JPS6153250A - スペルミジン誘導体 - Google Patents
スペルミジン誘導体Info
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- JPS6153250A JPS6153250A JP17470584A JP17470584A JPS6153250A JP S6153250 A JPS6153250 A JP S6153250A JP 17470584 A JP17470584 A JP 17470584A JP 17470584 A JP17470584 A JP 17470584A JP S6153250 A JPS6153250 A JP S6153250A
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- Japan
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- group
- spermidine
- solution
- reduced pressure
- under reduced
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は抗炎症性薬剤として有用である新規なスペル
ミジン誘導体に関するものである。
ミジン誘導体に関するものである。
抗炎症作用を有するスペルミジン及び一部のスペルミジ
ン誘導体は知られている。
ン誘導体は知られている。
この発明は、 ゛ ４、 −゛パ−
炎症等の治療用として効果を有する新規なスペルミジ
ン誘導体を提供しようとするものである。
炎症等の治療用として効果を有する新規なスペルミジ
ン誘導体を提供しようとするものである。
この発明のスペルミジン誘導体は下記（Ｉ）の一般式で
示すことができ、式中Ｒ１〜Ｒ３は下記（１）〜（Ｖ）
のいずれかを満足する基を意味する。
示すことができ、式中Ｒ１〜Ｒ３は下記（１）〜（Ｖ）
のいずれかを満足する基を意味する。
Ｒ２
１１） Ｒ１及びＲ３がアルカノイル７１Ｈ［＋２が
アラルキル基、 ＋１）Ｒ−Ｒがいずれも炭素数３以上のアルカノイル基
、 １１１１１Ｒ−−艮 のうち少なくとも１つがアルコキ
シカルボニル基又はアラルキルオキシカルボニル基であ
り、残りの基がアラルキル基、アシル基、水素又はω−
アルカノイルアミノ−ω′−アラルコキシカルボニルア
ルカノイル基、 Ｏｖ） Ｒ及びＫ が同−若しくは異なるアルカベン
ゾイル基又はアリール基。
アラルキル基、 ＋１）Ｒ−Ｒがいずれも炭素数３以上のアルカノイル基
、 １１１１１Ｒ−−艮 のうち少なくとも１つがアルコキ
シカルボニル基又はアラルキルオキシカルボニル基であ
り、残りの基がアラルキル基、アシル基、水素又はω−
アルカノイルアミノ−ω′−アラルコキシカルボニルア
ルカノイル基、 Ｏｖ） Ｒ及びＫ が同−若しくは異なるアルカベン
ゾイル基又はアリール基。
スペルミジン誘導体の医薬として許容される塩類として
は例えば塩酸塩、炭酸塩、燐酸塩等の無機酸塩又は酢酸
塩、７マル酸塩、りんご酸塩、くえん酸塩、こはく酸塩
等の有機酸塩が挙げられる。
は例えば塩酸塩、炭酸塩、燐酸塩等の無機酸塩又は酢酸
塩、７マル酸塩、りんご酸塩、くえん酸塩、こはく酸塩
等の有機酸塩が挙げられる。
上記一般式（１）で示されるスペルミジン誘導体におい
てＫ −Ｋ で表わされる置換基のとり得る組合わせは
上記（１）〜（Ｖ）に示した通りであるが、各置換基の
具体例を示すと、アルカノイル基としてはアセチル基、
プロピオニル基、ブチリル基、ヘキサノイル基、ヘプタ
ノイル基等の低級アルカノイル基等が挙げられる。また
アラルキル基としてはベンジル基、フェネチル基、Ｐ−
メチルベンジル基等が挙げられる。アルコキシカルボニ
ル基としてはメトキシカルボニル基、エトキシカルボニ
ル基、プロポキシカルボニル基、第２ｍ又は第３級ブト
キシカルボニル基等が、またアラルキルオキシカルボニ
ル基としてはベンジルオキシカルボニル基、フェネチル
オキシカルボニル基。
てＫ −Ｋ で表わされる置換基のとり得る組合わせは
上記（１）〜（Ｖ）に示した通りであるが、各置換基の
具体例を示すと、アルカノイル基としてはアセチル基、
プロピオニル基、ブチリル基、ヘキサノイル基、ヘプタ
ノイル基等の低級アルカノイル基等が挙げられる。また
アラルキル基としてはベンジル基、フェネチル基、Ｐ−
メチルベンジル基等が挙げられる。アルコキシカルボニ
ル基としてはメトキシカルボニル基、エトキシカルボニ
ル基、プロポキシカルボニル基、第２ｍ又は第３級ブト
キシカルボニル基等が、またアラルキルオキシカルボニ
ル基としてはベンジルオキシカルボニル基、フェネチル
オキシカルボニル基。
Ｐ−メチルベンジルオキシカルボニル基等が挙げられる
。アシル基としては前記アルカノイル基の他ベンゾイル
基やトルオイル基等のアロイル基、フェニルアセチル基
等のアラルカッイルＭＥ、 等ｂ’ 含まれる。ω−ア
ルカノイルアミノ−ω′−アラルコキシカルボニルアル
カノイル基としては、ω−アセチルアミノ−ω′−ベン
ジルオキシカルボニルプロピオニル基、ω−ヘプタノイ
ルアミノ−ω′−ヘンシルオキシカルボニルプロピオニ
ル基、ω−ブチリルアミノ−ω′−（Ｐ−メチルベンジ
ル）オキシカルボニルプロピオニル基等が挙げられる。
。アシル基としては前記アルカノイル基の他ベンゾイル
基やトルオイル基等のアロイル基、フェニルアセチル基
等のアラルカッイルＭＥ、 等ｂ’ 含まれる。ω−ア
ルカノイルアミノ−ω′−アラルコキシカルボニルアル
カノイル基としては、ω−アセチルアミノ−ω′−ベン
ジルオキシカルボニルプロピオニル基、ω−ヘプタノイ
ルアミノ−ω′−ヘンシルオキシカルボニルプロピオニ
ル基、ω−ブチリルアミノ−ω′−（Ｐ−メチルベンジ
ル）オキシカルボニルプロピオニル基等が挙げられる。
またアリール基としてはフェニル基やナフチル基、或は
メチル基やエチル基等の置換基を有する低級アルキル置
換フェニル基や低級アルキル置換す７チル基等が含まれ
る。
メチル基やエチル基等の置換基を有する低級アルキル置
換フェニル基や低級アルキル置換す７チル基等が含まれ
る。
この発明のスペルミジン誘導体及びその塩類は例えば次
に述べる様な方法によって製造される。
に述べる様な方法によって製造される。
製法１
前記Ｃ０式においてＲ１、Ｒ２及び几３のうち少なくと
も１つが水素であるスペルミジン又はその誘導体にアル
カノイル化剤を作用させ、水素をアルカノイル基で置換
する方法。例えばスペルミジンを出発原料としこのうち
Ｎｌ 、 Ｒ４及びＲ８の水素を同時にアルカノイル化
すれば、下記式に示す’Ｊ［［Ｒ、Ｒ、Ｒのすべてがア
ルカノイル基であるスペルミジン誘導体を得ることがで
