JPS6168350A - 表面反射の低減された無機板ならびにその製造方法 - Google Patents
表面反射の低減された無機板ならびにその製造方法Info
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- JPS6168350A JPS6168350A JP18880684A JP18880684A JPS6168350A JP S6168350 A JPS6168350 A JP S6168350A JP 18880684 A JP18880684 A JP 18880684A JP 18880684 A JP18880684 A JP 18880684A JP S6168350 A JPS6168350 A JP S6168350A
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
- C03C17/23—Oxides
- C03C17/27—Oxides by oxidation of a coating previously applied
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［発明の技術分野］
本発明は表面反射の低減された無機板ならびにその製造
方法に関し、さらに詳しくＩま、無機基材の表面に多数
の微細な隆起部を有する透明無機被膜が設けられた表面
反射の低減された無機板ならびにその製造方法に関する
。
方法に関し、さらに詳しくＩま、無機基材の表面に多数
の微細な隆起部を有する透明無機被膜が設けられた表面
反射の低減された無機板ならびにその製造方法に関する
。
［発明の技術的背景ならびにその問題点］カラーテレビ
ブラウン管、電子装置のディスプレイ部表面用ガラス板
、時計の表面板、ショーウィンド用ガラス板などとして
用いられる無機板においては、この無機板表面で外部光
線が反射すると、画像あるいは内部物体が見にくくなる
ため、無°機板表面での外部光線の反射を防止すること
が望まれている。
ブラウン管、電子装置のディスプレイ部表面用ガラス板
、時計の表面板、ショーウィンド用ガラス板などとして
用いられる無機板においては、この無機板表面で外部光
線が反射すると、画像あるいは内部物体が見にくくなる
ため、無°機板表面での外部光線の反射を防止すること
が望まれている。
従来、無機板表面での外部光線の反射防止は、無機板表
面にたとえばフッ酸などを作用させ、その表面に多数の
微細な凹凸を形成することによって達成されていた。
ところがこの方法によれば極めて強い酸であ
るフッ酸を使用しているため、使用後のフッ酸を廃棄す
る際に処理が必要であるという問題点があった。
面にたとえばフッ酸などを作用させ、その表面に多数の
微細な凹凸を形成することによって達成されていた。
ところがこの方法によれば極めて強い酸であ
るフッ酸を使用しているため、使用後のフッ酸を廃棄す
る際に処理が必要であるという問題点があった。
このため、フッ酸などの強酸を用いることなく、無機板
表面に多数の微細な凹凸を設けうる方法の開発が望まれ
ていた。
表面に多数の微細な凹凸を設けうる方法の開発が望まれ
ていた。
［発明の目的ならびに発明の概要コ
本発明は、上記のような従来技術に伴なう問題点を解決
しようとするものであって、フッ酸を用いることなく無
機基材の表面に多数の微細な凹凸を形成することによっ
て、表面反射の低減された無機板を提供することならび
にその製造方法を提供することを目的としている。
しようとするものであって、フッ酸を用いることなく無
機基材の表面に多数の微細な凹凸を形成することによっ
て、表面反射の低減された無機板を提供することならび
にその製造方法を提供することを目的としている。
本発明に係る無機板は、無機基材上に、高さ０．１〜２
．０μｍの微細な隆起を多数有する透明無機被膜が設け
られていることを特徴としている。
．０μｍの微細な隆起を多数有する透明無機被膜が設け
られていることを特徴としている。
また本発明に係る無機板の製造方法は、ｐ！！、機基材
上に、金属アルコラート、アルコール溶剤および加水分
解制御剤を含むとともに金属アルコラートが一部加水分
解された透明無機被膜形成用溶液を塗布して被膜を形成
し、次いでこの被膜を加熱して乾燥および焼成を行ない
、無機基材上に高さ０．１〜２．Ｏｐ、ｍの微細な隆起
を多数形成することを特徴としている。
上に、金属アルコラート、アルコール溶剤および加水分
