JPS6172787A - イミダゾ〔4,5−c〕ピリジン−6−カルボン酸誘導体 - Google Patents
イミダゾ〔4,5−c〕ピリジン−6−カルボン酸誘導体Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明はイ三ダリ(4,5−C)じリジン−6−カルボ
ン酸誘導体及びその塩に関する〇本発明のイ三ダリ(4
,5−C〕ごリジン−6−カルボン酸誘導体及びその塩
は、文献未載の新規化合物である。
ン酸誘導体及びその塩に関する〇本発明のイ三ダリ(4
,5−C〕ごリジン−6−カルボン酸誘導体及びその塩
は、文献未載の新規化合物である。
本発明は後記するように医薬品として有用な化合物を提
供することを目的とする。
供することを目的とする。
上記目的は、下記一般式(1)で表わされる化合物によ
り達成される。
り達成される。
一般式
〔式中R1は低級アル牛ル基を示し、R2は水素原子、
ジフェニル低級アル牛ル基、ベンリイル基、ジフェニル
低級アルカノイル基、フェニル低級アルコ牛ジカルボニ
ル基又はベンゼンスルホニル基を示す。〕 本明細書において低級アル+ル基としては、例えばメチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソづ
チル tIrt −ブチル、ペンチル、へ牛シル基等
のアル牛ル基を、ジフェニル低級アル牛ル基としては、
例えばジフェニルメチル、2e 2− Eiフェニルエ
チル、1.l −”;フェニルエチル、3,3−ジフェ
ニルプロとル、4#4−ジフェニルづチル、LI−:;
メチル−2,2−ジフェニルエチル、5.5−6フエニ
ルペンチル、6.6−ジフェニルへ牛シル、2−メチル
−3,3−6フエニルづ0ピル基等の炭素数1〜6のア
ル中ル部分を有すす るジフェニルエル+ル基を、ジフェニル低級アルカノイ
ル基としては、例えばジフェニルアセチル、3.3−ジ
フェニルブタノイル、4.4−ジフェニルブタノイル、
5.5−ジフェニルペンタノイル、6.6−ジフェニル
へ+サノイル、2−メチル−3゜3−ジフェニルプロパ
ノイル基等の炭素数1〜6のアルカノイル部分を有する
ジフェニルアルカノイル基を、またフェニル低級アルコ
牛ジカルボニル基としては、例えばベンジルオ十ジカル
ボニル、2−フェニルエト士ジカルボニル、1−フェニ
ルエト士ジカルボニル、3−フェニルづ0ポ士ジカルボ
ニル、4−フェニルブト士ジカルボニル、l1l−>メ
チル−2−フェニルエト士ジカルボニル、5−フェニル
ペンチルオ牛ジカルボニル、6−フェニルへ牛シルオ牛
ジカルボニル、2−メチル−3−フェニルジ0ボ士ジカ
ルボニル基等の炭素t&1〜6のアルコ十シ基を有する
フェニルアルコ牛ジカルボニル基を夫々例示できる。
ジフェニル低級アル牛ル基、ベンリイル基、ジフェニル
低級アルカノイル基、フェニル低級アルコ牛ジカルボニ
ル基又はベンゼンスルホニル基を示す。〕 本明細書において低級アル+ル基としては、例えばメチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソづ
チル tIrt −ブチル、ペンチル、へ牛シル基等
のアル牛ル基を、ジフェニル低級アル牛ル基としては、
例えばジフェニルメチル、2e 2− Eiフェニルエ
チル、1.l −”;フェニルエチル、3,3−ジフェ
ニルプロとル、4#4−ジフェニルづチル、LI−:;
メチル−2,2−ジフェニルエチル、5.5−6フエニ
ルペンチル、6.6−ジフェニルへ牛シル、2−メチル
−3,3−6フエニルづ0ピル基等の炭素数1〜6のア
ル中ル部分を有すす るジフェニルエル+ル基を、ジフェニル低級アルカノイ
ル基としては、例えばジフェニルアセチル、3.3−ジ
フェニルブタノイル、4.4−ジフェニルブタノイル、
5.5−ジフェニルペンタノイル、6.6−ジフェニル
へ+サノイル、2−メチル−3゜3−ジフェニルプロパ
ノイル基等の炭素数1〜6のアルカノイル部分を有する
ジフェニルアルカノイル基を、またフェニル低級アルコ
牛ジカルボニル基としては、例えばベンジルオ十ジカル
ボニル、2−フェニルエト士ジカルボニル、1−フェニ
ルエト士ジカルボニル、3−フェニルづ0ポ士ジカルボ
ニル、4−フェニルブト士ジカルボニル、l1l−>メ
チル−2−フェニルエト士ジカルボニル、5−フェニル
ペンチルオ牛ジカルボニル、6−フェニルへ牛シルオ牛
ジカルボニル、2−メチル−3−フェニルジ0ボ士ジカ
ルボニル基等の炭素t&1〜6のアルコ十シ基を有する
フェニルアルコ牛ジカルボニル基を夫々例示できる。
上記一般式(1)で表わされる本発明のイ=iす(4,