き、（Ｒ＠；アルカノイル基） またＮｌ 、 Ｒ４、Ｒ８のうち１又は２個の水素が他
の置換基で置換されているスペルミジン誘導体をアルカ
ノイル化すれば、下記式に示す様にＲ１、Ｒ２゜Ｒ３の
うちｌ又は２個がアルカノイル基であるスペルミジン誘
導体を得ることができる。
も１つが水素であるスペルミジン又はその誘導体にアル
カノイル化剤を作用させ、水素をアルカノイル基で置換
する方法。例えばスペルミジンを出発原料としこのうち
Ｎｌ 、 Ｒ４及びＲ８の水素を同時にアルカノイル化
すれば、下記式に示す’Ｊ［［Ｒ、Ｒ、Ｒのすべてがア
ルカノイル基であるスペルミジン誘導体を得ることがで
き、（Ｒ＠；アルカノイル基） またＮｌ 、 Ｒ４、Ｒ８のうち１又は２個の水素が他
の置換基で置換されているスペルミジン誘導体をアルカ
ノイル化すれば、下記式に示す様にＲ１、Ｒ２゜Ｒ３の
うちｌ又は２個がアルカノイル基であるスペルミジン誘
導体を得ることができる。
ラル亭ルオキシ力ルダニル基
ＩＬも
この場合アルカノイル化剤としては無水エナント酸、無
水へブタノン酸等の酸無水物や、アセチルクロライド、
ヘプタノイルクロライド等の酸クロライドを使用するこ
とができ、この反応は、例えば後記する実施例１〜３と
同様にして行なうことができる。
水へブタノン酸等の酸無水物や、アセチルクロライド、
ヘプタノイルクロライド等の酸クロライドを使用するこ
とができ、この反応は、例えば後記する実施例１〜３と
同様にして行なうことができる。
製法２
一般式〔工〕のｐ、１、艮２、Ｒ３のうち１又は２個が
・水素である。スペルミジン誘導体を原料とし、これ、
ＥＴルコキシカルボニル化剤又はアリールオキシカルざ
ニル化剤″を作用させる方法。この方法は例１えば下記
の一般式、で示すことができる。
・水素である。スペルミジン誘導体を原料とし、これ、
ＥＴルコキシカルボニル化剤又はアリールオキシカルざ
ニル化剤″を作用させる方法。この方法は例１えば下記
の一般式、で示すことができる。
Ｋ ・・−アラルキル基、アルコキシカルボニル基又は
アラルキルオキシカルボニ ル基、 Ｒｄ、 Ｒｄ・・・ アルコキシカルボニル基又はアリ
ールオキシカルボニル化 剤 ル基 Ｋ・・・アルコキシカルボニル基又はアリールオキシカ
ルボニル化剤 この場合アルコキシカルボニル化剤又はアリールオキシ
カルボニル化剤としては、第３級ブチルカーボネート或
は２−（第３級ブトキシカルボニルオキシイミノ）−２
−フェニルアセトニトリル、カルボベンゾキシクロライ
ド等を使用することができ、この反応は、例えば後記す
る実施例６．１１又は１３と同様に行なうことができる
。
アラルキルオキシカルボニ ル基、 Ｒｄ、 Ｒｄ・・・ アルコキシカルボニル基又はアリ
ールオキシカルボニル化 剤 ル基 Ｋ・・・アルコキシカルボニル基又はアリールオキシカ
ルボニル化剤 この場合アルコキシカルボニル化剤又はアリールオキシ
カルボニル化剤としては、第３級ブチルカーボネート或
は２−（第３級ブトキシカルボニルオキシイミノ）−２
−フェニルアセトニトリル、カルボベンゾキシクロライ
ド等を使用することができ、この反応は、例えば後記す
る実施例６．１１又は１３と同様に行なうことができる
。
主としてＮ のアミノ基にアラノｔが置換したスペルミ
ジン誘導体を原料とする場合、これを接触還元して脱ア
ラルキルすることにより目的物を得ることができ、この
反応は例えば次式で示すことができる。
ジン誘導体を原料とする場合、これを接触還元して脱ア
ラルキルすることにより目的物を得ることができ、この
反応は例えば次式で示すことができる。
Ｒｔ 、 Ｒｔ・・・アルカノイル基、アルコキシカル
ボニル基又はアラルキルオキシカ ルボニル基 Ｒ才・・・アラルキル基 この脱アラルキル反応は、例えば後記する実施例４．５
射よび７と同様に行なうことができる。
ボニル基又はアラルキルオキシカ ルボニル基 Ｒ才・・・アラルキル基 この脱アラルキル反応は、例えば後記する実施例４．５
射よび７と同様に行なうことができる。
製法４
この方法は前記（Ｉ）式中のＲ１及びＲ３がアルコキシ
カルボニル基であるスペルミジン誘導体を脱アルコキシ
カルボニル化に付してＲ１とＲ３が水素残基であるスペ
ルミジン誘導体を得るのに利用することができ、この場
合Ｒ２は脱アルコキシカルボニル化剤に対して安定な基
、例えばアシル基であるものが選択される。この反応は
下記式によって表わすことができる。
カルボニル基であるスペルミジン誘導体を脱アルコキシ
カルボニル化に付してＲ１とＲ３が水素残基であるスペ
ルミジン誘導体を得るのに利用することができ、この場
合Ｒ２は脱アルコキシカルボニル化剤に対して安定な基
、例えばアシル基であるものが選択される。この反応は
下記式によって表わすことができる。
Ｒ子
ＮＩ（２（Ｃト１２）３Ｎ（σ１２）４ＮＩ−１２楓
Ｒ子
！
ＲｈｌＲｈ・・・アルコキシカルボニル基に、・・・ア
シル基 この反応は、例えばジエチルエーテル等の溶媒中塩化水
素ガスで処理することにより行なうことができる。
シル基 この反応は、例えばジエチルエーテル等の溶媒中塩化水
素ガスで処理することにより行なうことができる。
製法５
シアノ化合物を原料とし、例えば下記の如くシアノ基を
還元しアミ７基に変換することによってスペルミジン誘
導体を得ることができる。
還元しアミ７基に変換することによってスペルミジン誘
導体を得ることができる。
（ＡＪＨ２Ｎ（Ｃ）（２）４Ｎｌ（（Ｑ（□）２ＣＮ
ＲＩＯ０００’λｌ０ＣＯＮＨ（ＣＨ２）４Ｎ（Ｑ（２
）２ＣＮ ’乳０＝Ｃ−ＯＲ■ 艮、 ０ＣＯＮＨ（ＣＨ□）４−Ｎ−（ＣＨ２）３ＮＨ
２０＝Ｃ−ＯＲ１ （ＲＩ：アルキル基又はアラルキル基）（Ｂ） ＭＣＩ
、）Ｌ、Ｎ（ＣＥ（２）４ＮＨＯＱ）ＲＩＩり＝堅−
Ｒｕ００）ＮＨ（σ与） ４ＮＨ（Ｇ（２）２ＣＮ
□ＲＩＩＯＣＯＮｔ−１（０（２）４ＮＨ（０（２）３
ＮＨ２（Ｒ■： アルキル基又はアラルキル基）（Ｃ）
Ｒ，ｉ、ＮＨ（ＣＨ２）２側２型町狸−Ｈ２Ｎ（ＣＨ
２）３−Ｎ、−（ＣＨ２）４ＮＨ２（ＲＭＥ ニアリー
ル基、アルキル基又はアラルキル基）上記反応において
シアノ化合物をアミン化合物に変換する反応は例えばそ
れぞれ後記する実施例１０．１６および１７と同様に行
なうことができる。
ＲＩＯ０００’λｌ０ＣＯＮＨ（ＣＨ２）４Ｎ（Ｑ（２
）２ＣＮ ’乳０＝Ｃ−ＯＲ■ 艮、 ０ＣＯＮＨ（ＣＨ□）４−Ｎ−（ＣＨ２）３ＮＨ
２０＝Ｃ−ＯＲ１ （ＲＩ：アルキル基又はアラルキル基）（Ｂ） ＭＣＩ
、）Ｌ、Ｎ（ＣＥ（２）４ＮＨＯＱ）ＲＩＩり＝堅−
Ｒｕ００）ＮＨ（σ与） ４ＮＨ（Ｇ（２）２ＣＮ
□ＲＩＩＯＣＯＮｔ−１（０（２）４ＮＨ（０（２）３
ＮＨ２（Ｒ■： アルキル基又はアラルキル基）（Ｃ）
Ｒ，ｉ、ＮＨ（ＣＨ２）２側２型町狸−Ｈ２Ｎ（ＣＨ
２）３−Ｎ、−（ＣＨ２）４ＮＨ２（ＲＭＥ ニアリー