解制御剤を含むとともに金属アルコラートが一部加水分
解された透明無機被膜形成用溶液を塗布して被膜を形成
し、次いでこの被膜を加熱して乾燥および焼成を行ない
、無機基材上に高さ０．１〜２．Ｏｐ、ｍの微細な隆起
を多数形成することを特徴としている。
［発明の詳細な説明］
本発明で用いられる無機基材としては、ケイ酸ガラス（
石英ガラス）、ケイ酸アルカリガラス、ソーダ石灰ガラ
ス、カリ石灰ガラス、鉛ガラス、バリウムガラス、ホウ
ケイ酸ガラスなどケイ酸塩ガラスが主として用いられる
が、これらに限定されるものではなく、たと゛えばリン
酸塩ガラス、ホウ酸塩ガラス、硫！＄ｉ塩ガラス、硝酸
塩ガラス、炭酸塩ガラス、塩化物ガラス、フッ化物ガラ
スなどのガラスも用いられうる。
石英ガラス）、ケイ酸アルカリガラス、ソーダ石灰ガラ
ス、カリ石灰ガラス、鉛ガラス、バリウムガラス、ホウ
ケイ酸ガラスなどケイ酸塩ガラスが主として用いられる
が、これらに限定されるものではなく、たと゛えばリン
酸塩ガラス、ホウ酸塩ガラス、硫！＄ｉ塩ガラス、硝酸
塩ガラス、炭酸塩ガラス、塩化物ガラス、フッ化物ガラ
スなどのガラスも用いられうる。
その他熱的に安定な基材であれば本発明における基材と
して用いられうる。
して用いられうる。
このような無機基材上に、金属アルコラート、アルコー
ル溶剤および加水分解制御剤を含み、一部の金属アルコ
ラートが加水分解されてゲル状態となった透明無機被膜
形成用溶液を塗布して被膜を形成する。
ル溶剤および加水分解制御剤を含み、一部の金属アルコ
ラートが加水分解されてゲル状態となった透明無機被膜
形成用溶液を塗布して被膜を形成する。
金属アルコラートとしては、用いる無機基材の種類によ
っても変化するが、エチルシリケート［５ｉ（Ｃ２Ｈ５
０）４１をアルコール溶剤に溶解させてなるエチルシリ
ケートアルコール溶液が主として用いられる。
また、得られる被膜の熱膨張係数あるいは焼成温度
を調節するために、ブチルボラート［８（Ｃ４Ｈ，０）
３］ 、 メチルボラート 【Ｂ（０（：Ｈ３）３］、
ナトリウムエチラート［ＮａＯＣ２Ｈ５］ 、ナトリウ
ムメチラート［Ｎａ ０ＣＨ３１、リチウムエチラート
［Ｌｉ（ＩＣＨ］ 、アルミニウムプロポキシド［Ａ
Ｉ （ＱＣ３Ｈ７）３］、リン酸トリエチルエチラート
［ＰＯ（ＯＣ２Ｈ５）３１などのアルコール溶液を、エ
チルシリケートアルコール溶液に添加してもよい。
っても変化するが、エチルシリケート［５ｉ（Ｃ２Ｈ５
０）４１をアルコール溶剤に溶解させてなるエチルシリ
ケートアルコール溶液が主として用いられる。
また、得られる被膜の熱膨張係数あるいは焼成温度
を調節するために、ブチルボラート［８（Ｃ４Ｈ，０）
３］ 、 メチルボラート 【Ｂ（０（：Ｈ３）３］、
ナトリウムエチラート［ＮａＯＣ２Ｈ５］ 、ナトリウ
ムメチラート［Ｎａ ０ＣＨ３１、リチウムエチラート
［Ｌｉ（ＩＣＨ］ 、アルミニウムプロポキシド［Ａ
Ｉ （ＱＣ３Ｈ７）３］、リン酸トリエチルエチラート
［ＰＯ（ＯＣ２Ｈ５）３１などのアルコール溶液を、エ
チルシリケートアルコール溶液に添加してもよい。
また被Ｈり形成用溶液の粘度を調節する目的で、たとえ
ばメタノール、エタノール、ズロパノール、ブタメール
などのアルコールを、前述のアルコールと併用する。
ばメタノール、エタノール、ズロパノール、ブタメール
などのアルコールを、前述のアルコールと併用する。
用いるアルコールの種類によって、金属アルコラートの
加水分解速度が左右される。
加水分解速度が左右される。
たとえばメタノールまたはエタノールを用いた場合には
、プロパツールあるいはブタノールを用いた場合よりも
、金属アルコラートの加水分解速度は大きくなる。
このため、金属アルコラートの加水分解速度
を考慮して、用いるべきアルコールを選択することが好
ましい。
、プロパツールあるいはブタノールを用いた場合よりも
、金属アルコラートの加水分解速度は大きくなる。
このため、金属アルコラートの加水分解速度
を考慮して、用いるべきアルコールを選択することが好
ましい。
加水分解調節剤としては、塩酸、硝酸などの無機酸ある
いは酢醜などの有機酸を用いることができるが、これら
のうち、特に塩酸が好ましい。
いは酢醜などの有機酸を用いることができるが、これら
のうち、特に塩酸が好ましい。
この加水分解調節剤は、たとえば１２Ｎの塩酸の場合、
被膜形成用溶液 １００ｇに対して、０．５〜２、ａ
Ｂの徽、すなわち酸度が１０〜２０ｐｐｍとなる範囲で
、添加することが好ましい、 酸を加水分解ｊ
