JPS6155602A - ビ−ムスプリツタ− - Google Patents
ビ−ムスプリツタ−Info
- Publication number
- JPS6155602A JPS6155602A JP17675584A JP17675584A JPS6155602A JP S6155602 A JPS6155602 A JP S6155602A JP 17675584 A JP17675584 A JP 17675584A JP 17675584 A JP17675584 A JP 17675584A JP S6155602 A JPS6155602 A JP S6155602A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- refractive index
- substance
- beam splitter
- substrate
- film structure
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
- Optical Filters (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［技術分野］
本発明はビームスプリッタ−に関し、特に透過波長域中
に狭帯域の反射帯域を有するビームスプリッタ−に関す
る。
に狭帯域の反射帯域を有するビームスプリッタ−に関す
る。
［従来技術］
従来、ダイクロイックビームスプリッタ−は各種の光学
系において広く用いられている。ダイクロイックビーム
スプリッタ−は、透過波長領域と反射波長領域とを設定
すべく２種類の物質を基板上に積層することにより実現
される。たとえば、可視域透過及び近赤外域反射のグイ
クロイックビームスプリッタ−はガラス基板上に高屈折
率物質（Ｈ）層と低屈折率物質（Ｌ）層とを交互に積層
し以下の基本膜構成とすることにより実現される。
系において広く用いられている。ダイクロイックビーム
スプリッタ−は、透過波長領域と反射波長領域とを設定
すべく２種類の物質を基板上に積層することにより実現
される。たとえば、可視域透過及び近赤外域反射のグイ
クロイックビームスプリッタ−はガラス基板上に高屈折
率物質（Ｈ）層と低屈折率物質（Ｌ）層とを交互に積層
し以下の基本膜構成とすることにより実現される。
基板／ ＩＬＨ局Ｌ） Ｋｎ／ｎ／
大気縁返し回数
ここで、％Ｌは低屈折率層の光学的膜厚が高屈折率層の
光学的膜厚の半分であることを表わす。
光学的膜厚の半分であることを表わす。
ところで、グイクロイックビームスプリッタ−は用途に
よって種々の分光特性を有するものが使用されるが、近
年においては特にレーザ光を利用する光学系において極
めて狭い波長域で透過波長域と反射波長域とを形成する
ことが要求される様になってきている。
よって種々の分光特性を有するものが使用されるが、近
年においては特にレーザ光を利用する光学系において極
めて狭い波長域で透過波長域と反射波長域とを形成する
ことが要求される様になってきている。
しかして、この様な要求にこたえるべく、上記の様な積
層膜を有するビームスプリッタ−において、可視域中に
おいて反射帯域を設けるには、基板／ （３４ＬＨイｒ
、）ｍ （局Ｌ”Ｈ”鍔Ｌ′）ｆＬ／大気 ｍ、交：繰返し回数 なる構成が考えられる。しかしながら、この様に構成し
たビームスプリッタ−においては反射帯域がかなり広く
なり、所望の帯域中に透過帯域と反射帯域とを形成する
ことは困難である。
層膜を有するビームスプリッタ−において、可視域中に
おいて反射帯域を設けるには、基板／ （３４ＬＨイｒ
、）ｍ （局Ｌ”Ｈ”鍔Ｌ′）ｆＬ／大気 ｍ、交：繰返し回数 なる構成が考えられる。しかしながら、この様に構成し
たビームスプリッタ−においては反射帯域がかなり広く
なり、所望の帯域中に透過帯域と反射帯域とを形成する
ことは困難である。
［発明の目的］
本発明は、上記の如き従来技術に鑑み、可視域中に狭帯
域反射帯域を有するビームスプリッタ−を提供すること
を目的とする。
域反射帯域を有するビームスプリッタ−を提供すること
を目的とする。
［発明の要旨］
本発明によれば、以上の様な目的１ｉ−１基板上に少な
くとも比較的高い屈折率を有する物質（Ｈ）と比較的低
い屈折率を有する物質（Ｌ）とそれらの中間の屈折率を
有する物質（Ｍ）とを積層してなるビームスプリッタ−
において、基本膜構成が基ｉ／ ＩＨＬＭＬ局Ｈ）”／
大Ｓ ｍ：繰返し回数 で表わされることを特徴とする。ビームスプリッタ−に
より達成される。
くとも比較的高い屈折率を有する物質（Ｈ）と比較的低
い屈折率を有する物質（Ｌ）とそれらの中間の屈折率を
有する物質（Ｍ）とを積層してなるビームスプリッタ−
において、基本膜構成が基ｉ／ ＩＨＬＭＬ局Ｈ）”／
大Ｓ ｍ：繰返し回数 で表わされることを特徴とする。ビームスプリッタ−に
より達成される。
［発明の実施例］
第１表は本発明によるビームスプリッタ−の一実施例の
