〜1
0分程度保持するように配慮するべきである。あるいは
フリット粉末の塗装に当たっては流動浸漬法を探用して
もよい以下実施例に従い説明する。
例示以外の操作あるいは他の付随的操作、補助的操作を
含んでもよい。例えばガラスの上にコーティングする場
合には除冷を原則とし、最高550〜600℃で3〜1
0分程度保持するように配慮するべきである。あるいは
フリット粉末の塗装に当たっては流動浸漬法を探用して
もよい以下実施例に従い説明する。
実施例
第1表(フリット100重量部に対する重量部で表した
)に示す通り、常法に従いスリップを作成した。それを
前処理したホーロー用鋼板に約150μの厚みを形成す
るようにスプレーし、750℃、7分間の焼成条件で焼
成した。
)に示す通り、常法に従いスリップを作成した。それを
前処理したホーロー用鋼板に約150μの厚みを形成す
るようにスプレーし、750℃、7分間の焼成条件で焼
成した。
ここで実施例1、実施例3は日本フェロ−社製下釉フリ
ット、実施例2は日本フリット社製下釉フリットを示す
。C−1、G−2のフリット組成は第2表に示した。な
お、G−1の軟化温度は465℃、熱膨張率(α)は1
2.5 x 10−6/℃であり、G−2のそれは48
0℃および12.4X10=/”Cである。
ット、実施例2は日本フリット社製下釉フリットを示す
。C−1、G−2のフリット組成は第2表に示した。な
お、G−1の軟化温度は465℃、熱膨張率(α)は1
2.5 x 10−6/℃であり、G−2のそれは48
0℃および12.4X10=/”Cである。
このとき第1図に示すような形状の前処理済みホーロー
用鋼板を試験片として使用し、上釉焼成後、表面に発生
するヘアーラインの有無を検査した。第1図(イ)は、
検査方法を示す側面図で、1は鋼板、2はホーロ一層、
3は深さが約0. 6鶴の窪み、4は前記富み形成用の
ダイスである。
用鋼板を試験片として使用し、上釉焼成後、表面に発生
するヘアーラインの有無を検査した。第1図(イ)は、
検査方法を示す側面図で、1は鋼板、2はホーロ一層、
3は深さが約0. 6鶴の窪み、4は前記富み形成用の
ダイスである。
次ぎに第3表に示すような上釉薬を約120μの厚みを
形成するようにスプレーし、730℃、7分間の焼成条
件で焼成し、PEI密着率、ヘアーラインの評価を行っ
た。その結果を第1表に示した。ここで第3表に示す上
釉薬フリットの軟化温度は460℃、熱膨張率(α)は
10.5X10−”/”Cである。この上釉薬組成物は
以下の通りである。なお、ミル引き粒度は1.5g/2
00メツシュオン/ 50 ccスリップであった。
形成するようにスプレーし、730℃、7分間の焼成条
件で焼成し、PEI密着率、ヘアーラインの評価を行っ
た。その結果を第1表に示した。ここで第3表に示す上
釉薬フリットの軟化温度は460℃、熱膨張率(α)は
10.5X10−”/”Cである。この上釉薬組成物は
以下の通りである。なお、ミル引き粒度は1.5g/2
00メツシュオン/ 50 ccスリップであった。
上釉フリット 100重量部ベントナイト
0.4重量部機粒子ケイ酸 1.
0重量部ケイフッ化ソーダ 0.1重量部塩化カ
リウム 0.4重量部顔料
7.0重量部水 50.0重量
部比較例 比較例1は、チタン酸アルミ、β−スポジュメンを含ま
ない場合下釉薬の熱膨張率(α)が大きく、ヘアーライ
ンが発生した例を示している。
0.4重量部機粒子ケイ酸 1.
0重量部ケイフッ化ソーダ 0.1重量部塩化カ
リウム 0.4重量部顔料
7.0重量部水 50.0重量
部比較例 比較例1は、チタン酸アルミ、β−スポジュメンを含ま
ない場合下釉薬の熱膨張率(α)が大きく、ヘアーライ
ンが発生した例を示している。
また比較例2は、下釉薬を850℃、7分で焼成したた
めチタン酸アルミ、β−スポジュメンがガラス中に溶は
込み、その熱膨張率(α)を下げる効果を失ったことを
示す例である。
めチタン酸アルミ、β−スポジュメンがガラス中に溶は
込み、その熱膨張率(α)を下げる効果を失ったことを
示す例である。
[以下余白]
[発明の効果]
この発明に係る低温焼成川下釉薬は、チタン酸アルミま
たは(および)β−スポジュメンを含ませたことを特徴
とするので、低温焼成が可能で、下地鋼板との密着性も
よく、かつヘアーラインなどの外観不良が発生しないと
言う効果がある。
たは(および)β−スポジュメンを含ませたことを特徴
とするので、低温焼成が可能で、下地鋼板との密着性も
よく、かつヘアーラインなどの外観不良が発生しないと
言う効果がある。
第1図(イ)は、この発明に係る施釉鋼板を試験するた
めの試験片の形状を示す断面図、第1図(ロ)はその平
面図である。 1・・・・・・鋼板 2・・・・・・ホーロ一層 3・・・・・・窪み 4・・・・・・ダイス
めの試験片の形状を示す断面図、第1図(ロ)はその平
面図である。 1・・・・・・鋼板 2・・・・・・ホーロ一層 3・・・・・・窪み 4・・・・・・ダイス
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)チタン酸アルミまたは(および)β−スポジュメ
ンを含ませたことを特徴とする低温焼成用下釉薬。 (2)組成が、 フリット 100重量部 チタン酸アルミまたは(および) β−スポジュメン 3〜20重量部 ケイ石 0〜20重量部 粘土 3〜10重量部 ホウ砂 0.3〜1.0重量部 亜硝酸ソーダ 0.05〜0.30重量部 水 40〜70重量部 であることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の低
温焼成用下釉薬。 (3)重量%で示されるフリット組成が、 30.0≦SiO_2≦40.0 15.0≦B_2O_3≦25.0 0≦K_2O≦5.0 15.0≦Na_2O≦20.0 0≦Li_2O≦3.0 3.0≦Al_2O_3≦8.0 3.0≦CaO≦15.0 2.0≦F_2≦5.0 1.0≦CoO+NiO+MnO_2 +CuO≦5.0 であることを特徴とする特許請求の範囲第2項記載の低
温焼成用下釉薬。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20246184A JPS6177640A (ja) | 1984-09-25 | 1984-09-25 | 低温焼成用下釉薬 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20246184A JPS6177640A (ja) | 1984-09-25 | 1984-09-25 | 低温焼成用下釉薬 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6177640A true JPS6177640A (ja) | 1986-04-21 |
JPH0149651B2 JPH0149651B2 (ja) | 1989-10-25 |
Family
ID=16457911
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP20246184A Granted JPS6177640A (ja) | 1984-09-25 | 1984-09-25 | 低温焼成用下釉薬 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6177640A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101265942B1 (ko) | 2010-11-30 | 2013-05-21 | 한국세라믹기술원 | 내열식기용 유약의 제조방법 |
-
1984
- 1984-09-25 JP JP20246184A patent/JPS6177640A/ja active Granted
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101265942B1 (ko) | 2010-11-30 | 2013-05-21 | 한국세라믹기술원 | 내열식기용 유약의 제조방법 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0149651B2 (ja) | 1989-10-25 |
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