JPS6154015B2 - - Google Patents

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JPS6154015B2
JPS6154015B2 JP53145509A JP14550978A JPS6154015B2 JP S6154015 B2 JPS6154015 B2 JP S6154015B2 JP 53145509 A JP53145509 A JP 53145509A JP 14550978 A JP14550978 A JP 14550978A JP S6154015 B2 JPS6154015 B2 JP S6154015B2
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JP
Japan
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hydroxy
acid
threo
oxo
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Application number
JP53145509A
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JPS5572151A (en
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Hamao Umezawa
Takaaki Aoyanagi
Tadashi Shirai
Rinzo Nishizawa
Masao Suzuki
Tetsuyuki Saino
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Nippon Kayaku Co Ltd
Original Assignee
Nippon Kayaku Co Ltd
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Publication date
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Priority to DE2954076A priority patent/DE2954076C2/de
Priority to FR7928830A priority patent/FR2442227A1/fr
Priority to GB7940413A priority patent/GB2037754B/en
Priority to DK496379A priority patent/DK162288C/da
Priority to HU247179A priority patent/HU186097B/hu
Priority to AR278992A priority patent/AR227636A1/es
Priority to CH5649/81A priority patent/CH653687A5/de
Priority to CS480581A priority patent/CS221954B2/cs
Priority to GB8200496A priority patent/GB2090595B/en
Priority to AU53115/79A priority patent/AU530362B2/en
Priority to CH6192/83A priority patent/CH653669A5/de
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Priority to IT27487/79A priority patent/IT1194593B/it
Priority to CA000340428A priority patent/CA1182125A/en
Priority to US06/096,693 priority patent/US4281180A/en
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は下記一般式()で表わされるスレオ
―(2RS)―3―保護アミノ―2―ヒドロキシ―
4―オキソ―4―フエニル酪酸またはそのエステ
(式中、R1は水素原子、ヒドロキシル基を示し、
R2はアシル基、オキシカルボニル基但しカルボ
キシル基を除く、カルバミル基またはフタリル基
で保護されたアミノ基を示し、R3は水素原子あ
るいはエステル残基を示す。) および一般式()で表わされる (式中、R1は前記に同じであり、R2はアシル基、
オキシカルボニル基但しカルボキシル基を除く、
カルバミル基またはフタリル基で保護されたアミ
ノ基を示す。) 2―オキソ―2―フエニルエチルアミン誘導体と
一般式()で表わされる (R3は水素原子あるいはエステル残基を示す。) グリオキシル酸またはそのエステルを反応させ
て、一般式()で表わされる3―保護アミノ―
2―ヒドロキシル―4―オキソ―4―フエニル酪
酸またはそのエステルの製造法に関するものであ
る。 本発明によつて得られる一般式()で表わさ
れるスレオ―(2RS)―3―保護アミノ―2―ヒ
ドロキシル―4―オキソ―4―フエニル酪酸また
はそのエステルは新規物質であり、ベスタチンの
構成アミノ酸である(2S,3R)―3―アミノ―
2―ヒドロキシ―4―フエニル酪酸およびその誘
導体を製造するための重要な中間化合物である。 ベスタチン(Bestatin),(2S,3R)―3―ア
ミノ―2―ヒドロキシ―4―フエニルブタノイル