5−c)じリジン−6−カルボン酸誘導体及びその塩は
、抗a瘍作用を有し、抗潰g薬として有用である。
5−c)じリジン−6−カルボン酸誘導体及びその塩は
、抗a瘍作用を有し、抗潰g薬として有用である。
本発明の一般式(1)で表わされる化合物は、毬々の方
法により製造することができる。その好ましい一例を反
応行程式によシ示せば以下の通りでらるO く反応行程式−1〉 (2) 靜 く反応行程式−2〉 COOC00CH2C6lb ) 〔上記各式においてR1及びR2は一般式(1)におけ
るそれらと同一の意味を有するO〕即ち一般式(1)で
表わされる本発明化合物は、一般式(2)で表わされる
公知のL−ヒスチジンエステル類(通常これは塩酸塩等
の形態で有利に用いられる)と一般式(3)で表わされ
るじベリトン類とを反応させることにより製造される。
法により製造することができる。その好ましい一例を反
応行程式によシ示せば以下の通りでらるO く反応行程式−1〉 (2) 靜 く反応行程式−2〉 COOC00CH2C6lb ) 〔上記各式においてR1及びR2は一般式(1)におけ
るそれらと同一の意味を有するO〕即ち一般式(1)で
表わされる本発明化合物は、一般式(2)で表わされる
公知のL−ヒスチジンエステル類(通常これは塩酸塩等
の形態で有利に用いられる)と一般式(3)で表わされ
るじベリトン類とを反応させることにより製造される。
上記反応は、適当な脱酸剤(4)の存在下に、通常溶媒
中で行なわれる。脱酸剤(4)としては従来よυよく知
られている塩基性化合物、例えばトリエチルアニン、じ
リジン、N−メチル℃ルホリン、ジエチルアニリン等の
アミン類、酢酸リチウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウ
ム等の有機カルボン酸のアルカリ金目化ナトリウム、水
酸化カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム等の
無機塩基を広く使用することができる。また溶媒として
は、反応に悪影響を与えない各種の有機溶媒、例えばメ
タノール、エタノール、イソづOパノール、づタノール
、ttrt −アミルアルコール等の低級アルコール
類、テトラしドロフラン、ジオ十サン等のエーテル類、
ベンゼン、トルエン、牛シレン等の芳香族炭化水素類等
を、原料とする一般式(2)の化合物の種類に応じて適
宜選択して使用できる。一般式(2)の化合物と、一般
式(3)のごペリトン類との側層割合は、特に限定され
ず広い範囲内で適宜選択できるが、□1 通常前
者に対して後者を等℃ル量〜過剰量、好ましくは約1〜
3倍℃ル社用いるのが適当である。
中で行なわれる。脱酸剤(4)としては従来よυよく知
られている塩基性化合物、例えばトリエチルアニン、じ
リジン、N−メチル℃ルホリン、ジエチルアニリン等の
アミン類、酢酸リチウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウ
ム等の有機カルボン酸のアルカリ金目化ナトリウム、水
酸化カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム等の
無機塩基を広く使用することができる。また溶媒として
は、反応に悪影響を与えない各種の有機溶媒、例えばメ
タノール、エタノール、イソづOパノール、づタノール
、ttrt −アミルアルコール等の低級アルコール
類、テトラしドロフラン、ジオ十サン等のエーテル類、
ベンゼン、トルエン、牛シレン等の芳香族炭化水素類等
を、原料とする一般式(2)の化合物の種類に応じて適
宜選択して使用できる。一般式(2)の化合物と、一般
式(3)のごペリトン類との側層割合は、特に限定され
ず広い範囲内で適宜選択できるが、□1 通常前
者に対して後者を等℃ル量〜過剰量、好ましくは約1〜
3倍℃ル社用いるのが適当である。
上記反応は室温でも加温下でも進行するが、通常用いる
溶媒のm点付近に加温することにより良好に進行し、一
般に約1−10時間で反応は完結するO また上記反応行程式−2に示す反応は、金属触媒(5)
の存在下に、通常溶媒中で水素添加を行なう一般的遍元
的方法により実施される。金属触媒(5)としては、通
常のもの、例えばパラづラム炭素。
溶媒のm点付近に加温することにより良好に進行し、一
般に約1−10時間で反応は完結するO また上記反応行程式−2に示す反応は、金属触媒(5)
の存在下に、通常溶媒中で水素添加を行なう一般的遍元
的方法により実施される。金属触媒(5)としては、通
常のもの、例えばパラづラム炭素。
パラジウム黒等を使用できる。溶媒としては、例えば水
