JPH0149651B2 - - Google Patents

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JPH0149651B2
JPH0149651B2 JP20246184A JP20246184A JPH0149651B2 JP H0149651 B2 JPH0149651 B2 JP H0149651B2 JP 20246184 A JP20246184 A JP 20246184A JP 20246184 A JP20246184 A JP 20246184A JP H0149651 B2 JPH0149651 B2 JP H0149651B2
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JP
Japan
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parts
weight
glaze
low
frit
Prior art date
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JP20246184A
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JPS6177640A (ja
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Masayuki Ishihara
Masahiko Suzuki
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Panasonic Electric Works Co Ltd
Original Assignee
Matsushita Electric Works Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕 この発明は低温で焼成できるホーロー下釉薬の
製造技術の分野に属する。 〔背景技術〕 従来のホーロー用フリツトは、800〜850℃で基
板に焼き付けられるものであり、表面性能(耐酸
性、耐アルカリ性、耐煮沸性、耐候性等)の優れ
たガラス質皮膜を基板の上に形成しうるものであ
る。しかし、焼成温度がかなり高いため薄物鋼板
等に焼き付けるような場合には、薄物鋼板の熱変
形量が大きくなり、得られるホーロー製品の寸法
精度が悪くなつた。これを解決するために、低融
点のガラスフリツトをホーロー用フリツトとして
使用することが考えられた。 以上のような要望に応えるために、本発明者等
は特願昭54−99761号として、いわゆる低温焼成
用釉薬を提案している。 しかし、上記の低温焼成用釉薬を通常の高温焼
成用下釉薬の上に施釉(700〜750℃)しても、上
記組成物の特徴は、かならずしも充分には発揮で
きず、下釉薬も低温で焼成する必要が生じる。 また、低温焼成用下釉薬に使用するフリツトと
しては、低温で焼成できることはもちろんである
が、それ以外に下地の鋼板との密着が不十分とな
つたり、ヘアーラインなどの外観不良が起こらな
いようにする必要がある。 現在市販されているホーロー用下釉フリツト
は、本来が800〜900℃の温度範囲での焼成用のた
めに軟化温度が高い。一方、焼成温度に幅をもた
せるため低温側でも焼成できるフリツトは市販品
として存在するが、それ等はすべて熱膨張率
(α)が11.0×10-6/℃以上と大きい。 それ故、市販品としてのフリツトを低温焼成用
下釉薬として使用すると軟化温度は低く、焼成は
可能であるが熱膨張率(α)が大きいために上釉
焼成中にヘアーラインが発生したり、鋼板との充
分な密着が得られなかつたりする。 そこで、熱膨張率(α)が小さく軟化温度が低
い下釉薬が要望されることとなるのである。 〔発明の目的〕 この発明は、下地の鋼板との密着製が良く、ヘ
アーライン等の外観不良が生じないような低温焼
成用下釉薬を提供することを目的とする。 〔発明の開示〕 この発明は、チタン酸アルミまたは(および)
β−スポジユメンを含ませたことを特徴とする低
温焼成用下釉薬を提供するものである。以下、詳
しく説明する。 釉薬配合用の原料としてのチタン酸アルミ、β
−スポジユメン、ニオブ亜鉛などは低膨張粉末と
して古くから知られているが、これらの内ニオブ