―(S)―ロイシン、は梅沢らによつて、アミノ
ペプチダーゼBの阻害物質として、ストレプトミ
セス・オリボレテキユリ(Streptomyces
Olivoreticuli)の培養液より単離された極めて
低毒性の物質(特開昭51―7187公報参照)であ
り、遅延性過敏症など免疫応答に増強作用示し、
生体の防禦機構を賦活し、癌に対して抑制効果を
有することが見い出され(特開昭52―117435公報
参照)医薬品としてその有用性が期待されている
化合物である。 ベスタチンの製造法に関しては培養法およびベ
スタチンの関連化合物も含めて、合成法(特開昭
52―136118公報参照)が知られている。ベスタチ
ンおよびその関連化合物の合成法においてはベス
タチンそのものよりも構成アミノ酸である
(2S,3R)―3―アミノ―2―ヒドロキシ―4―
フエニル酪酸誘導体をいかに合理的に合成するか
が極めて重要な問題である。従来(2S,3R)―
3―アミノ―2―ヒドロキシ―4―フエニル酪酸
誘導体は下図に示す方法で製造されてきた。 即ち(R)―フエニルアラニン(a)をベンジルオキ
シカルボニル誘導体(b)にかえ、次いで3,5―ジ
メチルピラゾールとジシクロヘキシルカルボジイ
ミドを用いて縮合させる。得られたベンジルオキ
シカルボニル―(R)―フエニルアラニンの3,
5―ジメチルピラゾリド(c)を水素化アルミニウム
リチウムで還元して、ベンジルオキシカルボニル
―(R)―フエニルアラニナール(d)にかえ、これ
に亜硫酸水素ナトリウムを作用させてその付加物
(e)を作り、さらに青酸化合物を作用させて、シア
ンヒドリン誘導体(f)に導く。これを酸で加水分解
して(2RS,3R)―3―アミノ―2―ヒドロキ
シ―4―フエニル酪酸(g)にかえ、再びベンジルオ
キシカルボニル化して、(2RS,3R)―3―ベン
ジルオキシカルボニルアミノ―2―ヒドロキシ―
4―フエニル酪酸(h)とし、これをブルシンを利用
して分別結晶し、(2S,3R)―3―ベンジルオキ
シカルボニルアミノ―2―ヒドロキシ―4―フエ
ニル酪酸(i)として作られてきた。 しかしながら、この方法は実験室スケールで行
うには何ら障害はなく遂行できるが、大規模な生
産を考えた場合、非天然型のアミノ酸であり、非
常に高価な(R)―フエニルアラニンを原料とす
ることからくる経済的問題、非常に発火性の強い
水素化アルミニウムリチウムによる還元を−20℃
以下の低温で行うことからくる安全性および装置
的問題、シアンヒドリンを合成する際に猛毒な青
酸化合物を使用することからくる安全衛生上の問
題などがあり、大量生産には決して好ましい方法
とは言い難い。 そこで我々はこれらの欠点を有せず、大量生産
に適した方法はないかと鋭意研究した結果、一般
式()で表わされる2―オキソ―2―フエニル
エチルアミン誘導体に一般式()で表わされる
グリオキシル酸またはそのエステルを作用させ、
一般式()で表わされるスレオ―(2RS)―3
―保護アミノ―2―ヒドロキシ―4―オキソ―4
―フエニル酪酸またはそのエステルが容易に得ら
れること、更にこれは還元することによつて、一
般式()で表わされる。 (R1およびR3は前記と同じである。R′2はアミノ
基またはアシルアミノ基、オキシカルボニルアミ
ノ基(但しカルボキシルアミノ基を除く)または
フタリルイミノ基を示す。)スレオ―(2RS)―
3―アミノ又は保護アミノ―2―ヒドロキシ―4
―フエニル酪酸またはそのエステルに容易に導く
ことができることを発見し、本発明を完成した。 本発明をさらに詳しく説明すれば、本発明の原
料である一般式()で表わされる2―オキソ―
2―フエニルエチルアミン誘導体において、R1
がヒドロキシル基である場合、このヒドロキシル
基はオルト位、パラ位またはメタ位のいずれに置
換していてもよい。またR2のアシル基、オキシ
カルボニル基但しカルボキシル基を除く、カルバ
ミル基またはフタリル基で保護されたアミノ基に
おけるアミノ基の保護基としてはホルミル基、ア
セチル基、クロルアセチル基、ジクロルアセチル
基、ブロムアセチル基、2―クロルプロピオニル
基、2―ブロムプロピオニル基、ベンゾイル基な
どのアシル基;メトキシカルボニル基、エトキシ
カルボニル基、イソプロピルオキシカルボニル
基、イソブチルオキシカルボニル基、t―ブチル
オキシカルボニル基、t―アミルオキシカルボニ
ル基、2,2,2―トリクロルエトキシカルボニ
ル基、シクロぺンチルオキシカルボニル基、シク
ロヘキシルオキシカルボニル基、ベンジルオキシ
カルボニル基、p―メトキシベンジルオキシカル
ボニル基、p―ハロゲノベンジルオキシカルボニ
ル基、p―ニトロベンジルオキシカルボニル基な
どのオキシカルボニル基;およびフタリル基等が
あげられる。またこの保護基中におけるアルキル
基、フエニル基、フエニレン基等は反応に支障を
与えない置換基を有していてもよい。 また本発明のもう一つの原料である一般式
()で表わされる化合物におけるR3のエステル
残基の例としてはメチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基などの低級アルキル基があげられ、
この低級アルキル基は反応に支障を来たさないフ
エニル、クロル等の置換基を有してもよい。なお
本明細書において低級アルキル基とは炭素数1な
いし6のアルキル基を意味する。 本発明の反応は水、水と有機溶媒の混合溶媒あ
るいは有機溶媒中、塩基の存在下一般式()で
表わされる2―オキソ―2―フエニルエチルアミ
ン誘導体と一般式()であらわされるグリオキ
シル酸またはそのエステルを反応させることによ
つて行われる。 本発明において、水との混合溶媒として使用す