膜構成を示すものである。
膜構成を示すものである。
第 １ 表
層Ｎｏ、 屈折率（ｎ） 光学膜厚（ｎｄ）×４ｎ
ｍ 基板 １．５２ １ ２．３５ １００７ （５００＋５０７） ２ １．３８ １１２５ ３ ２．００ １０３３ ４ １．３８ １１２５ ５ ２．３５ １０１４ ６ １．３８ １１２５ ７ ２．００ １０３３ ８ １．３８ １１２５ ９ ２．３５ １０１４ １０ １．３８ １１２５ １１ ２．００ １０３３ １２ １．３８ １１２５ １３ ２．３５ １０１４ １４ １．３８ １１２’５１５ ２
．００ １０３３ １６ １．３８ １１２５ １７ ２．３５ ５０７ １８ １．８０ ５００ １．００ 本実施例における基本ＩＩ！構成Ｉオ （ＭＨＬＭＬ％Ｈ） ｍ ｍ ： ａ返し回数 で表わされる。ここで、％Ｌは低屈折率層の光学的膜厚
が高屈折率層の膜厚の半分であることを表わす。本実施
例における高屈折率層の屈折率ｎＨは２．３５であり、
中間屈折率層の屈折率ｎＭは２．００であり、低屈折率
層の屈折率ｎＬは１゜３８である。
ｍ 基板 １．５２ １ ２．３５ １００７ （５００＋５０７） ２ １．３８ １１２５ ３ ２．００ １０３３ ４ １．３８ １１２５ ５ ２．３５ １０１４ ６ １．３８ １１２５ ７ ２．００ １０３３ ８ １．３８ １１２５ ９ ２．３５ １０１４ １０ １．３８ １１２５ １１ ２．００ １０３３ １２ １．３８ １１２５ １３ ２．３５ １０１４ １４ １．３８ １１２’５１５ ２
．００ １０３３ １６ １．３８ １１２５ １７ ２．３５ ５０７ １８ １．８０ ５００ １．００ 本実施例における基本ＩＩ！構成Ｉオ （ＭＨＬＭＬ％Ｈ） ｍ ｍ ： ａ返し回数 で表わされる。ここで、％Ｌは低屈折率層の光学的膜厚
が高屈折率層の膜厚の半分であることを表わす。本実施
例における高屈折率層の屈折率ｎＨは２．３５であり、
中間屈折率層の屈折率ｎＭは２．００であり、低屈折率
層の屈折率ｎＬは１゜３８である。
しかして、この基本膜構成の等価屈折率は第１図に示さ
れる通りであり、可視域中に狭帯域の反射帯域の可能性
を示している。しかし、以上の基本膜構成のみでは可視
域での透過率は第２図の様に比較的低く、しかも比較的
リップルの目立つ分光特性を示す。
れる通りであり、可視域中に狭帯域の反射帯域の可能性
を示している。しかし、以上の基本膜構成のみでは可視
域での透過率は第２図の様に比較的低く、しかも比較的
リップルの目立つ分光特性を示す。
そこで、本実施例においては基板と基本膜構成との間及
び基本膜構成と大気との間にリップル除去のためのマツ
チング層を配している。つまり、基本膜構成の可視域に
おける等価屈折率をＮとしたとき、屈折率ｎ の基板と
基本膜構成との間にはぼ（ｎ ＸＮ）ｙ２の屈折率を
有する物質からなる膜（第１表における層Ｎｏ、１の厚
さ４ｎｄ＝５００ｎｍの層）を介在せしめ・、一方基本
膜構成と大気との間にほぼＮ′！の屈折率を有する物質
からなるＩＩ！ （第１表における層Ｎｏ、１８）を付
加している。これらのマツチング層は１層のみから形成
してもよいし、２層以上からなる等髄膜を用いてもよい
。
び基本膜構成と大気との間にリップル除去のためのマツ
チング層を配している。つまり、基本膜構成の可視域に
おける等価屈折率をＮとしたとき、屈折率ｎ の基板と
基本膜構成との間にはぼ（ｎ ＸＮ）ｙ２の屈折率を
有する物質からなる膜（第１表における層Ｎｏ、１の厚
さ４ｎｄ＝５００ｎｍの層）を介在せしめ・、一方基本
膜構成と大気との間にほぼＮ′！の屈折率を有する物質
からなるＩＩ！ （第１表における層Ｎｏ、１８）を付
加している。これらのマツチング層は１層のみから形成
してもよいし、２層以上からなる等髄膜を用いてもよい
。
［発明の効果］
以上の様な本発明によれば、従来の膜構成では困難であ
った可視透過帯域中での狭帯域反射帯域の形成を可能と
することができ、しかも狭帯域反射帯域において純単色
光たとえばレーザ光に対してビームスプリッタ−として
利用できると同時に近赤外域では広帯域の高反射鏡を形
成することができレーザミラーとして利用できる。更に
従来の１ 膜構成により上記目的を達成する干渉フィル
ターを構成した場合に比較し、ｎａ層数を著しく低減さ
せる効果をも有する。
った可視透過帯域中での狭帯域反射帯域の形成を可能と
することができ、しかも狭帯域反射帯域において純単色
光たとえばレーザ光に対してビームスプリッタ−として
利用できると同時に近赤外域では広帯域の高反射鏡を形
成することができレーザミラーとして利用できる。更に
従来の１ 膜構成により上記目的を達成する干渉フィル
ターを構成した場合に比較し、ｎａ層数を著しく低減さ
せる効果をも有する。
第１図は膜構成の等価屈折率のグラフである。
第２図は膜構成の分光特性を示すグラフである。
４００５００ａ）０７００８００９００１０００１１０
０１２００坂、ＩＣ（ｎｍ）
０１２００坂、ＩＣ（ｎｍ）
Claims (4)