ル基、アルキル基又はアラルキル基）上記反応において
シアノ化合物をアミン化合物に変換する反応は例えばそ
れぞれ後記する実施例１０．１６および１７と同様に行
なうことができる。
製法に
の反応は前記一般式（ＩＪにおける筑〜Ｒのうち１又は
２個がω−アルカノイルアミノ−ω′−アラルコキシカ
ルボニルアルカノイル基であるスペルミジン誘導体を製
造する為の方法であり、例えば下記式に示す如＜ Ｒ１
〜に３のうち１又は２個が水素であるスペルミジン誘導
体を原料とし、この水素を６フーアルカノイルアミノー
ω′−アラルコキシカルボニルアルカノイル基で置換す
ることによって目的物を得る。
２個がω−アルカノイルアミノ−ω′−アラルコキシカ
ルボニルアルカノイル基であるスペルミジン誘導体を製
造する為の方法であり、例えば下記式に示す如＜ Ｒ１
〜に３のうち１又は２個が水素であるスペルミジン誘導
体を原料とし、この水素を６フーアルカノイルアミノー
ω′−アラルコキシカルボニルアルカノイル基で置換す
ることによって目的物を得る。
艮。
ω−アルカノイルアミノ−ω′−アルコ」
Ｒｊ、Ｒｊ・・・アルコキシカルボニル基、又はアラル
コキシカルボニル基 Ｒｋ・・・ω−アルカノイルアミノ−ω′−アラルコキ
シカルボニルアルカノイル基 この反応は例えば後記する実施例１２と同様に行なうこ
とができる。
コキシカルボニル基 Ｒｋ・・・ω−アルカノイルアミノ−ω′−アラルコキ
シカルボニルアルカノイル基 この反応は例えば後記する実施例１２と同様に行なうこ
とができる。
製法７
下記式に示す如くスペルミジンを塩化第２銅等の錯体と
し、これにカルボベンゾキシクロライドやジ第３級ブチ
ルカーボネート等を反応させることによって、Ｋ がア
ルコキシカルボニル基又はアラルキルオキシカルボニル
基等であるスペルミジン誘導体を得ることができる。
し、これにカルボベンゾキシクロライドやジ第３級ブチ
ルカーボネート等を反応させることによって、Ｋ がア
ルコキシカルボニル基又はアラルキルオキシカルボニル
基等であるスペルミジン誘導体を得ることができる。
Ｒ，：ベンジルオキシカルボニル基
Ｒ：第３級ブトキシカルボニル基
この反応はそれぞれ後記する実施例１４および１５と同
様に行なうことができる。
様に行なうことができる。
この発明のスペルミジン誘導体及びその塩は、たとえば
固体、半固体または液体形態の製剤の剤形で使用するこ
とができ、これらの剤形はこの発明の有効成分を、外用
、経口または非経口投与に適した有機または無機担体ま
たは賦形剤と混和した状態で含有される。有効成分は、
たとえば錠剤、ペレット剤、カプセル剤、坐剤、溶液剤
、乳化剤、懸濁液その他の使用に適した任意の剤形用の
無毒な担体と配合して使用することができる。使用し得
る担体としては、水、グルコース、乳糖、アラビアゴム
、ゼラチン、マンニット、スターチペースト、マグネシ
ウムシリケート、タルク、コーンスターチ、ケラチン、
微粉（コロイド状）シリカ、バレイショデンプン、尿素
およびその他の固体、半固体または液体が挙げられる。
固体、半固体または液体形態の製剤の剤形で使用するこ
とができ、これらの剤形はこの発明の有効成分を、外用
、経口または非経口投与に適した有機または無機担体ま
たは賦形剤と混和した状態で含有される。有効成分は、
たとえば錠剤、ペレット剤、カプセル剤、坐剤、溶液剤
、乳化剤、懸濁液その他の使用に適した任意の剤形用の
無毒な担体と配合して使用することができる。使用し得
る担体としては、水、グルコース、乳糖、アラビアゴム
、ゼラチン、マンニット、スターチペースト、マグネシ
ウムシリケート、タルク、コーンスターチ、ケラチン、
微粉（コロイド状）シリカ、バレイショデンプン、尿素
およびその他の固体、半固体または液体が挙げられる。
これら担体の他、補助剤、安定化剤、増粘剤、着色剤、
香料等を使用してもよく、また医薬組成物や有効成分の
活性を保持する目的で防御剤または制菌剤を含有させて
もよい。有効成分の化合物は、治療法または病状に所期
の治療効果を生ずるように十分な量で医薬組成物中に含
有させる。
香料等を使用してもよく、また医薬組成物や有効成分の
活性を保持する目的で防御剤または制菌剤を含有させて
もよい。有効成分の化合物は、治療法または病状に所期
の治療効果を生ずるように十分な量で医薬組成物中に含
有させる。
実施例１
スペルミジン（０，６Ｏｆ 、 ４．１３ ｍモｈ ）
のピリジン（１５，０ｄ）溶液にエナント酸無水物（４
，６０’ｊ 、 １８．６ｍモル）を加え、３０分間攪
拌した後ジエチルエーテル（５０ｆｆＩ／）を加えた。
のピリジン（１５，０ｄ）溶液にエナント酸無水物（４
，６０’ｊ 、 １８．６ｍモル）を加え、３０分間攪
拌した後ジエチルエーテル（５０ｆｆＩ／）を加えた。
この溶液を水（１０，、りで２回、ＩＮの塩酸（１５ｄ
）で８回及び１０％の炭酸カリウム水溶液（１５−）で
５回繰返し洗浄した後、溶媒を減圧除去した。残渣を、
メタノールと１０タロの炭酸カリウム水溶液の混合液に
投入して３０分間攪拌した後減圧乾固した。残渣をジエ
チルエーテルに加えて溶解した後、１０％の炭酸カリウ
ム水溶液で洗浄し硫酸ナトリウムで乾燥した。濾過後４
巻減圧下に溶媒を留去して、油状のＮｌ 、 Ｎ４
、Ｎ８− ）リス（ヘプタノイル）スペルミジンを得た
。これを放置すると、ｍＰ、 ３８．５〜４０．０℃の
結晶（２，０６ｐ、９２．４％）が得られた。
）で８回及び１０％の炭酸カリウム水溶液（１５−）で
５回繰返し洗浄した後、溶媒を減圧除去した。残渣を、
メタノールと１０タロの炭酸カリウム水溶液の混合液に
投入して３０分間攪拌した後減圧乾固した。残渣をジエ
チルエーテルに加えて溶解した後、１０％の炭酸カリウ
ム水溶液で洗浄し硫酸ナトリウムで乾燥した。濾過後４
巻減圧下に溶媒を留去して、油状のＮｌ 、 Ｎ４
、Ｎ８− ）リス（ヘプタノイル）スペルミジンを得た
。これを放置すると、ｍＰ、 ３８．５〜４０．０℃の
結晶（２，０６ｐ、９２．４％）が得られた。
ＩＲ（ヌジョール）： ３３００．２９００．１６３
５．１５４５．１４６５．１３７０． ７２０ｏｓ−’ ＮＭＲ（■Ｃ１３、δ） ： ０．６０ 〜１．０４（３Ｉ（、ｍ） 、１．
０５〜１．９８ （３０Ｈ，ｍ）、２．００〜２．４８
（６Ｈ，ｍ）、 ３．００〜３．６２（８Ｈ，Ｉｎ）、６．１２（１１−
Ｉ、ｂ ｒ ）、６．８５（１１−１，ｂｒ）実施例２ フラスコ内を窒素置換した後これにＮ−ベンジルスペル
ミジン（１，９５ｆ／ 、 ８．２７ ｍモル） ＣＤ
乾燥・脱気ピリジン（４０，０Ｊ）溶液を加え、暗所で
一７８℃に冷却し、酢酸クロライド（１，３６ｔｊ。
５．１５４５．１４６５．１３７０． ７２０ｏｓ−’ ＮＭＲ（■Ｃ１３、δ） ： ０．６０ 〜１．０４（３Ｉ（、ｍ） 、１．