る有機溶媒としては水に溶けるものであれば特に
制限はないが、メタノール、エタノール、プロパ
ノールなどの低級アルコール類、アセトン、メチ
ルエチルケトンなどのケトン類、アセトニトリ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメチル
ホルムアミド、ジメチルアセトセミド、ジメチル
スルホキシドが好ましい。 また有機溶媒中で反応を行う時、有機溶媒とし
ては原料が溶けるものであれば特に制限はないが
上記の溶媒のほか、酢酸メチル、酢酸エチルなど
のエステル類、ジエチルエーテル、ジイソプロピ
ルエーテルなどのエーテル類、クロロホルム、四
塩化炭素などのハロゲン化炭化水素類が好まし
い。 本発明に用いる反応温度は0℃から溶媒の沸点
まで使用することができるが、室温から60℃ぐら
いで行うのが好ましく、普通一夜反応させること
によつて反応は完結する。 本発明に使用する塩基としては水酸化カリウ
ム、水酸化ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸ナト
リウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウ
ム、アンモニアなどの無機塩基、酢酸カリウム、
酢酸ナトリウム、ピリジン、トリメチルアミン、
トリエチルアミンなどの有機塩基があげられる
が、水あるいは含水有機溶媒中で反応を行うとき
は無機塩基特に炭酸水素カリウム、炭酸水素ナト
リウムが好ましく、有機溶媒あるいは含水有機溶
媒中で反応を行うときは有機塩基特にトリエチル
アミンが好ましく、使用する量は反応液の液性が
弱酸性ないし、アルカリ性を保つ量であれば特に
制限はないが、使用する一般式()で表わされ
るグリオキシル酸またはそのエステルに対して1
〜2当量であることが好ましい。 本発明に使用する一般式()で表わされるグ
リオキシル酸またはそのエステルの量は特に制限
はなく、例えば一般式()で表わされる2―オ
キソ―2―フエニルエチルアミン誘導体に対して
0.2〜10当量の広い範囲で使用しうるが、実用的
には0.5〜5当量、好ましくは1〜2当量であ
る。 一般式()において、R3が水素原子である
グリオキシル酸の場合は水溶液を使用しても差し
障りない。 このようにして、一般式()の化合物と一般
式()の化合物を反応させることにより一般式
()の化合物を得ることができる。この化合物
の反応液からの単離はたとえば次のようにして行
われる。 (イ) R3が水素原子のとき、 反応溶媒として水を用いた場合には反応液
に酸を加え、酸性にし、結晶を析出させ、こ
の結晶を取することにより、 反応溶媒として水と有機溶媒の混合溶媒を
用いて反応を行つた場合には、まず有機溶媒
を減圧下に除去し、次いで酸の水溶液を加
え、酸性にし、結晶を析出させ、この結晶を
取することにより行われる。 (ロ) R3がエステル残基のときは通常反応溶媒と
して有機溶媒または含水溶媒が使用されるの
で、反応後反応液を減圧濃縮して有機溶媒を留
去し、水を加えて、酢酸エチルなどで抽出し、
水洗し、無水硫酸ナトリウムなどを加えて脱水
乾燥し、溶媒を減圧で留去し、残渣にn―ヘキ
サンなどを加え、析出した結晶を取すること
によつて行われる。 かくして得られた一般式()で表わされるス
レオ―(2RS)―3―保護アミノ―2―ヒドロキ
シ―4―オキソ―4―フエニル酪酸またはそのエ
ステルの代表的な例としてはスレオ―(2RS)―
3―アセチルアミノ―2―ヒドロキシ―4―オキ
ソ―4―フエニル酪酸、スレオ―(2RS)―3―
アセチルアミノ―2―ヒドロキシ―4―オキソ―
4―フエニル酪酸のエチルエステル、スレオ―
(2RS)―3―クロルアセチルアミノ―2―ヒド
ロキシ―4―オキソ―4―フエニル酪酸、スレオ
―(2RS)―3―メトキシカルボニルアミノ―2
―ヒドロキシ―4―オキソ―4―フエニル酪酸、
スレオ―(2RS)―3―t―ブトキシカルボニル
アミノ―2―ヒドロキシ―4―オキソ―4―フエ
ニル酪酸、スレオ―(2RS)―3―フタルイミノ
―2―ヒドロキシ―4―オキソ―4―フエニル酪
酸、スレオ―(2RS)―3―ベンゾイルアミノ―
2―ヒドロキシ―4―オキソ―4―フエニル酪
酸、スレオ―(2SR)―3―アセチルアミノ―2
―ヒドロキシ―4―オキソ―4―(4′ヒドロキシ
フエニル)酪酸、スレオ―(2RS)―3―ベンゾ
イルアミノ―2―ヒドロキシ―4―オキソ―4―
(4′ヒドロキシフエニル)酪酸、スレオ―
(2RS)―3―アセチルアミノ―2―ヒドロキシ
―4―オキソ―4―(3′―ヒドロキシフエニル)
酪酸、スレオ―(2RS)―3―ベンゾイルアミノ
―2―ヒドロキシ―4―オキソ―4―(3′―ヒド
ロキシフエニル)酪酸、スレオ―(2RS)―3―
アセチルアミノ―2―ヒドロキシ―4―オキソ―
4―(2′―ヒドロキシフエニル)酪酸、スレオ―
(2RS)―3―ベンゾイルアミノ―2―ヒドロキ
シ―4―オキソ―4―(2′―ヒドロキシフエニ
ル)酪酸などがあげられる。 本発明で得られた一般式()で表わされるス
レオ―(2RS)―3―保護アミノ―2―ヒドロキ
シ―4―オキソ―4―フエニル酪酸またはそのエ
ステルは例えば酢酸中パラジウム炭素を触媒とす
る接触還元によつて、一般式()で表わされる
スレオ―(2RS)―3―アミノ又は保護アミノ―
2―ヒドロキシ―4―フエニル酪酸またはそのエ
ステルに容易に導くことができる。 ここで使用される還元方法としては、芳香族環
に直結したカルボニル基をメチレン基に変換でき
るものであれば特に制限はないが、パラジウム
黒、パラジウム炭素、パラジウム硫酸バリウムな
どのパラジウム類またはラネーニツケルによる接