又はメタノール、エタノール等の低級アルコール類、ジ
エチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオ十サン等の
エーテル類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトア
ニド等の非プロトシ性極性溶媒及び之等の混合溶媒を例
示できる。反応は通常水;XIEI9L8E下、0〜4
0℃の温度条件下で実施され、一般に30分〜72時間
程度で完結する。
又はメタノール、エタノール等の低級アルコール類、ジ
エチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオ十サン等の
エーテル類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトア
ニド等の非プロトシ性極性溶媒及び之等の混合溶媒を例
示できる。反応は通常水;XIEI9L8E下、0〜4
0℃の温度条件下で実施され、一般に30分〜72時間
程度で完結する。
上記各方法により、一般式(1)又は(1b) で表
わされる本発明化金物を収得できる。
わされる本発明化金物を収得できる。
本発明の一般式(1)で表わされるイミタソ(鳴5−C
)じリジン−6−カルボン@誘導体は、医薬的に許容さ
れる酸を作用させることにより容易に酸付加塩とするこ
とができる@該酸としては例えば、塩酸、硫酸、リン酸
、美化水素#等の無機酸、−一トルエンスル本シ酸、メ
タンスルホン酸、シュウ酸、マレイン酸、フマール酸、
リシj瞭、酒石酸、クエン酸等の有機鍍と挙げることが
できろ。
)じリジン−6−カルボン@誘導体は、医薬的に許容さ
れる酸を作用させることにより容易に酸付加塩とするこ
とができる@該酸としては例えば、塩酸、硫酸、リン酸
、美化水素#等の無機酸、−一トルエンスル本シ酸、メ
タンスルホン酸、シュウ酸、マレイン酸、フマール酸、
リシj瞭、酒石酸、クエン酸等の有機鍍と挙げることが
できろ。
斯くして得られる各々の行程での目的化合物は、通常の
分離手段により容易に単離精製することができる。該分
離手段としては、例えば溶媒抽出法、稀釈法、再結晶法
、カラムク0マドシラフイー、プレバラテイプ薄層クロ
マトクラフィー等を例示できる。
分離手段により容易に単離精製することができる。該分
離手段としては、例えば溶媒抽出法、稀釈法、再結晶法
、カラムク0マドシラフイー、プレバラテイプ薄層クロ
マトクラフィー等を例示できる。
尚本発明化合物は不斉炭素を有してお9光学異性体′が
存在するが、本発明はこの光学異性体も当然に包含する
ものである。特に好ましい本発明化金物は、テトラじド
0イミダリ(4,5−C)ごリジン骨格の6位の立体配
置が5体である化合物であるO 実施例 以下本発明化合物の製造例を実践例として挙げるO 実施例1 (6S)−スピO(4M −4,5,6,7−テトラし
ドOイ三タリ(4,5−t)じリジンービ=ベンジルオ
中ジカルボニル−4,4′−とベリジンツー6−カルボ
ン酸メチルの製造 L−ヒスチジンメチルエステル・二塩酸塩2.0゜f、
I−ベンジルオキシカルボニル−4−じペリトン3.8
5f及びトリエチルアミン2−30 se t−1tr
t −アミルアルコール80−に懸濁させ一室温で1
時間攪拌した。次いで懸濁液を5時間加熱還流し、反応
液を減圧下に濃縮し、得られた残漬に水を加え、ジグ0
0メタンで抽出した。ジクOロメタン溶液を飽和塩化ナ
トリウム水溶液で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥後、
濃縮した・残留物をシリカゲルカラムクロマトタラフィ
ー(溶離液;りOOホルム:メタノール−<19=1)
に付し、標記化合物3.13F(収率98%)を得た。
存在するが、本発明はこの光学異性体も当然に包含する
ものである。特に好ましい本発明化金物は、テトラじド
0イミダリ(4,5−C)ごリジン骨格の6位の立体配
置が5体である化合物であるO 実施例 以下本発明化合物の製造例を実践例として挙げるO 実施例1 (6S)−スピO(4M −4,5,6,7−テトラし
ドOイ三タリ(4,5−t)じリジンービ=ベンジルオ
中ジカルボニル−4,4′−とベリジンツー6−カルボ
ン酸メチルの製造 L−ヒスチジンメチルエステル・二塩酸塩2.0゜f、
I−ベンジルオキシカルボニル−4−じペリトン3.8
5f及びトリエチルアミン2−30 se t−1tr
t −アミルアルコール80−に懸濁させ一室温で1
時間攪拌した。次いで懸濁液を5時間加熱還流し、反応