０５〜１．９８ （３０Ｈ，ｍ）、２．００〜２．４８
（６Ｈ，ｍ）、 ３．００〜３．６２（８Ｈ，Ｉｎ）、６．１２（１１−
Ｉ、ｂ ｒ ）、６．８５（１１−１，ｂｒ）実施例２ フラスコ内を窒素置換した後これにＮ−ベンジルスペル
ミジン（１，９５ｆ／ 、 ８．２７ ｍモル） ＣＤ
乾燥・脱気ピリジン（４０，０Ｊ）溶液を加え、暗所で
一７８℃に冷却し、酢酸クロライド（１，３６ｔｊ。
１７．４ｍモル）の乾燥・脱ガスした２塩化メチレン（
２５Ｊ）溶液を１，５時間かけて加えた。この混合液を
窒素雰囲気下−７８℃で更に３０時間攪拌した後、室温
までゆっくり温め、次いで水と０．０１Ｎの塩酸で抽出
した。得られた水溶液を減圧乾固し、残渣をＩＮの水酸
化ナトリウム水溶液に溶解した後、三菱化成工業社製の
Ｄｉａ −ＩｏｎＨＰ−２０！充填したカラムクロマト
グラフィーに通し、水−メタノール系溶媒を用いて溶出
した。
２５Ｊ）溶液を１，５時間かけて加えた。この混合液を
窒素雰囲気下−７８℃で更に３０時間攪拌した後、室温
までゆっくり温め、次いで水と０．０１Ｎの塩酸で抽出
した。得られた水溶液を減圧乾固し、残渣をＩＮの水酸
化ナトリウム水溶液に溶解した後、三菱化成工業社製の
Ｄｉａ −ＩｏｎＨＰ−２０！充填したカラムクロマト
グラフィーに通し、水−メタノール系溶媒を用いて溶出
した。
目的物を含む両分を集めて減圧濶縮し、残渣にクロロホ
ルムを加えた後食塩水で洗浄した。クロロホルム溶液を
硫酸ナトリウムで乾燥した後沖過し、溶媒を減圧留去し
て油状のＮ −ベンジル−Ｎ 。
ルムを加えた後食塩水で洗浄した。クロロホルム溶液を
硫酸ナトリウムで乾燥した後沖過し、溶媒を減圧留去し
て油状のＮ −ベンジル−Ｎ 。
Ｎ８− ビス（アセチル）スペルミジン（１，９８ｆ。
７４．４％）を得た。
ＩＲ（フィルム）： ３２８０，３０８０．２９００
．１６４０、Ｉ５．５．０，１４５０．１３７０，１２
９０゜７５０．７００ｃｍ−’ ＮＭＲ（ＣＤＣ４４，δ）： １．４３〜１．７６（６Ｈ，ｍ）、ＩＪ８Ｃ３Ｈ−）、
１．９８（３Ｈ，１）、２．３６〜２．□ｓ＋（４Ｈ，
ＩＢ）、３−０８．〜３．４０（４Ｈ，ｍｎ）、３．５
８（２）１．１）、６−３６（ＩＨ，ｂｒ）、６−５０
（１）１゜ｂｒ）、７−３６（５Ｈ，ｌ） Ｍａｉｍ ： Ｍ＋１１ｎ／ｅ＝３２０．ベースビ
ークｍ／ｅ＝９１ 実施例３ フラスコ内を窒素置換した後これに、Ｎ４− ベンジル
スペルミジン（１，７５Ｆ、７−４４１１”モル）の乾
燥・脱ガスピリジン（３６＋＋ｙｊ）溶液を入れ、暗所
で一７８℃に冷却し、これに、ヘプタン酸クロライド（
２−３２ｆ ｔ １５．６ ｍモル）の乾燥・脱気した
２塩化メチレン（２６ｆｎｌ）溶液を１．５時間かけて
添加した。反応液を窒素雰囲気下−７８℃で更に３０時
間攪拌した後、室温までゆっくり温めた。反応液を水に
注入した後ベンゼンで抽出し、抽出液を減圧乾固して残
渣をクロロホルムに溶解した後水洗した。クロロホルム
溶液を硫酸ナトＩＪウムで乾燥した後沖過し、減圧濃縮
して３．７５１１（１１７％）の粗製物・を得た。この
粗製物をシリカ・ゲルのかラムクロマトグラフィー（Ｋ
ｉｅｓｅ１ｇｅ１６０、Ｔｏ−２３，０メツシユ、メル
ク社製）（１０（１）によって精製し、クロロホルム−
メタノール系で溶畠することにより）、３．５９１１１
２％）のＮ４−ベンジル−Ｎ！、Ｎ８−ビス（ヘプタノ
イル）スペルミジンを得た。
．１６４０、Ｉ５．５．０，１４５０．１３７０，１２
９０゜７５０．７００ｃｍ−’ ＮＭＲ（ＣＤＣ４４，δ）： １．４３〜１．７６（６Ｈ，ｍ）、ＩＪ８Ｃ３Ｈ−）、
１．９８（３Ｈ，１）、２．３６〜２．□ｓ＋（４Ｈ，
ＩＢ）、３−０８．〜３．４０（４Ｈ，ｍｎ）、３．５
８（２）１．１）、６−３６（ＩＨ，ｂｒ）、６−５０
（１）１゜ｂｒ）、７−３６（５Ｈ，ｌ） Ｍａｉｍ ： Ｍ＋１１ｎ／ｅ＝３２０．ベースビ
ークｍ／ｅ＝９１ 実施例３ フラスコ内を窒素置換した後これに、Ｎ４− ベンジル
スペルミジン（１，７５Ｆ、７−４４１１”モル）の乾
燥・脱ガスピリジン（３６＋＋ｙｊ）溶液を入れ、暗所
で一７８℃に冷却し、これに、ヘプタン酸クロライド（
２−３２ｆ ｔ １５．６ ｍモル）の乾燥・脱気した
２塩化メチレン（２６ｆｎｌ）溶液を１．５時間かけて
添加した。反応液を窒素雰囲気下−７８℃で更に３０時
間攪拌した後、室温までゆっくり温めた。反応液を水に
注入した後ベンゼンで抽出し、抽出液を減圧乾固して残
渣をクロロホルムに溶解した後水洗した。クロロホルム
溶液を硫酸ナトＩＪウムで乾燥した後沖過し、減圧濃縮
して３．７５１１（１１７％）の粗製物・を得た。この
粗製物をシリカ・ゲルのかラムクロマトグラフィー（Ｋ
ｉｅｓｅ１ｇｅ１６０、Ｔｏ−２３，０メツシユ、メル
ク社製）（１０（１）によって精製し、クロロホルム−
メタノール系で溶畠することにより）、３．５９１１１
２％）のＮ４−ベンジル−Ｎ！、Ｎ８−ビス（ヘプタノ
イル）スペルミジンを得た。
ＩＲ（ヌジョール）： ３３００．２９００．１６３
０．１５４０．１４６０．１３７Ｇ、 ７３０．６９０ｃｍ−’ ＮＭＲ（ＣＤＣ＃ ３．δ）： ０．５０〜２−６７（３６１（、Ｉｎ）、２．９８〜３
．６５（６Ｈ，ｍ）、５．８７（ＩＨ，ｂｒ）、６．０
７（ＩＨ，ｂｒ）、７−３ｏ（ｓＨ，ｓ） 元素分析” ０２ＢＨ４９°２Ｎ３ 理論値・・・Ｃニア３．１６、Ｈ：１０．７４、Ｎ ：
９．１４実測値・・・Ｃニア２．６７、Ｈ：１０．６
２、Ｎ ： ９．０２実施例４ Ｎ４−ベンジル−Ｎ １ 、 Ｎ ８− ビス（ヘプタ
ノイル）スペルミン７（１，７０１ｍ ３．９６ｍ モ
ル）の氷酢酸（１７，０ｍ／）溶液を、−酸化パラジウ
ム（ｏ、３＋５’）の氷酢酸（８，０ｍ（）９４濁液に
加え、４０〜４５ ｐ、ｓ、ｉの水素圧下で水素化を行
なった。反応混合物を沖過した後減圧濃縮し、残液を５
０−の無水メタノールに加え、このアルコール溶液ヲナ
トリウムメチラートにてＰＨ１ｌ に調整した後減圧乾
固した。この粗製物を５０−のクロロホルムに投入した
後、１０ｍ１の冷水にて３回洗浄した。
０．１５４０．１４６０．１３７Ｇ、 ７３０．６９０ｃｍ−’ ＮＭＲ（ＣＤＣ＃ ３．δ）： ０．５０〜２−６７（３６１（、Ｉｎ）、２．９８〜３
．６５（６Ｈ，ｍ）、５．８７（ＩＨ，ｂｒ）、６．０
７（ＩＨ，ｂｒ）、７−３ｏ（ｓＨ，ｓ） 元素分析” ０２ＢＨ４９°２Ｎ３ 理論値・・・Ｃニア３．１６、Ｈ：１０．７４、Ｎ ：
９．１４実測値・・・Ｃニア２．６７、Ｈ：１０．６
２、Ｎ ： ９．０２実施例４ Ｎ４−ベンジル−Ｎ １ 、 Ｎ ８− ビス（ヘプタ
ノイル）スペルミン７（１，７０１ｍ ３．９６ｍ モ
ル）の氷酢酸（１７，０ｍ／）溶液を、−酸化パラジウ
ム（ｏ、３＋５’）の氷酢酸（８，０ｍ（）９４濁液に