触還元、水素化アルミニウムリチウム、水素化ビ
ス(2―メトキシエトキシ)アルミニウムナトリ
ウムなどと無水塩化アルミニウムによる還元、亜
鉛あるいはスズと酸による還元、液体アンモニア
中金属ナトリウムあるいは金属リチウムなどによ
る還元などがあげられるが、特にパラジウム黒や
パラジウム炭素などのパラジウム類、ラネーニツ
ケルによる接触還元が好ましい。 パラジウム類あるいはラネーニツケルを用いて
還元を行うのには一般式()で表わされるスレ
オ型3―保護アミノ―2―ヒドロキシ―4―オキ
ソ―4―フエニル酪酸またはそのエステルを溶媒
に溶かすか濁させ、これにパラジウム類あるいは
ラネーニツケルを加え、水素雰囲気中で行われ
る。水素の圧力としては常圧でも加圧でもよく、
加圧下に行えば反応は速やかに進行する。 また反応溶媒としては一般式()で表わされ
るスレオ―3―保護アミノ―2―ヒドロキシ―4
―オキソ―4―フエニル酪酸またはそのエステル
が少量でも溶ける溶媒であれば特に制限はない
が、酢酸プロピオン酸などの低級アルキルカルボ
ン酸およびメタノール、エタノールなどの低級ア
ルコールあるいはそれらを含む溶媒が好ましく、
反応温度は室温以上150℃まで使用できるが、酢
酸含有溶媒中40〜100℃で行うのが好ましい。 かくして得られた一般式()で表わされる3
―アミノ又は保護アミノ―2―ヒドロキシ―4―
フエニル酪酸またはそのエステルは触媒を別
後、液を濃縮し、残渣に適当な溶媒を加えて、
結晶を析出させ、析出した結晶を取することに
よつて反応液から容易に単離することができる。 一般式()で表わされる化合物において、
R2がクロルアセチル基、ジクロルアセチル基、
t―ブチルオキシカルボニル基、t―アミルオキ
シカルボニル基、2,2,2―トリクロルエトキ
シカルボニル、シクロペンチルオキシカルボニ
ル、シクロヘキシルカルボニルおよびフタリル等
で保護されたアミノ基である化合物は、光学分割
したのち、そのままロイシンと反応させてベスタ
チンとすることができるので好適である。 一般式()で表わされる3―アミノ又は保護
アミノ―2―ヒドロキシ―4―フエニル酪酸また
はそのエステルの代表的な例としてはスレオ―
(2RS)―3―アセチルアミノ―2―ヒドロキシ
―4―フエニル酪酸、スレオ―(2RS)―3―ア
セチルアミノ―2―ヒドロキシ―4―フエニル酪
酸のエチルエステル、スレオ―(2RS)―3―ベ
ンゾイルアミノ―2―ヒドロキシ―4―フエニル
酪酸、スレオ―(2RS)―3―クロルアセチルア
ミノ―2―ヒドロキシ―4―フエニル酪酸、スレ
オ―(2RS)―3―メトキシカルボニルアミノ―
4―フエニル酪酸、スレオ―(2RS)―3―t―
ブチルオキシカルボニルアミノ―4―フエニル酪
酸、スレオ―(2RS)―3―t―フタルイミノ―
4―フエニル酪酸、スレオ―(2RS)―3―アセ
チルアミノ―2―ヒドロキシ―4―(4′―ヒドロ
キシフエニル)酪酸、スレオ―(2RS)―3―ベ
ンゾイルアミノ―2―ヒドロキシ―4―(4′ヒド
ロキシフエニル)酪酸、スレオ―(2RS)―3―
アセチルアミノ―2―ヒドロキシ―4―(3′―ヒ
ドロキシフエニル)酪酸、スレオ―(2RS)―3
―ベンゾイルアミノ―2―ヒドロキシ―4―
(3′―ヒドロキシフエニル)酪酸、スレオ
(2RS)―3―アセチルアミノ―2―ドロキシ―
4―(2′―ヒドロキシフエニル)酪酸、スレオ―
(2RS)―3―ベンゾイルアミノ―2―ヒドロキ
シ―4―(2′―ヒドロキシフエニル)酪酸などが
あげられ、これらがスレオ―(2RS)―体のラセ
ミ体の場合は光学分割剤を使用して光学分割し、
エステルの場合はエステル残基を除去することに
よつて、また一般式()の化合物を光学分割し
て光学活性な(2S,3R)―体を原料として使用
した場合はそのまままたはエステル残基がある場
合にはそれを除去し、ベスタチンおよび関連化合
物の合成に必要な(2S,3R)―3―アミノ―2
―ヒドロキシ―4―フエニル酪酸誘導体に導くこ
とができる。 このようにして得られた(2S,3R)―3―ア
ミノ―2―ヒドロキシ―4―フエニル酪酸誘導体
はアミノ基が保護されている場合はそのまま、ま
たアミノ基が保護されていないときはアミノ基を
ベンジルオキシカルボニル基等の保護基で保護し
たのち、特開昭52―136118記載の方法に準じてロ
イシンと反応させ、保護基を除去することにより
ベスタチンとすることができる。 本発明の原料である一般式()で表わされる
2―オキソ―2―フエニルエチルアミン誘導体の
一部は新規化合物であり、一般式()で表わさ
れる (R1は前記に同じである。) アセトフエノンを臭素化して得られる相当する臭
化フエナシルにヘキサメチレンテトラミンを作用
させ、次いでこれを加水分解して相当するフエナ
シルアミンにかえ、適当なアシル化剤等を反応さ
せアミノ基を保護することによつて合成される。 以下実施例において本発明を具体的に説明す
る。 実施例 1 N―(2―オキソ―2―フエニルエチル)アセ
タミド4.43g(0.025mol)および炭酸水素ナトリ
ウム4.20g(0.05mol)を25%グリオキシル酸水
溶液13g(0.044mol)および水25mlに加えて溶か
し、50―60℃で一夜反応させると、反応は完結す
る。反応液を氷冷し、稀塩酸でPH1〜2に調整
し、析出した結晶を取し、水洗し、五酸化リン
上で真空乾燥すると、スレオ―(2RS)―3―ア
セチルアミノ―2―ヒドロキシ―4―オキソ―4
―フエニル酪酸4.07g(収率64.9%)が得られ
る。融点151―152℃(分解)。 NMRスペクトル(DMSO―d6)δ=2.0(S,