ｊ８Ｊｍ剤として用いる場合に、酸の添加量が少なすぎ
ると、金属アルコラートの加水分解速度が遅すぎるため
好ましくなく、また酸の添加量が多すぎると、金属アル
コラートの加水分解速度が早すぎ、ゲル化が進行しすぎ
て被膜形成用溶液の粘度が大きくなり、塗布しにくくな
るため好ましくない。
被膜形成用溶液 １００ｇに対して、０．５〜２、ａ
Ｂの徽、すなわち酸度が１０〜２０ｐｐｍとなる範囲で
、添加することが好ましい、 酸を加水分解ｊ
ｊ８Ｊｍ剤として用いる場合に、酸の添加量が少なすぎ
ると、金属アルコラートの加水分解速度が遅すぎるため
好ましくなく、また酸の添加量が多すぎると、金属アル
コラートの加水分解速度が早すぎ、ゲル化が進行しすぎ
て被膜形成用溶液の粘度が大きくなり、塗布しにくくな
るため好ましくない。
上記のような成分を含んでなる透明無機被膜形成用溶液
は、空気中に存在する水分すなわち湿分により加水分解
を受けて、ゲル化する。
は、空気中に存在する水分すなわち湿分により加水分解
を受けて、ゲル化する。
したがってこの加水分解は、湿度が高いほどまた温度が
高いほど進行しやすく、さらに被膜形成用溶滴を攪拌す
ることによって進行しやすくなる。
高いほど進行しやすく、さらに被膜形成用溶滴を攪拌す
ることによって進行しやすくなる。
上記の条件を考慮しながら具体的には、室温１５〜２５
℃、相対湿度３０〜６０％の条件下で、被膜形成用溶液
に毎分２００〜６００回転程度の攪拌を与えながら、金
属アルコラートの加水分解反応を徐々に時間をかけて進
行させることが好ましい。
℃、相対湿度３０〜６０％の条件下で、被膜形成用溶液
に毎分２００〜６００回転程度の攪拌を与えながら、金
属アルコラートの加水分解反応を徐々に時間をかけて進
行させることが好ましい。
このようにして被膜形成用溶液に攪拌を与えながら、金
属アルコラートの加水分解反応を進行させると、前記溶
液のゲル化が起こるとともに、攪拌によってゲル相が破
壊され、微細なゲル相とゲル相とが混然とした状態とな
る。 この状態において、ゲル化が不足してゲ
ル相の含有量が少ないと、後に無機基材上に形成される
微細な隆起が少なく、かつその高さも低くなり好ましく
ない、 これに対して、ゲル化が進行しす
ぎると、被膜形成用溶液の粘度が過度に増大し、塗布作
業が困難となるため好ましくない。
属アルコラートの加水分解反応を進行させると、前記溶
液のゲル化が起こるとともに、攪拌によってゲル相が破
壊され、微細なゲル相とゲル相とが混然とした状態とな
る。 この状態において、ゲル化が不足してゲ
ル相の含有量が少ないと、後に無機基材上に形成される
微細な隆起が少なく、かつその高さも低くなり好ましく
ない、 これに対して、ゲル化が進行しす
ぎると、被膜形成用溶液の粘度が過度に増大し、塗布作
業が困難となるため好ましくない。
次に上述のようにして得られた被膜形成用溶液を、無機
基材上に塗布して被膜を形成する。
基材上に塗布して被膜を形成する。
被膜形成用溶液の塗布に際しては、液体を固体表面に塗
布するいずれのタイプの塗布法も採用しうるが、浸漬法
、流下法、スプレー法、超音波霧化法などが採用でき、
このうち超音波霧化法が基材への均一な塗布を可ス献に
しうるという観点から好ましい。
布するいずれのタイプの塗布法も採用しうるが、浸漬法
、流下法、スプレー法、超音波霧化法などが採用でき、
このうち超音波霧化法が基材への均一な塗布を可ス献に
しうるという観点から好ましい。
次に塗布された被膜を加熱して、被膜の乾燥および焼成
を行なう、 乾燥工程ならびに焼成工程は
、一連の工程として行なってもよく、また別々の工程と
して行なってもよい。
を行なう、 乾燥工程ならびに焼成工程は
、一連の工程として行なってもよく、また別々の工程と
して行なってもよい。
被膜の乾燥工程としては、好ましくは １００〜１３０
℃で１０〜５０分間程度、塗布被膜を加熱すればよく、
また焼成工程としては、２８０〜３５０℃、好ましくは
３００〜３２０℃で１０〜６０分間程度、塗布被膜を加
熱すればよい、 乾燥工程における加熱温度
の制御はあまり重要ではないが、焼成工程における加熱
温度の制御は重要である。
℃で１０〜５０分間程度、塗布被膜を加熱すればよく、
また焼成工程としては、２８０〜３５０℃、好ましくは
３００〜３２０℃で１０〜６０分間程度、塗布被膜を加
熱すればよい、 乾燥工程における加熱温度
の制御はあまり重要ではないが、焼成工程における加熱
温度の制御は重要である。
焼成温度が２８０℃未満であると、塗布被膜のガラス化