亜鉛はガラス中に溶け込みやすく、下釉薬の熱膨
張を下げると言う効果が少なく不適当である。 また、チタン酸アルミ、β−スポジユメンも高
温になるとガラス中に溶け込みやすいと言う傾向
があるが、かなりの量が残存すると思われ、熱膨
張率(α)を下げる効果が大きい。そこでこの発
明では前記チタン酸アルミ、β−スポジユメンを
添加剤として釉薬中に配合して所期の目的を達成
しようとするものである。なお、これらのものの
使用は何れか一方でもよく、または併用すること
も出来る。 前記添加剤の配合量については、特に限定する
趣旨ではなく、焼成温度、下釉フリツトの種類を
考えて決めるべきであるが、その好ましい配合量
はフリツト100重量部に対して3〜20重量部の範
囲である。この範囲を下回ると得ようとする効果
が充分発揮出ない傾向があり、一方、上回ると下
地鋼板と下釉薬との密着が悪くなる傾向が生じ
る。 なお、この発明ではベースとなる下釉薬の組成
についてはなにら限定するものではなく、低温で
焼成できる釉薬であれば使用可能である。たとえ
ば市販品としては、日本フエロー社製フリツト
#2240(α=11.8×10-6/℃)、#2220S(α=12.4
×10-6/℃)、同#2246(α=12.5×10-6/℃)、
日本フリツト社製フリツトSG−1078(α=12.3×
10-6/℃)、同SG−1066(α=12.8×10-6/℃)等
がある。 特に推奨できる下釉薬配合は、この発明に係る
添加剤を配合した組成で示すと、 フリツト 100重量部 チタン酸アルミまたは(および)β−スポジユ
メン 3〜20重量部 ケイ石 0〜20重量部 粘 土 3〜10重量部 ホウ砂 0.3〜1.0重量部 亜硝酸ソーダ 0.05〜0.30重量部 水 40〜70重量部 であり、この配合は低温で焼成でき、かつ熱膨張
率(α)も好ましい範囲にあり、かつヘアーライ
ン等の外観不良も生じないホーロー製品を製造で
きるる釉薬を提供するものである。 また、前記下釉薬に使用するフリツトの組成で
特に推奨できる配合は、重量%で示されるフリツ
ト組成が、 30.0≦SiO2≦40.0 15.0≦B2O3≦25.0 0≦K2O≦5.0 15.0≦Na2O≦20.0 0≦Li2O≦3.0 3.0≦Al2O3≦8.0 3.0≦CaO≦15.0 2.0≦F2≦5.0 1.0≦CoO+NiO+MnO2+CuO≦5.0 のものである。このフリツトの製法は公知の方法
が適用される。たとえば原料については、焼成に
より前記組成の酸化物、またはそれ等の酸化物の
混合物になり得るものであればどのような物でも
よく、その例を示すと無水珪酸、珪酸アルミ、硫
酸ソーダ、珪酸ソーダ、硝酸ソーダ、塩化ナトリ
ウム、炭酸ソーダ、フツ化ソーダ、炭酸カルシウ
ム、水酸化カルシウム、硫酸カルシウム、フツ化
カルシウム、ホウ酸、ホウ酸ソーダ、水酸化アル
ミ、アルミナ、フツ化アルミ、等の化合物まが使
用される。 以上の各原料を使用して目的のガラスを得るに
は以下のようにする。 常温で、要すれば加熱して充分粉砕する。も
ちろん粉砕混合せずにガラス溶融を行わせても
よい。もちろん粉砕混合せずにガラス溶融を行
わせてもよい。 上記混合物を炉中で加熱溶融してようなうガ
ラス化させる。 ガラス溶融の最終段階では800〜1300℃で1
〜4時間溶融させる。必要があれば途中で撹拌
する。 なお、ガラス溶融に際しては、要すれば前焼
成を行つてもよい。例えばホウ酸、炭酸ソー
ダ、ホウ酸ソーダ、水酸化アルミを使用した場
合は、まず常温で原料を充分に混合反応させ
る。この際に要すれば加熱する。つぎに150〜
500℃で、1〜3時間反応させつつ脱水する。
このようにして固形物を得る。つぎにのガラ
ス溶融を行うのである。このようにすれば、ガ
ラスの溶融時に脱水、脱炭酸ガスが殆ど起こら
ないために、ルツボ中より吹きこぼれ等が起こ
らず安全かつ好都合である。 以上の他、原料として、たとえば水酸化アル
ミ等の水を含むものや、炭酸塩、アンモニウム
塩を使用した場合は、溶融する前に上記のの
前焼成を行うのが好ましい。 溶融したガラスは水中に投じて急冷するか、
厚い鉄板の上に流して冷却する。 得られたガラスはポツトミル、振動ミル、ら
いかい機などで微粉砕して釉薬とする。得られ
た釉薬の施釉は常法による。 以上の釉薬の製造操作は例示的なものであ
り、上記例示以外の操作あるいは他の付随的操