3H;CH3) 4.6(d,H,J=3Hz;C―OH)、5.9
(dd,H;C―NH) 7.7(multi、5H;【式】) このほか、NH、OHに基づくブロード
(broad)な吸収が6.6―8.0にあり、重水を加える
ことにより消失する。 実施例 2 N―(2―オキソ―2―フエニルエチル)ベン
ズアミド16.7g(0.07mol)および炭酸水素ナト
リウム13.0g(0.155mol)を25%グリオキシル酸
水溶液37.5g(0.13mol)、水100mlおよびメタノ
ール250mlに加えて溶かし、50―60℃で一夜反応
させる。 反応液中の不溶物を別し、液を減圧濃縮し
て、メタノールを留去し、稀塩酸でPHを1〜2に
調整し、析出した結晶を取し、水洗し、五酸化
リン上で真空乾燥すると、粗結晶17.6gが得られ
る。これを酢酸エチルから再結晶すると、スレオ
―(2RS)―3―ベンゾイルアミノ―2―ヒドロ
キシ―4―オキソ―4―フエニル酪酸13.5g(収
率61.8%)が得られる。 融点 174―6℃(分解) NMRスペクトル(DMSO―d6) δ=4.6(d,H,J=4Hz;C―OH),5.9
(dd,H;C―NH)7.7(multi、10H;
【式】)、8.5(d,H,J=9Hz;NH) および【式】 実施例 3 N―(2―オキソ―2―フエニルエチル)フタ
ルイミド10.0g(0.0377mol)および炭酸水素ナ
トリウム9.00g(0.107mol)を25%グリオキシル
酸水溶液20.1g(0.068mol)およびエタノール20
mlに加えて溶かし、50―60℃で24時間反応させ
る。 反応液を減圧濃縮して、エタノールを留去し、
残液に酢酸エチル100mlおよび5%炭酸水素ナト
リウム水溶液50mlを加えて、振盪し、炭酸水素ナ
トリウム溶液を分取し、稀塩酸でPHを1〜2に調
整し、析出した結晶を取し、水洗し、五酸化リ
ン上で真空乾燥すると、スレオ―(2RS)―3―
フタルイミノ―2―ヒドロキシ―4―オキソ―4
―フエニル酪酸1.97g(収率15.4%) 融点 168―170℃(分解)。 NMRスペクトル(DMSO―d6) δ=4.55(d,H,J=4Hz;C―OH)、 5.8(dd,H,C―NH)、7.8(multi、9H;
【式】【式】)、8.45(d,H,J= 9Hz、NH) 実施例 4 N―〔2―オキソ―2―(4′ヒドロキシフエニ
ル)エチル〕アセタミド10.0g(0.052mol)、炭
酸水素ナトリウム12.4g(0.148mol)および25%
グリオキシル酸27.6g(0.093mol)をメタノール
50mlに加え、50℃で21時間反応させる。 反応液を減圧で濃縮して、メタノールを留去
し、水50mlを加え、稀塩酸でPHを1―2に調整
し、岩塩を加えて飽和させ、酢酸エチル200mlず
つで5回抽出する。 酢酸エチル層を合し、無水硫酸ナトリウムで脱
水乾燥する。硫酸ナトリウムを別し、液を減
圧でよく濃縮し、残渣に少量の酢酸エチルを加
え、析出した結晶を取し、酢酸エチルで洗浄
し、乾燥すると、スレオ―(2RS)―3―アセチ
ルアミノ―2―ヒドロキシ―4―オキソ―4―
(4′―ヒドロキシフエニル)酪酸8.01gが得られ
る。 収率57.7%。 融点 179―181℃(分解) NMRスペクトル(DMSO―d6) δ=1.9(s,3H;CH3)、4.45(d,H,J=
3Hz;C―OH)、 5.7(dd,H;C―NH)、6.9,7.9(dd,
2H,2H,J=8Hz;【式】),7.95(d, H,J=8Hz;NH)。 実施例 5 N―(2―オキソ―2―フエニルエチル)アセ
タミド3.54g(0.02mol)、炭酸水素ナトリウム
1.68g(0.02mol)およびグリオキシル酸エチル
エステル4.08g(0.04mol)を80%エタノール50
mlに加え、50―60℃で一夜反応させる。 反応液を減圧で濃縮し、残渣に酢酸エチル50ml
および10%食塩水30mlを加えて、振盪分液し、水
層を酢酸エチル50mlで再度抽出し、酢酸エチル層
を合し、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウ
ムで脱水乾燥する。 硫酸ナトリウムを別し、液を減圧で濃縮す
ると、油状物が得られる。これをクロロホルム―
メタノール(9:1v/v)を溶媒とするカラム
クロマトグラフイを行い、目的物を含むフラクシ
ヨンを合し、減圧濃縮すると、油状のスレオ―
(2RS)―3―アセチルアミノ―2―ヒドロキシ
―4―フエニル酪酸のエチルエステル3.07gが得
られる。収率55.1%。 NMRスペクトル(DMSO―d6) δ=1.3(t,3H,J=7Hz;CH2 CH3 )、2.1
(s,3H;COCH3)、4.3(q,2H,J=7Hz;
H2 CH3)、4.6(d,H,J=2Hz;C
OH)6.0(dd,H;C―NH)、7.8(multi、
5H;【式】)、 8.6(broad、H,NH) IRスペクトル CHCl3 nax(cm-1)=3425,2990,1735,1675

1595,1500,1445,1370,1255,1230
(shoulder)、1095,1015。 実施例 6 N―〔2―(3′―ヒドロキシフエニル)―
2―オキソエチル〕ベンズアミド3.82g
(0.015mol)、炭酸水素ナトリウム3.78g
(0.0450mol)および25%グリオキシル酸7.76
g(0.030mol)を95%エタノール50mlおよび
メタノール50mlに加え、50―60℃で24時間反
応させる。 反応液を減圧で約20mlまで濃縮し、水を加
えて約50mlにし、濃塩酸を加えて、PHを1―
2に調整する。 次に酢酸エチル100mlおよび水50mlを加え