が不充分となり、被膜が基材から剥離しやすくなるため
好ましくない。
が不充分となり、被膜が基材から剥離しやすくなるため
好ましくない。
また焼成温度が３５０℃を超えると、塗布被膜がガラス
化と同時に流動化するため、隆起が低くなりすぎるため
好ましくない。
化と同時に流動化するため、隆起が低くなりすぎるため
好ましくない。
もっとも、この温度範囲は焼成炉の条件や無機基材の大
きさ等に左右されるが、概略上記の範囲で目的は達せら
れる。
きさ等に左右されるが、概略上記の範囲で目的は達せら
れる。
こ、のようにして、無機基材上に高さ０．１〜２．ＯＪ
Ｊ、１１の微細な隆起を多数有する透明無機被膜が形成
され、本発明に係る無機板が得られる。
Ｊ、１１の微細な隆起を多数有する透明無機被膜が形成
され、本発明に係る無機板が得られる。
なお、本発明に係る無機板においては、透明無機被膜は
０．１〜２．０ 終ｍの高さの隆起を有しているが、こ
の隆起はアメーバ状の不定形であるため、広い範囲で変
化している。
０．１〜２．０ 終ｍの高さの隆起を有しているが、こ
の隆起はアメーバ状の不定形であるため、広い範囲で変
化している。
なお、本明細書において無機板とは、必ずしも板状のも
のばかりを意味するのではなく、屈曲した形状を有して
いてもよく、場合によっては板目体が１つの曲面形状を
なした物品を形成していてもよい。
のばかりを意味するのではなく、屈曲した形状を有して
いてもよく、場合によっては板目体が１つの曲面形状を
なした物品を形成していてもよい。
［実施例］
以下本発明を実施例により説明するが１本発明はこれら
実施例に限定されるものではない。
実施例に限定されるものではない。
下記の組成を有する ４吋カラーブラウン管用フェース
プレートを透明無機基材として用いた。
プレートを透明無機基材として用いた。
Ｓ、Ｏ： ６３％
ＡＩＯ：２％
ＲＯ：１９％
ＲＯ：１Ｇ％
（ＲＯは、ＧａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ、ＰｂＯなどのアル
カリ土類金属酸化物であり、ＲＯはＫ Ｏ、Ｈａ ０１
ＬＩ２０などのアルカリ金属酸化物である。） この基材は、上記に加えて、微量のＮ＋０ 、Ｇａ２Ｏ
。
カリ土類金属酸化物であり、ＲＯはＫ Ｏ、Ｈａ ０１
ＬＩ２０などのアルカリ金属酸化物である。） この基材は、上記に加えて、微量のＮ＋０ 、Ｇａ２Ｏ
。
Ｃｒ２Ｏ３などの着色用金属酸化物を含有しており、こ
の基材はカラーブラウン管用ガラス板として入手可能で
ある。
の基材はカラーブラウン管用ガラス板として入手可能で
ある。
この基材の熱膨張率は９９Ｘ １Ｇ−７７’０であり、
軟化点は６９０℃、徐冷点は５００℃である。
軟化点は６９０℃、徐冷点は５００℃である。
一方、下記組成を有する溶液を調製した。
エチルシリケート １重量部
エタノール ７重量部
インプロパツール ５重量部
ブタノール ８重量部
得られた溶液１００ｇに １２Ｎの塩酸０．９ａｇを添
加して、透明無機被膜形成溶液を調製した。
加して、透明無機被膜形成溶液を調製した。
この溶液を、温度１８℃、相対湿度３５％の室内で、攪
拌機により毎分４００回転の速度で約３時間攪拌した。
拌機により毎分４００回転の速度で約３時間攪拌した。
次に、得られた溶液を超音波発振器を備えた霧化機によ
り霧化させながら、透明無機基材上に一様に塗布して被
膜を形成した。
り霧化させながら、透明無機基材上に一様に塗布して被
膜を形成した。
被膜が形成された基材を、 １２０℃に温度設定された
乾燥器内に入れ、約３０分間被膜の乾燥を行なった。
この塗布乾燥を３回繰り返した。
乾燥器内に入れ、約３０分間被膜の乾燥を行なった。
この塗布乾燥を３回繰り返した。
次に、被膜の乾燥後、基材を焼成炉中に入れて、 ３１
０°Ｃで約１５分間焼成して、透明無機基材上に多数の
微細な隆起を有する透明無機被膜を形成した。
０°Ｃで約１５分間焼成して、透明無機基材上に多数の
微細な隆起を有する透明無機被膜を形成した。
得られた透明無機板に、螢光灯の像を反射させて見たと
ころ、螢光灯の像はあたかも霧をとおして見るごとくぼ
やけて見えた。
ころ、螢光灯の像はあたかも霧をとおして見るごとくぼ
やけて見えた。
一方、無処理の透明無機基材板に同様にして螢光灯の像
を反射させて見たところ、螢光灯の像は鮮明によく見え
た。
を反射させて見たところ、螢光灯の像は鮮明によく見え
た。
本発明により処理されて得られた透明無機板は、従来法