加え、４０〜４５ ｐ、ｓ、ｉの水素圧下で水素化を行
なった。反応混合物を沖過した後減圧濃縮し、残液を５
０−の無水メタノールに加え、このアルコール溶液ヲナ
トリウムメチラートにてＰＨ１ｌ に調整した後減圧乾
固した。この粗製物を５０−のクロロホルムに投入した
後、１０ｍ１の冷水にて３回洗浄した。
油厄を硫酸ナトリウムで乾燥した後沖過、乾燥し、白色
粉末状のＮ 、Ｎ −ビス（ヘプタノイル）スペル
ミジン１．１０ダ（７５，２９６）を得た。
粉末状のＮ 、Ｎ −ビス（ヘプタノイル）スペル
ミジン１．１０ダ（７５，２９６）を得た。
ｍＰ、１０９．０〜１１０．５℃
ＩＲ（ヌジョール）：３３００．２９００，２８５０．
１６３０．１５４０．１３７００１−１ ＮＭＲ（ＣＤＣｊ３ 、δ）： ０．０７〜１．９７（２９Ｈ，ｍ）、１．９７〜２．０
３ （４Ｈ、ｍ ）、２．４７〜２．８７（ａｔｔ、ｍ
）、３．１３〜３．６０（４Ｈ。
１６３０．１５４０．１３７００１−１ ＮＭＲ（ＣＤＣｊ３ 、δ）： ０．０７〜１．９７（２９Ｈ，ｍ）、１．９７〜２．０
３ （４Ｈ、ｍ ）、２．４７〜２．８７（ａｔｔ、ｍ
）、３．１３〜３．６０（４Ｈ。
ｍ）、５．３７ （ｌｌ−１、ｂ ｒ ） 、 ６．
５０ （ＩＨ，ｂｒ） 元素分析：Ｃ２□Ｈ４３０２Ｎ３・０，２Ｈ２０理論値
・・・Ｃ：６７．５８、Ｈ： ｌ １．７２、Ｎ：１１
．２６実測値・・・Ｃ：５７．７７、Ｈ：１１．３４、
Ｎ：１１．１７実施例５ Ｎ４−ベンジル−Ｎ １ 、 Ｎ８− ビス（アセチル
）スペルミジン（１−１６ｇ、３．６０ｍモル）の氷酢
酸（１５、ｏ ｍｚ ）溶液を、−酸化パラジウム（０
，２３ｇ）の氷酢酸（７，０ｆｎり懸濁液に加えた後、
４０〜４５ ｐ、ｓ、ｉの水素圧下で水素化を行なった
。得られた反応液を沖過し減圧濃縮した後、残液を４０
ｍ１の無水メタノールに投入し、このアルコール溶液を
ナトリウムメチラートでＰ）−１１１に調整した後減圧
乾燥した。粗製物を水に溶解しＤｉａ −ＩｏｎＩＩＰ
−２０を用いたカラムクロマトグラフィーににより結晶
化するＮ 、Ｎ −ビス（アセチル）スペルミジン
（０，５９９１７２，０９６”）を得た。
５０ （ＩＨ，ｂｒ） 元素分析：Ｃ２□Ｈ４３０２Ｎ３・０，２Ｈ２０理論値
・・・Ｃ：６７．５８、Ｈ： ｌ １．７２、Ｎ：１１
．２６実測値・・・Ｃ：５７．７７、Ｈ：１１．３４、
Ｎ：１１．１７実施例５ Ｎ４−ベンジル−Ｎ １ 、 Ｎ８− ビス（アセチル
）スペルミジン（１−１６ｇ、３．６０ｍモル）の氷酢
酸（１５、ｏ ｍｚ ）溶液を、−酸化パラジウム（０
，２３ｇ）の氷酢酸（７，０ｆｎり懸濁液に加えた後、
４０〜４５ ｐ、ｓ、ｉの水素圧下で水素化を行なった
。得られた反応液を沖過し減圧濃縮した後、残液を４０
ｍ１の無水メタノールに投入し、このアルコール溶液を
ナトリウムメチラートでＰ）−１１１に調整した後減圧
乾燥した。粗製物を水に溶解しＤｉａ −ＩｏｎＩＩＰ
−２０を用いたカラムクロマトグラフィーににより結晶
化するＮ 、Ｎ −ビス（アセチル）スペルミジン
（０，５９９１７２，０９６”）を得た。
ＩＲ（ｔジｍｌ−ル）： ３３００，２９００．’１
６４０．１５４０゜１４５０．１３６０，１２８０，１
１１０゜７８０．７００い−１ ＮＭＲ（ＣＤＣ／３．δ）： １．４０〜１．８８ （７Ｈ、ｍ） 、 １．９６ （
６Ｈ，ｓ）、２．４３〜２．９０Ｃ４１−１゜”）、３
．０９〜３．５７（４Ｈ，ｍ）。
６４０．１５４０゜１４５０．１３６０，１２８０，１
１１０゜７８０．７００い−１ ＮＭＲ（ＣＤＣ／３．δ）： １．４０〜１．８８ （７Ｈ、ｍ） 、 １．９６ （
６Ｈ，ｓ）、２．４３〜２．９０Ｃ４１−１゜”）、３
．０９〜３．５７（４Ｈ，ｍ）。
６．３０（ＩＨ，ｂｒ）、６．７７（１１・ｌ。
ｂｒ）
ＭＡＳ Ｓ ： Ｍ＋ １ ｍｌｅ ＝ ２３０
べ−Ｘピー９ｍ／ｅ＝１２９ 実施例６ ジオキサ７ （８０ｍｌ ）と水（４０ｍｌ）（Ｄ混合
溶媒にＮ −ベンジルスペルミジン（８，０１’。
べ−Ｘピー９ｍ／ｅ＝１２９ 実施例６ ジオキサ７ （８０ｍｌ ）と水（４０ｍｌ）（Ｄ混合
溶媒にＮ −ベンジルスペルミジン（８，０１’。
３４．０ｍモル）を溶かした溶液に、トリエチルアミ７
（７，５Ｇ、ｆ 、３４．０ｍモル）とジ第三級７’
チルカーボネー） （１６，３２Ｆ 、７４．８ｍモル
）を加え、２０時間静置した後油居を分離した。また水
層はジエチルエーテルを用いて抽出し、該抽出液を上記
油層と合して食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し
た後、沖過及び減圧濃縮した。残渣油をシリカゲＡ／
（Ｋｉｅｓｅｌｇｅｌ ６０．７０〜２３０メツシユ、
メルク社製）（５００ｙ）を用いたカラムクロマトグラ
フィーに通した後、クロロホルム−メタノール系溶媒を
用いて溶出させた。目的物質を含む両分を集めて減圧下
に濃縮すると、油状のＮ４−ベンジル−ＮＩ Ｎ８−
ビス（＠３級ブトキシカルボニル）スペルミジン（１５
，２３ｙ。
（７，５Ｇ、ｆ 、３４．０ｍモル）とジ第三級７’
チルカーボネー） （１６，３２Ｆ 、７４．８ｍモル
）を加え、２０時間静置した後油居を分離した。また水
層はジエチルエーテルを用いて抽出し、該抽出液を上記
油層と合して食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し
た後、沖過及び減圧濃縮した。残渣油をシリカゲＡ／
（Ｋｉｅｓｅｌｇｅｌ ６０．７０〜２３０メツシユ、
メルク社製）（５００ｙ）を用いたカラムクロマトグラ
フィーに通した後、クロロホルム−メタノール系溶媒を
用いて溶出させた。目的物質を含む両分を集めて減圧下
に濃縮すると、油状のＮ４−ベンジル−ＮＩ Ｎ８−
ビス（＠３級ブトキシカルボニル）スペルミジン（１５
，２３ｙ。
１０３％）が得られた。
ＩＲ，（７４ルｌ：）： ３３４０．２９５０．１７０
０．１５２ｕ 。
０．１５２ｕ 。
１４５５．１３９５，１２７０，１２５０゜１１７０．
７６０，７００ｃ＋ｘ−’ ＮＭＲ（ＣＤＣ／３．δ）： １．３０〜１．９３（２４Ｈ，ｍ）、２．３０〜２．６
０（４Ｈ，ｍ）、２．９３〜３．３７（４Ｈ。
７６０，７００ｃ＋ｘ−’ ＮＭＲ（ＣＤＣ／３．δ）： １．３０〜１．９３（２４Ｈ，ｍ）、２．３０〜２．６
０（４Ｈ，ｍ）、２．９３〜３．３７（４Ｈ。
ｍ）、３．５３（２Ｈ，ｓ）、４．７０（１）１゜ｂｒ
）、５．２７（ＩＨ，ｂｒ）、７．２９（５Ｈ，ｍ） ＭＡＳＳ ： Ｍ ｍｌｅ ＝ ４３５ ＜−ス
ビー−りｍｌ ｅ ＝ ９１実施例７ Ｎ４−ベンジル−Ｎ １ 、 Ｎ ８− ビス（第３級
ブトキシカルボニル）スペルミジン（１５，ＯＦ、３４
゜４ ｍ モｎｔ ）の氷酢酸（１４０，、Ｉ／）溶液
を、−酸化パラジウム（２，９０５’）の氷酢酸（３０