て、よく振盪し、分液する。水層に酢酸エチ
ル100mlを加え再度抽出し、酢酸エチル層を
合し、食塩水で2回洗浄し、無水硫酸マグネ
シウムで脱水乾燥する。 硫酸マグネシウムを別し、液を減圧で
濃縮し、残渣にエーテルを加え、析出した結
晶を取し、エーテルで洗浄し、乾燥する
と、スレオ―(2RS)―3―ベンゾイルアミ
ノ―2―ヒドロキシ―4―(3′―ヒドロキシ
フエニル)―4―オキソ酪酸1.96gが得られ
る。 収率40.2%、融点176―177℃(分解) NMRスペクトル(DMSO―d6) δ=4.7(d,H,J=4Hz;CH―OH),
5.95(dd,H; C―NH),7.5(multi、
9H;【式】【式】),8.4(d, H,J=9Hz;NH), 9.5―10.5に【式】に基づくブロ ード(broad)な吸収があり、重水を加えること
により消失する。 実施例 7 N―〔2―(3′―ヒドロキシフエニル)―2―
オキソエチル〕ベンズアミド3.82g(0.015mol)
のかわりに、2―アミノ―3′―ヒドロキシアセト
フエノンにジオキサン―水(1:1)中で、t―
ブチルS―4,6―ジメチルピリミド―2―イル
チオールカーボ―ネートおよびトリエチルアミン
を作用させて得られる2―t―ブチルオキシカル
ボニルアミノ―3′―ヒドロキシアセトフエノン
3.77g(0.015mol)を用い、それ以外は実施例6
と同様に反応を行い、反応液を減圧で約20mlまで
濃縮し、水を加えて約50mlにし、稀塩酸でPHを1
―2に調整すると、結晶が析出してくる。氷冷
後、析出した結晶を取し、水洗し、乾燥する
と、スレオ―(2RS)―3―t―ブチルオキシカ
ルボニルアミノ―2―ヒドロキシ―4―(3′―ヒ
ドロキシフエニル)―4―オキソ酪酸4.16gが得
られる。 収率85.2% 融点136―138℃(分解) NMRスペクトル(DMSO―d6) δ=1.4(s,9H;(CH3 3C),4.5(d,
H,J=4Hz;C―OH),5.4(dd,H;C
―NH),6.6(d,H,J=9Hz;
NH),7.25(multi、4H;【式】) 実施例 8 N―〔2―(4′―ヒドロキシフエニル)―2―
オキソエチル〕―2―クロルアセタミド8.75g
(0.0380mol)、炭酸水素ナトリウム9.08g
(0.108mol)およびグリオキシル酸1水和物6.40
g(0.0700mol)を95%メタノール100mlに加え、
60℃で4.5時間反応させると反応は完結する。 以下、実施例4と同様に処理すると、スレオ―
(2RS)―3―クロルアセチルアミノ―2―ヒド
ロキシ―4―(4′―ヒドロキシフエニル)―4―
オキソ酪酸5.18gが得られる。 収率47.5%、融点163―165℃(分解) NMRスペクトル(DMSO―d6) δ=4.2(s,2H,CH2)、4.5(d,H,J=
3Hz;C―OH),5.65(dd,H;C―NH),
6.9,7.85(d,d,2H,2H,J=
9Hz;【式】),8.3(d,H,J=8 Hz;NH) 実施例 9 N―(2―オキソ―2―フエニルエチル)クロ
ルアセタミド1.60g(7.60mmol)、炭酸水素ナト
リウム1.92g(22.8mmol)および20%グリオキ
シル酸5.60g(15.2mmol)をメタノール50mlお
よび水10mlに加え、65℃で10時間反応させる。 以下実施例1と同様に処理すると、スレオ―
(2RS)―3―クロルアセチルアミノ―2―ヒド
ロキシ―4―オキソ―4―フエニル酪酸1.06gが
得れる。 収率48.9% 融点141―142℃(分解) NMRスペクトル(DMSO―d6) δ=4.2(s,2H,CH2),4.5(d,H,J=
4Hz;C―OH),5.7(dd,H;C
―NH),7.8(multi,5H;【式】), 8.4(d,H,J=9Hz;NH)。 実施例 10 20%グリオキシル酸5.6g(15.2mmol)のかわ
りにグリオキシル酸メチルエステル1.34g(15.2
mmol)を用い、それ以外は実施例9と同様に反
応を行つた。 反応後、不溶物を別し、液を減圧で約10ml
まで濃縮し、10%食塩水10mlを加えて、不溶物を
別し、液を酢酸エチル50mlずつで2回抽出
し、抽出液を合し、飽和食塩水で洗浄し、無水硫
酸ナトリウムで脱水乾燥する。 硫酸ナトリウムを別し、液を減圧で濃縮
し、残渣にエーテルを加えて、不溶物を取し、
エーテルで洗浄し、乾燥すると、スレオ―
(2RS)―3―クロルアセチルアミノ―2―ヒド
ロキシ―4―オキソ―4―フエニル酪酸のメチル
エステル1.42gが得られる。 収率62.5% 融点119―121℃ NMRスペクトル(CDC13) δ=3.9(s,3H;CH3),4.1(s,2H;
CH2),4.6(d,H,J=2Hz;C―OH),
5.95(dd,H;C―NH),7.8
(multi,5H;【式】) このほか、NH,OHに基づくブロード
(broad)な吸収が7.0―9.0にあり重水を加えるこ
とにより消失する。 実施例 11 2―アミノアセトフエノン塩酸塩4.00g
(0.0233mol)にジオキサン―水(1:1)中で、
t―ブチルS―4,6―ジメチルピリミジン―2
―イルチオールカーボネートおよびトリエチルア
ミンを作用させて得られる油状の2―t―ブチル
オキシカルボニルアミノアセトフエノン、炭酸水
素ナトリウム4.70g(0.0559mol)および20%グ
リオキシル酸13.75g(0.037mol)をメタノール
50mlに加え、60―65℃で一夜反応させる。 以下実施例10と同様に処理すると、スレオ―
(2RS)―3―t―ブチルオキシカルボニルアミ
ノ―2―ヒドロキシ―4―オキソ―4―フエニル