液を減圧下に濃縮し、得られた残漬に水を加え、ジグ0
0メタンで抽出した。ジクOロメタン溶液を飽和塩化ナ
トリウム水溶液で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥後、
濃縮した・残留物をシリカゲルカラムクロマトタラフィ
ー(溶離液;りOOホルム:メタノール−<19=1)
に付し、標記化合物3.13F(収率98%)を得た。
無色ガラス状物質
工H−,NMR(CDCl2、TMS )δ−3,78
C1,3H)、5.09(f、 2/f)、7、 32
(j、 5M)、 7.43(j、 凰H)MS+
#l/#−384(”) (α)” −−58,70° (#−’−1.00、メ
タノール)実施例2 (6S)−スじO(4/f−4,5,6,7−テトラヒ
ドOイニタリ(4,5−、r)ピリジン−4,4′−じ
ベリジンツー6−カルボン酸メチルの製造実施例1で得
た(6S)−スピo (4H−4−5+16.7−テト
ラしド0イ三タリ(4,57ζ)ごリジン−1′−ペン
ジルオ中ジカルボニル−4,4/−ピペリジン〕−6−
カルボン酸メチル1.OOf及び!0%−パラジウム炭
素0.28Fをメタノール20m1中に懸濁させ、1気
圧の水素ガス存在下に、室温で65時間攪拌した。パラ
ジウム炭素を戸去した後、濃縮し、残留物を℃ファデッ
クスLH−20(ファルマシア社製)に吸着させ、メタ
ノールで溶離して標記化合物0.57f(収率88%)
を得た@ 無色結晶 1”lj 237〜238℃(分解、アセトンより与
結晶)MSHm// −250(M+) (α〕カ −−65,50°(C−1,00,メタノー
ル)実施例3 (6S)−スピO(4M −4,5,6,7−テトラし
ドロイ三ダソ(4,5−e)とIJリジン1′−ジフェ
ニルメチル−4,4′−とベリジン)−6−カルボン酸
メチルの製造 1zrl −アミルアルコール40w1中、トリエチ
ルアミンI−15mlの存在下に、L−ヒスチジンメチ
ルエステル・二塩酸塩1.0Ofとl−ジフェニルメチ
ル−4−ヒペリドシ1.1 Ofとを、実施例1と同様
に縮合反応させた。反応混合物をジクロロメタンで抽出
し、得られた淡黄色油状物質を、シリカゲルカラムクロ
マトタラフィー(溶離液;りOOホルムニメタノール−
91)に付し、標記化合*1.52fC収率88%)を
得た。
C1,3H)、5.09(f、 2/f)、7、 32
(j、 5M)、 7.43(j、 凰H)MS+
#l/#−384(”) (α)” −−58,70° (#−’−1.00、メ
タノール)実施例2 (6S)−スじO(4/f−4,5,6,7−テトラヒ
ドOイニタリ(4,5−、r)ピリジン−4,4′−じ
ベリジンツー6−カルボン酸メチルの製造実施例1で得
た(6S)−スピo (4H−4−5+16.7−テト
ラしド0イ三タリ(4,57ζ)ごリジン−1′−ペン
ジルオ中ジカルボニル−4,4/−ピペリジン〕−6−
カルボン酸メチル1.OOf及び!0%−パラジウム炭
素0.28Fをメタノール20m1中に懸濁させ、1気
圧の水素ガス存在下に、室温で65時間攪拌した。パラ
ジウム炭素を戸去した後、濃縮し、残留物を℃ファデッ
クスLH−20(ファルマシア社製)に吸着させ、メタ
ノールで溶離して標記化合物0.57f(収率88%)
を得た@ 無色結晶 1”lj 237〜238℃(分解、アセトンより与
結晶)MSHm// −250(M+) (α〕カ −−65,50°(C−1,00,メタノー
ル)実施例3 (6S)−スピO(4M −4,5,6,7−テトラし
ドロイ三ダソ(4,5−e)とIJリジン1′−ジフェ
ニルメチル−4,4′−とベリジン)−6−カルボン酸
メチルの製造 1zrl −アミルアルコール40w1中、トリエチ
ルアミンI−15mlの存在下に、L−ヒスチジンメチ
ルエステル・二塩酸塩1.0Ofとl−ジフェニルメチ
ル−4−ヒペリドシ1.1 Ofとを、実施例1と同様
に縮合反応させた。反応混合物をジクロロメタンで抽出
し、得られた淡黄色油状物質を、シリカゲルカラムクロ
マトタラフィー(溶離液;りOOホルムニメタノール−
91)に付し、標記化合*1.52fC収率88%)を
得た。
無色結晶
fnll+ 151.5〜152.5°C(分解、酢
酸エチル−エーテルより再結晶後) MS+ vn/l−416←、1+)(α) −
−56,70°(r−1,00、メタノール)フ 実施例4〜8 実施例1と同様にして下記第1表に示す各原料化合物を
夫々用いて、各目的化合物を得た。第1表には得られた
各化合物の収率及び物性を併記する。
酸エチル−エーテルより再結晶後) MS+ vn/l−416←、1+)(α) −