ｍ１）懸濁液に加えた後、４０〜４５ｐ、ａ、ｉの水素
圧下で水素化を行なった。反応混合物を沖過し減圧乾固
して白色粉末状物を得た。この粗製物をジエチルエーテ
ルで洗浄し、濾過後減圧乾燥して白色粉末状のＮ’、Ｎ
”−ビス（第３級−ブトキシカルボニル）スペルミジン
酢酸塩（７，８９ｙ、５６．６９６）を得た。
）、５．２７（ＩＨ，ｂｒ）、７．２９（５Ｈ，ｍ） ＭＡＳＳ ： Ｍ ｍｌｅ ＝ ４３５ ＜−ス
ビー−りｍｌ ｅ ＝ ９１実施例７ Ｎ４−ベンジル−Ｎ １ 、 Ｎ ８− ビス（第３級
ブトキシカルボニル）スペルミジン（１５，ＯＦ、３４
゜４ ｍ モｎｔ ）の氷酢酸（１４０，、Ｉ／）溶液
を、−酸化パラジウム（２，９０５’）の氷酢酸（３０
ｍ１）懸濁液に加えた後、４０〜４５ｐ、ａ、ｉの水素
圧下で水素化を行なった。反応混合物を沖過し減圧乾固
して白色粉末状物を得た。この粗製物をジエチルエーテ
ルで洗浄し、濾過後減圧乾燥して白色粉末状のＮ’、Ｎ
”−ビス（第３級−ブトキシカルボニル）スペルミジン
酢酸塩（７，８９ｙ、５６．６９６）を得た。
ｍＰ、１０４〜１１２℃
また洗液を減圧濃縮し、得られた油状物をジエチルエー
テル−ｎヘキサンで結晶化させて上記と同じ目的物（３
，８９９，２７，９％）を得た。
テル−ｎヘキサンで結晶化させて上記と同じ目的物（３
，８９９，２７，９％）を得た。
ＩＲ（ヌジョール）： ３３６０，２９００，１６９５
，１５２０゜１４６０．１３６０，１２６５，１２６０
．’１１６５０ｍ−’ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ ３ 、’ ） ： １．５５（１８Ｈ，８）、２．１０（３Ｈ，ｓ）。
，１５２０゜１４６０．１３６０，１２６５，１２６０
．’１１６５０ｍ−’ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ ３ 、’ ） ： １．５５（１８Ｈ，８）、２．１０（３Ｈ，ｓ）。
１．２５〜２．４５（６Ｈ，ｆｌｌ） 、２．８８〜３
．６５（８Ｈ，ｍ）、５．１２（ＩＨ，ｂｒ）。
．６５（８Ｈ，ｍ）、５．１２（ＩＨ，ｂｒ）。
５．４８（ＩＨ，ｂｒ）、８．７５（２Ｈ，り実施例８
Ｎ１．Ｎ８−ビス（第３級ブトキシカルボニル）スペル
ミジン酢酸塩（２，０Ｏｆ 、 ４．９３ ｍモル）の
２塩化メチレン（５０ｙ）溶液にトリエチルアミン（２
，００ｙ＊ １９−７〜４ ／Ｉ／ ）を加え、更ニエ
ナント酸無水物（１，４５！／ 、 ５．９ ｌ ｒａ
モル）を加えた。この混合液を３０分間静置した後減圧
濃縮し、残渣をジエチルエーテル＜５０ｒｎｌ）に溶解
した後、５％のクエン酸水溶液及び５％の炭酸ナトリウ
ム水溶液で洗浄した。油層を食塩水で洗浄した後硫酸す
） ＩＪウムで乾燥し沖過した。次いで乾燥した塩化水
素ガスを１時間吹込み、その後窒素ガスを吹込んで過剰
の塩化水素を除去した。この反応液を濃縮した後残渣を
水に溶解し、水酸化ナトリウムでｐＨ１４に調整した後
、Ｄｉａ −ＩｏＮＨＰ−２０（同前、３０ｄ）を充填
したカラムクロマトグラフィーに通し、水−メタノール
系溶媒を用いて溶出した。目的物質を含む両分を集めて
減圧濃縮すると、油状のＮ４− ヘプタノイルスペルミ
ジン＜ １．１６９．９２．１％）が得られた。
ミジン酢酸塩（２，０Ｏｆ 、 ４．９３ ｍモル）の
２塩化メチレン（５０ｙ）溶液にトリエチルアミン（２
，００ｙ＊ １９−７〜４ ／Ｉ／ ）を加え、更ニエ
ナント酸無水物（１，４５！／ 、 ５．９ ｌ ｒａ
モル）を加えた。この混合液を３０分間静置した後減圧
濃縮し、残渣をジエチルエーテル＜５０ｒｎｌ）に溶解
した後、５％のクエン酸水溶液及び５％の炭酸ナトリウ
ム水溶液で洗浄した。油層を食塩水で洗浄した後硫酸す
） ＩＪウムで乾燥し沖過した。次いで乾燥した塩化水
素ガスを１時間吹込み、その後窒素ガスを吹込んで過剰
の塩化水素を除去した。この反応液を濃縮した後残渣を
水に溶解し、水酸化ナトリウムでｐＨ１４に調整した後
、Ｄｉａ −ＩｏＮＨＰ−２０（同前、３０ｄ）を充填
したカラムクロマトグラフィーに通し、水−メタノール
系溶媒を用いて溶出した。目的物質を含む両分を集めて
減圧濃縮すると、油状のＮ４− ヘプタノイルスペルミ
ジン＜ １．１６９．９２．１％）が得られた。
ＩＲ（フィルム）：３３００，２９００，１６２５，１
４６０゜１３７５α−１ ＭＡＳＳ ： Ｍ ｍ／ｅ ＝ ２５７ べ−
７，ビークｍ／ ｅ ＝＝実施例９ Ｎｌ 、 Ｎ８−ビス（ｆｆ１３級ブトキシカルボニル
）スペルミジン酢酸塩（２，０Ｏｆｆ 、 ４．９３
ｍモル）のピリジン（３０，０□ｌ）溶液にトリエチル
アミン（０，６（Ｈ’、５．９１ｍモル）を加え、更に
無水安息香酸（１，３４ｇ、５．９２ｍモル）を加えた
。この混合液を２０時間放置した後溶媒を減圧留去し、
残渣をジエチルエーテルに溶かし、水洗後塩酸水溶液で
ｐＨ５に調整した。油層を食塩水で洗浄した後硫酸すｌ
−ＩＪウムで乾燥し、沖過後戸液に乾燥した塩化水素ガ
スを１５分間吹込み、更に窒素ガスを吹込んで過剰量の
塩化水素を除去した。この反応液を濃縮した後、残渣を
ＩＮの水酸化すｌ−ＩＪウム水溶液に溶解しジエチルエ
ーテルにて洗浄した。水射をＤｉａ −ＩＯｎ ＨＰ−
２０（同前、１０〇−）を充填したカラムクロマトグラ
フィーに展開した後、水−メタノール系溶媒を用いて溶
出した。
４６０゜１３７５α−１ ＭＡＳＳ ： Ｍ ｍ／ｅ ＝ ２５７ べ−
７，ビークｍ／ ｅ ＝＝実施例９ Ｎｌ 、 Ｎ８−ビス（ｆｆ１３級ブトキシカルボニル
）スペルミジン酢酸塩（２，０Ｏｆｆ 、 ４．９３
ｍモル）のピリジン（３０，０□ｌ）溶液にトリエチル
アミン（０，６（Ｈ’、５．９１ｍモル）を加え、更に
無水安息香酸（１，３４ｇ、５．９２ｍモル）を加えた
。この混合液を２０時間放置した後溶媒を減圧留去し、
残渣をジエチルエーテルに溶かし、水洗後塩酸水溶液で
ｐＨ５に調整した。油層を食塩水で洗浄した後硫酸すｌ
−ＩＪウムで乾燥し、沖過後戸液に乾燥した塩化水素ガ
スを１５分間吹込み、更に窒素ガスを吹込んで過剰量の
塩化水素を除去した。この反応液を濃縮した後、残渣を
ＩＮの水酸化すｌ−ＩＪウム水溶液に溶解しジエチルエ
ーテルにて洗浄した。水射をＤｉａ −ＩＯｎ ＨＰ−
２０（同前、１０〇−）を充填したカラムクロマトグラ
フィーに展開した後、水−メタノール系溶媒を用いて溶
出した。
目的物質を含む両分を集めて減圧濃縮すると、油状のＮ
−ベンゾイルスペルミジン（０，６８５’。
−ベンゾイルスペルミジン（０，６８５’。
５６．０％）が得られた。
ＩＲ（フィルム）： ３３５０，２９００，１６２０
，１５７５゜１５４５．１４９０，１４７０，１４４０
゜１３８０．１３０５，７００ａｍ−’ ＭＡＳ Ｓ ： Ｍ ｍ／ｅ ＝ ２４９、ヘースビ