酪酸1.18gが得れる。収率2―アミノアセトフエ
ノン塩酸塩より38.2%、触点142―143℃(分解) NMRスペクトル(DMSO―d6) δ=1,35(s,9H;(CH3 3C),4.3
(d,H,J=4Hz;C―OH),5.35(dd,
H;C―NH),6.6(d,H,J=10Hz;
NH),7.5(multi,5H;
【式】)。 実施例 12 2―アミノ―4′―ヒドロキシアセトフエノン
11.05g(0.0730mol)にジオキサン―水(1:
1)中でクロルギ酸エチルおよびトリエチルアミ
ンを作用させて得られる油状の2―エトキシカル
ボニルアミノ―4′―ヒドロキシアセトフエノン、
炭酸水素ナトリウム13.9g(0.165mol)およびグ
リオキシル酸・1水和物9.60g(0.104mol)を95
%メタノール150mlに加え、60℃で一夜反応させ
る。 反応後、反応液を減圧で約20mlまで濃縮し、不
溶物を酢酸エチル30mlずつで2回抽出し、水層に
稀塩酸を加えて、PHを1―2に調整し、酢酸エチ
ル50mlずつで2回抽出し、抽出液を合し、10%食
塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで脱水乾燥す
る。 硫酸ナトリウムを別し、液を減圧で濃縮
し、油状の残渣に石油エーテル(沸点30―7℃留
分)を加えて、よく洗浄し、デカンテーシヨンし
て石油エーテル層を除く。同様の操作を3回繰返
すとやがて結晶化するので、石油エーテルを加え
て、結晶を取し、石油エーテルで洗浄し、乾燥
するとスレオ―(2RS)―3―エトキシカルボニ
ルアミノ―2―ヒドロキシ―4―(4′―ヒドロキ
シフエニル)―4―オキソ酪酸7.45gが得られ
る。 収率2―アミノ―4′―ヒドロキシアセトフエノ
ンより34.3%、融点112―16℃(発泡) NMRスペクトル(DMSO―d6) δ=1.15(t,3H,J=7Hz;CH3),4.0
(q,2H,J=7Hz;CH2),4.45(d,H,J=
4Hz;C―OH),5.4(dd,H;C―NH),
6.9,7.85(d,d,2H,2H,J=
9Hz;【式】),7.3(d,H,J=9 Hz;NH)。 参考例 1 ベスタチン、〔(2S,3R)―3―アミノ―2―
ヒドロキシ―4―フエニルブタノイル―(S)
―ロイシン〕、の製造 (イ) スレオ―(2RS)―3―アセチルアミノ―2
―ヒドロキシ―4―フエニル酪酸の製造 スレオ―(2RS)―3―アセチルアミノ―2―
ヒドロキシ―4―オキソ―4―フエニル酪酸3.00
g(0.012mol)を酢酸25mlに溶かし、5%パラジ
ウム炭素0.30gを加え、60℃常圧で水素を流す
と、約6時間で反応は完結する。。 触媒を別し、液を減圧濃縮し、残渣に酢酸
エチル20mlを加え、析出した結晶を取し、酢酸
エチルで洗浄し、五酸化リン上で真空乾燥する
と、スレオ―(2RS)―3―アセチルアミノ―2
―ヒドロキシ―4―フエニル酪酸2.33g(収率
82.3%)が得られる。融点174―176℃ NMRス
ペクトル(DMSO―d6)δ=1.8(s,3H,
CH3),2.7,2.8(d,d,H,H,J=5Hz;
CH2),3.9(d,H,J=3Hz;C―OH),
4.3(multi,H;C―NH),7.2(s,5H;
【式】),7.6(d,H,J=9Hz;NH) このほか、OHに基づくブロード(broad)な
吸収が7.0―8.0にあり、重水を加えることにより
消失する。 (2) (2S,3R)―3―アセチルアミノ―2―ヒ
ドロキシ―4―フエニル酪酸の製造 スレオ―(2RS)―3―アセチルアミノ―2―
ヒドロキシ―4―フエニル酪酸10.87g
(0.046mol)およびS(−)―1―フエニルエチ
ルアミン5.55g(0.046mol)をエタノール90mlに
加え、加熱して溶かす、次いで、室温に放冷し、
析出した結晶を取し、少量のエタノールで洗浄
し、乾燥すると、結晶6.37gが得られる。 〔α〕20,D+16.8゜(c=1,メタノール)。 この結晶6.30gをエタノール100mlに加え、加
熱して溶かし、室温まで放冷し、析出した結晶を
取し、少量のエタノールで洗浄し、乾燥すると
(2S,3R)―3―アセチルアミノ―2―ヒドロキ
シ―4―フエニル酪酸のS(−)―1―フエニル
エチルアミン塩3.45gが得れる。 融点 194―195℃ 〔α〕20 +29.0゜(c=1,メタノール) 別途に(2S,3R)―3―アセチルアミノ―2
―ヒドロキシ―4―フエニル酪酸とS(−)―1
―フエニルエチルアミンより製造した塩の施光度 〔α〕20 +29.1゜(c=1,メタノール) (3) (2S,3R)―3―アミノ―2―ヒドロキシ
―4―フエニル酪酸の製造 (2S,3R)―3―アセチルアミノ―2―ヒド
ロキシ―4―フエニル酪酸のS(−)―1―フエ
ニルエチルアミン塩4.25g(0.0119mol)と炭酸
水素ナトリウム1.49g(0.0178mol)を水80mlに
加え、酢酸エチル50mlずつで3回S(−)―1―
フエニルエチルアミンを抽出する。 次に水層を36%塩酸でPHを1―2に調整し、約
40mlまで減圧濃縮し、36%塩酸1.7ml(0.02mol)
を加えて2時間加熱還流すると反応は完結する。 反応液を減圧で濃縮乾固し、残渣に水10mlを加
えて減圧で濃縮乾固し、この操作をもう一度行
う。 最後に残渣を水40mlに溶かし、2規定水酸化ナ
トリウム水溶液でPHを5に調整し、氷冷後析出し
た結晶を取し、冷水で洗浄し、乾燥すると
(2S,3R)―3―アミノ―2―ヒドロキシ―4―
フエニル酪酸1.48gが得れる。 収率63.8% 〔α〕19 578+32.5゜(c=0.