−56,70°(r−1,00、メタノール)フ 実施例4〜8 実施例1と同様にして下記第1表に示す各原料化合物を
夫々用いて、各目的化合物を得た。第1表には得られた
各化合物の収率及び物性を併記する。
第 ! 表
手続補正書(自制
昭和59年11月6日
特許庁長官 志賀 学 殿 九11、事
件の表示 昭和59年 特 許 願第196190 号2、
発明o名称 イ三タリ(415−()とリジン−6−
4、代理人 大阪市東区平野町2の10沢の鶴ビル電話06−203
−0941(代)6、補正により増加する発明の数 補 正 の 内 容 (1) 朋細書中第1!頁第4行にr(9=I)Jと
多るをr(+91)Jと訂正する〇 (2) 明細112頁第2行に「10%−パラジウム
」とあるを「10%パラジウム」と訂正する・(3)
明細書第13頁第11行に「再結晶後」とあるを「再
結晶」と訂正する。
件の表示 昭和59年 特 許 願第196190 号2、
発明o名称 イ三タリ(415−()とリジン−6−
4、代理人 大阪市東区平野町2の10沢の鶴ビル電話06−203
−0941(代)6、補正により増加する発明の数 補 正 の 内 容 (1) 朋細書中第1!頁第4行にr(9=I)Jと
多るをr(+91)Jと訂正する〇 (2) 明細112頁第2行に「10%−パラジウム
」とあるを「10%パラジウム」と訂正する・(3)
明細書第13頁第11行に「再結晶後」とあるを「再
結晶」と訂正する。
(以 上)
Claims (1)
- (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中R^1は低級アルキル基を示し、R^2は水素原
子、ジフェニル低級アルキル基、ベンゾイル基、ジフェ
ニル低級アルカノイル基、フェニル低級アルコキシカル
ボニル基又はベンゼンスルホニル基を示す。〕 で表わされることを特徴とするイミダゾ〔4,5−c)
ピリジン−6−カルボン酸誘導体及びその塩。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19619084A JPS6172787A (ja) | 1984-09-18 | 1984-09-18 | イミダゾ〔4,5−c〕ピリジン−6−カルボン酸誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19619084A JPS6172787A (ja) | 1984-09-18 | 1984-09-18 | イミダゾ〔4,5−c〕ピリジン−6−カルボン酸誘導体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6172787A true JPS6172787A (ja) | 1986-04-14 |
JPH0347280B2 JPH0347280B2 (ja) | 1991-07-18 |
Family
ID=16353686
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP19619084A Granted JPS6172787A (ja) | 1984-09-18 | 1984-09-18 | イミダゾ〔4,5−c〕ピリジン−6−カルボン酸誘導体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6172787A (ja) |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5995286A (ja) * | 1982-11-19 | 1984-06-01 | Otsuka Pharmaceut Factory Inc | イミダゾ〔4,5−c〕ピリジン−6−カルボン酸誘導体 |
-
1984
- 1984-09-18 JP JP19619084A patent/JPS6172787A/ja active Granted
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5995286A (ja) * | 1982-11-19 | 1984-06-01 | Otsuka Pharmaceut Factory Inc | イミダゾ〔4,5−c〕ピリジン−6−カルボン酸誘導体 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0347280B2 (ja) | 1991-07-18 |
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