ークｍ／ｅ＝実施例ｉ。
，１５７５゜１５４５．１４９０，１４７０，１４４０
゜１３８０．１３０５，７００ａｍ−’ ＭＡＳ Ｓ ： Ｍ ｍ／ｅ ＝ ２４９、ヘースビ
ークｍ／ｅ＝実施例ｉ。
ジオキサン（３０ｉ）と水（５０ｄ）の混合液にＮ−（
２−シアノエチル）−１，４−ジアミノブタン（５１）
を溶解し、この溶液を０℃に保ってカルボベンゾキシク
ロライド（１３，２’１．７７゜９ｍモル）とＩＮの水
酸化ナトＩＪウム水溶液を２時間かけて同時に添加した
。尚この間反応液のｐＨは１２．５〜１３．２の範囲と
なる様に添加速度を調整した。添加終了後更に２０時間
攪拌を続け、生成した白色粉末をｒ過・水洗後減圧乾燥
した。
２−シアノエチル）−１，４−ジアミノブタン（５１）
を溶解し、この溶液を０℃に保ってカルボベンゾキシク
ロライド（１３，２’１．７７゜９ｍモル）とＩＮの水
酸化ナトＩＪウム水溶液を２時間かけて同時に添加した
。尚この間反応液のｐＨは１２．５〜１３．２の範囲と
なる様に添加速度を調整した。添加終了後更に２０時間
攪拌を続け、生成した白色粉末をｒ過・水洗後減圧乾燥
した。
得られた組成物をジイソプロピルエーテルで再結晶し、
４５℃で減圧乾燥すると、白色粉末状のＮ−（２−シア
ノエチル）−Ｎ、Ｎ’−ビス（カルボベンゾキシ）−１
，４−ジアミノブタン（１３゜７７ｐ、９５．０％）が
得られた。ｍＰ、５６〜５８．５℃ＩＲ（ｙショール）
： ３３２０，２９００，２２２０．１７０５．１６
８５．１５３５゜ １４５０．１２８０，１２７０゜ ７３００１１−” ＮＭＲ（ＣＤＣ／３．δ）： １．３０〜１．９３（４Ｈ，ｍ）、２．５６１−１．ｔ
、Ｊ＝７Ｈｚ）、２．９７〜３．６２（６Ｈ，ｍ）、４
．７３（ＩＨ，ｂｒ）。
４５℃で減圧乾燥すると、白色粉末状のＮ−（２−シア
ノエチル）−Ｎ、Ｎ’−ビス（カルボベンゾキシ）−１
，４−ジアミノブタン（１３゜７７ｐ、９５．０％）が
得られた。ｍＰ、５６〜５８．５℃ＩＲ（ｙショール）
： ３３２０，２９００，２２２０．１７０５．１６
８５．１５３５゜ １４５０．１２８０，１２７０゜ ７３００１１−” ＮＭＲ（ＣＤＣ／３．δ）： １．３０〜１．９３（４Ｈ，ｍ）、２．５６１−１．ｔ
、Ｊ＝７Ｈｚ）、２．９７〜３．６２（６Ｈ，ｍ）、４
．７３（ＩＨ，ｂｒ）。
５．０３（２Ｈ，５）、５．０６（２Ｈ，ｉ）。
７．２５（５Ｈ，ｉ）
元素分析：０２３Ｈ２７Ｎ３°４
理論値・・・Ｃ： ６７．４６ 、 Ｈ： ６．６５
、 Ｎ： １０．２６実測値・・・Ｃ： ６７．５５
、 Ｈ： ６．６７ 、 Ｎ： １０．１９上記で得た
Ｎ−（２−シアノエチル） −Ｎ、Ｎ’−ビス（カルボ
ベンゾキシ）−１，４−ジアミノブタン（３，００ｙ、
７．３３ｍモル）と塩化コバルト（■）の５水和物（４
，０１ｇ、１４．５ｍモル）を２０℃のメタノール（７
５ｍｌ）に溶かした溶液に、水素化硼素ナトリウム（２
，７７ｙ）を少しずつ添加した。この混合液を２時間攪
拌した後、沈殿がすべて溶解するまで濃塩酸を加えた。
、 Ｎ： １０．２６実測値・・・Ｃ： ６７．５５
、 Ｈ： ６．６７ 、 Ｎ： １０．１９上記で得た
Ｎ−（２−シアノエチル） −Ｎ、Ｎ’−ビス（カルボ
ベンゾキシ）−１，４−ジアミノブタン（３，００ｙ、
７．３３ｍモル）と塩化コバルト（■）の５水和物（４
，０１ｇ、１４．５ｍモル）を２０℃のメタノール（７
５ｍｌ）に溶かした溶液に、水素化硼素ナトリウム（２
，７７ｙ）を少しずつ添加した。この混合液を２時間攪
拌した後、沈殿がすべて溶解するまで濃塩酸を加えた。
淡紅色の生成液を水酸化す） ＩＪウム水溶液でｐＨ１
２に調整し、２０時間放置し、た後沖過しメタノールで
洗浄した。
２に調整し、２０時間放置し、た後沖過しメタノールで
洗浄した。
ｒ液と洗浄液を合して溶媒を減圧留去し、残渣をＩＮの
水酸化ナトリウム水溶液に投入した後ジエチルエーテル
で抽出した。抽出液を食塩水で洗浄し、硫酸す） ＩＪ
ウムで乾燥した後減圧濃縮し、残渣をシリカゲ／Ｌ／
（Ｋｉｅｓｅｌｇｅｌ ５Ｑ、 ７ Ｑ〜２３０メツ
シュ、メルク社製）の充填されたカラムクロマトグラフ
ィーに展開した後、クロロホルム−メタノール系溶媒で
溶出した。目的物質を含む両分を集めて溶媒を減圧留去
すると、油状、のＮ 、Ｎ−ビス（カルボベンゾキシ
）スペルミジン（１１１９，５６，５９６）が得られた
。
水酸化ナトリウム水溶液に投入した後ジエチルエーテル
で抽出した。抽出液を食塩水で洗浄し、硫酸す） ＩＪ
ウムで乾燥した後減圧濃縮し、残渣をシリカゲ／Ｌ／
（Ｋｉｅｓｅｌｇｅｌ ５Ｑ、 ７ Ｑ〜２３０メツ
シュ、メルク社製）の充填されたカラムクロマトグラフ
ィーに展開した後、クロロホルム−メタノール系溶媒で
溶出した。目的物質を含む両分を集めて溶媒を減圧留去
すると、油状、のＮ 、Ｎ−ビス（カルボベンゾキシ
）スペルミジン（１１１９，５６，５９６）が得られた
。
ＩＲ（フィルム）： ３３２０，２９１０，１６８５
，１５３０゜１４７５．１４５０，１４２０，１２５０
゜７３５．６９５３−’ ＮＭＲ（ＣＤＣｚ３．δ）： １．１６〜２．２７（８Ｈ，ｍ）、２．６２（２Ｈ，ｂ
ｒ）、ａ、ｏｏ 〜３．５３（６Ｈ。
，１５３０゜１４７５．１４５０，１４２０，１２５０
゜７３５．６９５３−’ ＮＭＲ（ＣＤＣｚ３．δ）： １．１６〜２．２７（８Ｈ，ｍ）、２．６２（２Ｈ，ｂ
ｒ）、ａ、ｏｏ 〜３．５３（６Ｈ。
ｔｎ）、４．９５（ＩＨ，ｂｒ）、５．１２（２Ｈ，Ａ
） 、 ７．３０ （ＩＯＨ，ｌ ）ＭＡＳ Ｓ ：
ｈｉ ｍ／ｃ ＝ ４１３ ベースピークｍ ／
ｅ ＝元素分析：Ｃ２３Ｈ３１０４Ｎ３・０．１５ＣＨ
Ｃ／３理論値・・・ｃ： ６４．４５ 、 Ｈ： ７．
２８ 、 Ｎ： ’１７３実測値・・・Ｃ：６４．８９
． Ｈニア、４６． Ｎ：９．７０実施例１１ 水（３，０ｍＺ）とジオキサン（２０，０，／）の混合
溶媒にＮ ４ 、 Ｎ ８−ビス（カルボベンゾキシ）
スペルミジン（０，９７Ｆ、２．３４ｍモル）を溶かし
た溶液に、トリエチルアミン（０，３７ｇ、３．６７ｍ
モル）と２−（第３Ｍブトキシカルボニルオキシイミノ
）−２−フェニルアセトニトリル（０，６０ダ、２．４
５ｍモル）を加え、３昇夜攪拌した。
） 、 ７．３０ （ＩＯＨ，ｌ ）ＭＡＳ Ｓ ：
ｈｉ ｍ／ｃ ＝ ４１３ ベースピークｍ ／
ｅ ＝元素分析：Ｃ２３Ｈ３１０４Ｎ３・０．１５ＣＨ
Ｃ／３理論値・・・ｃ： ６４．４５ 、 Ｈ： ７．
２８ 、 Ｎ： ’１７３実測値・・・Ｃ：６４．８９
． Ｈニア、４６． Ｎ：９．７０実施例１１ 水（３，０ｍＺ）とジオキサン（２０，０，／）の混合
溶媒にＮ ４ 、 Ｎ ８−ビス（カルボベンゾキシ）
スペルミジン（０，９７Ｆ、２．３４ｍモル）を溶かし
た溶液に、トリエチルアミン（０，３７ｇ、３．６７ｍ
モル）と２−（第３Ｍブトキシカルボニルオキシイミノ