76、
NHCl)。 文献値(J.Med,Chem,20,510(1977)), 〔α〕20−25 5.78+29.5゜(c=1,NHCl) (4) (2S,3R)―3―ベンジルオキシカルボニ
ルアミノ―2―ヒドロキシ―4―フエニル酪酸
の合成 (2S,3R)―3―アミノ―2―ヒドロキシ―
4―フエニル酪酸1.45g(7.44mmol)、トリエチ
ルアミン1.13g(11.2mmol)およびベンジルS
―4,6―ジメチルピリミジル―2―イルチオー
ルカルボネート2.24g(8.20mmol)を水7mlお
よびジオキサン7mlの混合溶媒に加える。 室温で3時間カクハンすることによつて反応は
完結する。 反応後に水20mlを加え、酢酸エチル25mlずつで
2回洗浄する。水層に稀塩酸を加えて、PHを1―
2に調整する。析出した油状物を酢酸エチル30ml
ずつで2回抽出し、抽出液を合し、食塩水30mlず
つで3回洗浄し、無水硫酸ナトリウムで脱水乾燥
する。 硫酸ナトリウムを別し、減圧濃縮し、酸渣に
石油エーテルを加えて結晶を取し、石油エーテ
ルで洗浄し、乾燥すると(2S,3R)―3―ベン
ジルオキシカルボニルアミノ―2―ヒドロキシ―
4―フエニル酪酸2.10gが得られる。 収率85.7%、融点154―155℃。 〔α〕20 578+82.5゜(c=1,酢酸) 文献値(特開昭52―136118公報実施例1(2)) 融点154.5℃ 〔α〕24 578+83.5゜(c=1.34
,酢
酸) (5) (2S,3R)―3―ベンジルオキシカルボニ
ルアミノ―2―ヒドロキシ―4―フエニルブタ
ノイル―(S)―ロイシンベンジルエステルの
合成 (2S,3R)―3―ベンジルオキシカルボニル
―2―ヒドロキシ―4―フエニル酪酸2.00g
(6.00mmol)、(S)―ロイシンのベンジルエステ
ルのp―トルエンスルホン酸塩2.63g(6.60m
mol)および1―ヒドロキシベンゾトリアゾール
0.97g(7.20mmol)をテトラヒドロフラン20ml
に加え、食塩と氷で冷却下、トリエチルアミン
0.67g(6.6mmol)次いでジシクロヘキシルカル
ボジイミド1.49g(7.20mmol)を加え、氷浴を
変えることなく一夜反応させる。 析出したジシクロヘキシル尿素を別し、液
を減圧で濃縮し、残渣に酢酸エチル50mlを加え、
不溶物を別し、酢酸エチルで洗浄する。液・
洗液を合し、0.5規定塩酸で2回、食塩水で3
回、5%炭酸水素ナトリウム水溶液で2回、食塩
水で3回順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで脱水
乾燥する。 硫酸ナトリウムを別し、減圧濃縮し、残渣に
n―ヘキサンを加え、析出した結晶を取し、n
―ヘキサンで洗浄し乾燥すると、(2S,3R)―3
―ベンジルオキシカルボニルアミノ―2―ヒドロ
キシ―4―フエニルブタノイル―(S)―ロイシ
ンのベンジルエエステル3.19gが得られる。 収率99.4%、融点122―123℃。 〔α〕24578+15.2゜(c=1,酢酸) 文献値(特開昭52―136118公報実施例2(3)) 融点122℃、〔α〕23 578+15.1゜(c=0.77,

酸) (6) ベスタチン〔(2S,3R)―3―アミノ―2―
ヒドロキシ―4―フエニルブタノイル―(S)
―ロイシン〕の合成 (2S,3R)―3―ベンジルオキシカルボニル
アミノ―2―ヒドロキシ―4―フエニルブタノイ
ル―(S)―ロイシンのベンジルエステル3.00g
(5.60mmol)を95%酢酸50mlに溶かし、パラジウ
ム黒を触媒量加えて、常圧で水素を導入する。 接触還元は2時間で完結するので、パラジウム
黒を別し、液を減圧でよく濃縮する。残渣に
アセトン30mlを加え、析出した結晶を取し、
1N塩酸に溶かし、少量の活性炭を加えて不溶物
を別し、液を稀アンモニヤ水でPHを5―6に
調整し析出した結晶を取し、水次いでアセトン
で洗浄し、乾燥すると、ベスタチン、〔(2S,
3R)―3―アミノ―2―ヒドロキシ―4―フエ
ニルブタノイル―(S)―ロイシン〕、1.47gが
得られる。 収率85.0% 〔α〕25 578−21.1゜(c=1,酢
酸) 文献値(特開昭52―136118公報実施例2(4)) 〔α〕25 578−21.8゜(c=0.45,酢酸)

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式() (式中、R1は水素原子、ヒドロキシル基を示し、
    R2はアシル基、オキシカルボニル基(但しカル
    ボキシル基を除く)またはフタリル基で保護され
    たアミノ基を示し、R3は水素原子あるいはエス
    テル残基を示す。) で表わされるスレオ―(2RS)―3―保護アミノ
    ―2―ヒドロキシ―4―オキソ―4―フエニル酪
    酸またはそのエステル。 2 一般式() (式中、R1は水素原子、ヒドロキシル基を示し、
    R2はアシル基、オキシカルボニル基(但しカル
    ボキシル基を除く)またはフタリル基で保護され
    たアミノ基を示す。) で表わされる2―オキソ―2―フエニルエチルア
    ミン誘導体と一般式()で表わされる。 (式中、R3は水素原子あるいはエステル残基を示
    す。) グリオキシル酸またはそのエステルを反応させる
    ことを特徴とする一般式() (式中、R1,R2およびR3は前記に同じである。) で表わされるスレオ―(2RS)―3―保護アミノ
    ―2―ヒドロキシ―4―オキソ―4―フエニル酪
    酸またはそのエステルの製造法。
JP14550978A 1978-11-25 1978-11-25 Threo-(2rs)-3-amino-2-hydroxy-4-oxo-4-phenylbutyric acid, its ester, and their preparation Granted JPS5572151A (en)

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