作、補助的操作を含んでもよい。例えばガラス
の上にコーテイングする場合には除冷を原則と
し、最高550〜600℃で3〜10分程度保持するよ
うに配慮するべきである。あるいはフリツト粉
末の塗装に当たつては流動浸漬法を採用しても
よい。 以下実施例に従い説明する。 実施例 第1表(フリツト100重量部に対する重量部で
表した)に示す通り、常法に従いスリツプを作成
した。それを前処理したホーロー用鋼板に約
150μの厚みを形成するようにスプレーし、750
℃、7分間の焼成条件で焼成した。 ここで実施例1、実施例3は日本フエロー社製
下釉フリツト、実施例2は日本フリツト社製下釉
フリツトを示す。G−1、G−2のフリツト組成
は第2表に示した。なお、G−1の軟化温度は
465℃、熱膨張率(α)は12.5×10-6/℃であり、
G−2のそれは480℃および12.4×10-6/℃であ
る。 このとき第1図に示すような形状の前処理済み
ホーロー用鋼板を試験片として使用し、上釉焼成
後、表面に発生するヘアーラインの有無を検査し
た。第1図イは、検査方法を示す側面図で、1は
鋼板、2はホーロー層、3は深さが約0.6mmの窪
み、4は前記窪み形成用のダイスである。 次ぎに第3表に示すような上釉薬を約120μの
厚みを形成するようにスプレーし、730℃、7分
間の焼成条件で焼成し、PEI密着率、ヘアーライ
ンの評価を行つた。その結果を第1表に示した。
ここで第3表に示す上釉薬フリツトの軟化温度は
460℃、熱膨張率(α)は10.5×10-6/℃である。
この上釉薬組成物は以下の通りである。なお、ミ
ル引き粒度は1.5g/200メツシユオン/50c.c.スリ
ツプであつた。 上釉フリツト 100重量部 ベントナイト 0.4重量部 微粒子ケイ酸 1.0重量部 ケイフツ化ソーダ 0.1重量部 塩化カリウム 0.4重量部 顔 料 7.0重量部 水 50.0重量部 比較例 比較例1は、チタン酸アルミ、β−スポジユメ
ンを含まない場合下釉薬の熱膨張率(α)が大き
く、ヘアーラインが発生した例を示している。 また比較例2は、下釉薬を850℃、7分で焼成
したためチタン酸アルミ、β−スポジユメンがガ
ラス中に溶け込み、その熱膨張率(α)を下げる
効果を失つたことを示す例である。
【表】
【表】
〔発明の効果〕
この発明に係る低温焼成用下釉薬は、チタン酸
アルミまたは(および)β−スポジユメンを含ま
せたことを特徴とするので、低温焼成が可能で、
下地鋼板との密着性もよく、かつヘアーラインな
どの外観不良が発生しないと言う効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図イは、この発明に係る施釉鋼板を試験す
るための試験片の形状を示す断面図、第1図ロは
その平面図である。 1……鋼板、2……ホーロー層、3……窪み、
4……ダイス。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 チタン酸アルミまたは(および)β−スポジ
    ユメンを含ませたことを特徴とする低温焼成用下
    釉薬。 2 組成が、 フリツト 100重量部 チタン酸アルミまたは(および)β−スポジユ
    メン 3〜20重量部 ケイ石 0〜20重量部 粘 土 3〜10重量部 ホウ砂 0.3〜1.0重量部 亜硝酸ソーダ 0.05〜0.30重量部 水 40〜70重量部 であることを特徴とする特許請求の範囲第1項記
    載の低温焼成用下釉薬。 3 重量%で示されるフリツト組成が、 30.0≦SiO2≦40.0 15.0≦B2O3≦25.0 0≦K2O≦5.0 15.0≦Na2O≦20.0 0≦Li2O≦3.0 3.0≦Al2O3≦8.0 3.0≦CaO≦15.0 2.0≦F2≦5.0 1.0≦CoO+NiO+MnO2+CuO≦5.0 であることを特徴とする特許請求の範囲第2項記
    載の低温焼成用下釉薬。
JP20246184A 1984-09-25 1984-09-25 低温焼成用下釉薬 Granted JPS6177640A (ja)

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JPS6177640A JPS6177640A (ja) 1986-04-21
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