- （１）基板上に少なくとも比較的高い屈折率を有する物
質（Ｈ）と比較的低い屈折率を有する物質（Ｌ）とそれ
らの中間の屈折率を有する物質（Ｍ）とを積層してなり
、基本膜構成が 基板／（１／２ＨＬＭＬ１／２Ｈ）＾ｍ／大気ｍ：繰返
し回数 で表わされることを特徴とする、ビームスプリッター。 - （２）基板と基本膜構成との間及び基本膜構成と大気と
の間に分光特性上のリップルの除去のためのマッチング
層を有する、第１項のビームスプリッター。 - （３）基板と基本膜構成との間のマッチング層の屈折率
が、基板の屈折率をｎ＿ｇとし基本膜構成の可視域にお
ける等価屈折率をＮとして、ほぼ（ｎ＿ｇ×Ｎ）＾１＾
／＾２である、第２項のビームスプリッター。 - （４）基本膜構成と大気との間のマッチング層の屈折率
が、基本膜構成の可視域における等価屈折率をＮとして
、ほぼＮ＾１＾／＾２である、第２項のビームスプリッ
ター。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17675584A JPS6155602A (ja) | 1984-08-27 | 1984-08-27 | ビ−ムスプリツタ− |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17675584A JPS6155602A (ja) | 1984-08-27 | 1984-08-27 | ビ−ムスプリツタ− |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6155602A true JPS6155602A (ja) | 1986-03-20 |
Family
ID=16019241
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17675584A Pending JPS6155602A (ja) | 1984-08-27 | 1984-08-27 | ビ−ムスプリツタ− |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6155602A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS638702A (ja) * | 1986-06-30 | 1988-01-14 | Hoya Corp | 無偏光ビ−ムスプリツタ− |
| JPS6432201A (en) * | 1987-07-28 | 1989-02-02 | Asahi Optical Co Ltd | Laminated structure of thin dielectric film |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS49107428A (ja) * | 1973-02-14 | 1974-10-12 | ||
| JPS55117106A (en) * | 1979-02-28 | 1980-09-09 | Seiko Epson Corp | Multilayer interference film |
| JPS57212403A (en) * | 1981-06-24 | 1982-12-27 | Canon Inc | Trimming filter |
-
1984
- 1984-08-27 JP JP17675584A patent/JPS6155602A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS49107428A (ja) * | 1973-02-14 | 1974-10-12 | ||
| JPS55117106A (en) * | 1979-02-28 | 1980-09-09 | Seiko Epson Corp | Multilayer interference film |
| JPS57212403A (en) * | 1981-06-24 | 1982-12-27 | Canon Inc | Trimming filter |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS638702A (ja) * | 1986-06-30 | 1988-01-14 | Hoya Corp | 無偏光ビ−ムスプリツタ− |
| JPS6432201A (en) * | 1987-07-28 | 1989-02-02 | Asahi Optical Co Ltd | Laminated structure of thin dielectric film |
| JPH0516003B2 (ja) * | 1987-07-28 | 1993-03-03 | Asahi Optical Co Ltd |
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