のフッ酸処理により得られたものと比較して、優るとも
劣らぬ反射防止効果を有していた。
のフッ酸処理により得られたものと比較して、優るとも
劣らぬ反射防止効果を有していた。
また本発明により得られた透明無機板の表面を顕微鏡で
観察したところ、アミーバ状の不定形の微廁な隆起が全
面にわたって散在しているのが認められた。
この隆起を触針式表面粗さ計で測定したところ、隆起
の高さは０．２〜２．Ｏｐ−ｍの範囲にあり、その大部
分は０−４〜０．７ ｐ、ｍの範囲にあった。
観察したところ、アミーバ状の不定形の微廁な隆起が全
面にわたって散在しているのが認められた。
この隆起を触針式表面粗さ計で測定したところ、隆起
の高さは０．２〜２．Ｏｐ−ｍの範囲にあり、その大部
分は０−４〜０．７ ｐ、ｍの範囲にあった。
［発明の効果］
本発明に係る無機板は、上記のような構成を有するので
、７ツ酸を用いずとも表面反射が低減され、たとえばカ
ラーブラウン管に用いる場合には、鮮明に画像が見える
。
、７ツ酸を用いずとも表面反射が低減され、たとえばカ
ラーブラウン管に用いる場合には、鮮明に画像が見える
。
また本発明に係る無機板の製造方法によれば、フッ酩を
用いることなく表面反射が低減された無機板が得られる
。
用いることなく表面反射が低減された無機板が得られる
。
Claims (2)
- （１）無機基材上に、高さ０．１〜２．０μｍの微細な
隆起を多数有をる透明無機被膜が設けられていることを
特徴とする無機板。 - （２）無機基材上に、金属アルコラート、アルコール溶
剤および加水分解制御剤を含むとともに金属アルコラー
トの一部が加水分解された透明無機被膜形成用溶液を塗
布して被膜を形成し、次いでこの被膜を加熱して乾燥お
よび焼成を行ない、無機基材上に高さ０．１〜２．０μ
ｍの微細な隆起を多数形成することを特徴とする無機板
の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18880684A JPS6168350A (ja) | 1984-09-11 | 1984-09-11 | 表面反射の低減された無機板ならびにその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18880684A JPS6168350A (ja) | 1984-09-11 | 1984-09-11 | 表面反射の低減された無機板ならびにその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6168350A true JPS6168350A (ja) | 1986-04-08 |
Family
ID=16230127
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18880684A Pending JPS6168350A (ja) | 1984-09-11 | 1984-09-11 | 表面反射の低減された無機板ならびにその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6168350A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0272639A2 (en) * | 1986-12-23 | 1988-06-29 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Method of manufacturing cathode-ray tube |
| FR2629268A1 (fr) * | 1987-12-10 | 1989-09-29 | Hitachi Ltd | Panneau d'affichage d'images et procede pour fabriquer un tel panneau |
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| CN107841164A (zh) * | 2017-10-30 | 2018-03-27 | 上海艾谡新材料有限公司 | 一种减反射镀膜溶液与制备方法以及光伏玻璃的生产方法 |
-
1984
- 1984-09-11 JP JP18880684A patent/JPS6168350A/ja active Pending
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