）−２−フェニルアセトニトリル（０，６０ダ、２．４
５ｍモル）を加え、３昇夜攪拌した。
反応液を減圧濃縮し、残渣をジエチルエーテル中に投入
した後、ＩＮの水酸化す） ＩＪウム水溶液及び食塩水
で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した後、沖過し減圧濃
縮した。次いでシリカゲル（Ｋｉｅｓｅｌｇｅｌ ６０
．７０〜２３０メツシユ、メルク社製）を用いたクロマ
トグラフィーに通し、クロロホルム−メタノール系溶媒
で溶出すると、油状のＮ １−＠ ３級ブトキシカルボ
ニル−Ｈ４，Ｈ８−（カルボベンゾキシ）スペルミジン
（１，２１ｇ。
した後、ＩＮの水酸化す） ＩＪウム水溶液及び食塩水
で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した後、沖過し減圧濃
縮した。次いでシリカゲル（Ｋｉｅｓｅｌｇｅｌ ６０
．７０〜２３０メツシユ、メルク社製）を用いたクロマ
トグラフィーに通し、クロロホルム−メタノール系溶媒
で溶出すると、油状のＮ １−＠ ３級ブトキシカルボ
ニル−Ｈ４，Ｈ８−（カルボベンゾキシ）スペルミジン
（１，２１ｇ。
１００％）が得られた。
ＩＲ（フィルＡ）： ３３４０．２９００．１７００
．１５４０゜１２４５．１１６５，７４０，６９５ＣＩ
＋−’ＭＡＳ Ｓ ： Ｍ ｒｎ／ ｅ ＝ ５１
３ 、 ヘＸピークｍ／ ｅ＝９１ 実施例１２ Ｎ 、Ｎ −ビス（カルボベンゾキシ）スペルミジ
ン（０，７０Ｆ、１．６９ｍモル）のテトラヒドロフラ
ン（１０，ｄ）溶液に、ヘプタノイル−〇−グルタミン
酸−α−ベンジルーｆ−Ｎ−ヒドロキシサクシンイミド
エステル（０，９０ｆ、２．０２ｍモル）を加え、２昼
夜放置した後溶媒を減圧留去した。残渣を２塩化メチレ
ンに投入した後、１Ｎの塩酸及び水で順次洗浄し、硫酸
す） ＩＪウムで乾燥し濾過後減圧濃縮した。残査油を
、シリカゲル（Ｋｉｅｓｅｌｇｅｌ ６０ 、７０−２
３０メツシユ、メルク社製）を充填したカラムクロマト
グラフィーに通した後、クロロホルム−メタノール系溶
媒で溶出した。目的物質を含む両分を集めて溶媒を減圧
留去し、得られた油状物をジイソプロピルエーテルで結
晶化させ、沖過後ジイソプロピルエーテルで洗浄した後
４５℃で減圧乾燥すると、白色粉末状のベンジル−Ｎ
−ヘプタノイル−Ｎ“−（（Ｎ−カルボベンゾキシアミ
ノブチル−Ｎ−カルボベンゾキシ）アミノプロピル）−
Ｄ−グルタミネート（０，９３ｐ、７３．７％）が得ら
れた。
．１５４０゜１２４５．１１６５，７４０，６９５ＣＩ
＋−’ＭＡＳ Ｓ ： Ｍ ｒｎ／ ｅ ＝ ５１
３ 、 ヘＸピークｍ／ ｅ＝９１ 実施例１２ Ｎ 、Ｎ −ビス（カルボベンゾキシ）スペルミジ
ン（０，７０Ｆ、１．６９ｍモル）のテトラヒドロフラ
ン（１０，ｄ）溶液に、ヘプタノイル−〇−グルタミン
酸−α−ベンジルーｆ−Ｎ−ヒドロキシサクシンイミド
エステル（０，９０ｆ、２．０２ｍモル）を加え、２昼
夜放置した後溶媒を減圧留去した。残渣を２塩化メチレ
ンに投入した後、１Ｎの塩酸及び水で順次洗浄し、硫酸
す） ＩＪウムで乾燥し濾過後減圧濃縮した。残査油を
、シリカゲル（Ｋｉｅｓｅｌｇｅｌ ６０ 、７０−２
３０メツシユ、メルク社製）を充填したカラムクロマト
グラフィーに通した後、クロロホルム−メタノール系溶
媒で溶出した。目的物質を含む両分を集めて溶媒を減圧
留去し、得られた油状物をジイソプロピルエーテルで結
晶化させ、沖過後ジイソプロピルエーテルで洗浄した後
４５℃で減圧乾燥すると、白色粉末状のベンジル−Ｎ
−ヘプタノイル−Ｎ“−（（Ｎ−カルボベンゾキシアミ
ノブチル−Ｎ−カルボベンゾキシ）アミノプロピル）−
Ｄ−グルタミネート（０，９３ｐ、７３．７％）が得ら
れた。
ＩＲ（ヌジョール）： ３３００．２９００．１６８
５ 。
５ 。
１６４０．１５４０．１４６０゜
１３７５．１２８０，７５０゜
６９５ＣＩ１１−’
元素分析：Ｃ４□Ｈ５６０８Ｎ４
理論値・・・Ｃ：６７．７１．Ｈニア、５８．Ｎニア、
５２実測値・・・Ｃ：６７，６１．Ｈニア、４７．Ｎニ
ア、５２旋光性： （α） ＝ ＋ ２．８０（Ｃ＝
１．５６クロロホルム）実施例１３ Ｈ４，Ｈ８−ビス（第３級ブトキシカルボニル）Ｘ ／
（／ｌ／ ｉジン（１，４４５Ｆｓ ４−１８ ”モル
）を水（２０，０ｍ／）とジオキサン（１０，Ｏｄ）の
混合溶媒に溶かした溶液に、カルボベンゾキシクロライ
ド（０，７８ｆ 、 ４．６０ ｍモル）の２０％ジオ
キサン溶液とＩＮの水酸化ナトリウム水溶液を、０℃で
４０分を要して同時に添加した。この間反応液のｐＨは
１０．７〜１１．３に保った。この混合液を更に３時間
攪拌し、ジオキサンを減圧留去した後、ジエチルエーテ
ルで抽出した。抽出液を食塩水で洗浄し硫酸ナトリウム
で乾燥した後減圧儂縮すると、油状のＮ−カルボベンゾ
キン−Ｎ 、Ｎ −ビス（５８３級ブトキシカルボ
ニル）スペ／Ｉ／ ミ’） ７ （１−７８ｇ、８９．
０％）が得られた。
５２実測値・・・Ｃ：６７，６１．Ｈニア、４７．Ｎニ
ア、５２旋光性： （α） ＝ ＋ ２．８０（Ｃ＝
１．５６クロロホルム）実施例１３ Ｈ４，Ｈ８−ビス（第３級ブトキシカルボニル）Ｘ ／
（／ｌ／ ｉジン（１，４４５Ｆｓ ４−１８ ”モル
）を水（２０，０ｍ／）とジオキサン（１０，Ｏｄ）の
混合溶媒に溶かした溶液に、カルボベンゾキシクロライ
ド（０，７８ｆ 、 ４．６０ ｍモル）の２０％ジオ
キサン溶液とＩＮの水酸化ナトリウム水溶液を、０℃で
４０分を要して同時に添加した。この間反応液のｐＨは
１０．７〜１１．３に保った。この混合液を更に３時間
攪拌し、ジオキサンを減圧留去した後、ジエチルエーテ
ルで抽出した。抽出液を食塩水で洗浄し硫酸ナトリウム
で乾燥した後減圧儂縮すると、油状のＮ−カルボベンゾ
キン−Ｎ 、Ｎ −ビス（５８３級ブトキシカルボ
ニル）スペ／Ｉ／ ミ’） ７ （１−７８ｇ、８９．
０％）が得られた。
ＩＲ（７（ルム）： ３３５０，２９５０，１７００
，１５２０゜１４２０．１３６５，１２５０，１１７０
゜７００個−１ ＭＡＳ Ｓ ： ｈｉ ｍ／ｅ ＝ ４７９、ヘー
スピークｍ／ ｅ＝５７ 実施例１４ スペルミジンの塩化第２銅錯体（０，３０ｇ。
，１５２０゜１４２０．１３６５，１２５０，１１７０
゜７００個−１ ＭＡＳ Ｓ ： ｈｉ ｍ／ｅ ＝ ４７９、ヘー
スピークｍ／ ｅ＝５７ 実施例１４ スペルミジンの塩化第２銅錯体（０，３０ｇ。
１．０７ｍモル）をジオキサン（４０＋Ｊ）と水（２０
ｆｎｌ）の混合溶媒に溶かした溶液にトリエチルアミン
（０，２１’、３．５６ｄ）を加え、更にジ第３級ブチ
ルカーボネート（０，２８ダ、１．２８ｍモル）を加え
た。１時間攪拌した後、更にトリエチルアミ７Ｃ０，０
７ｆ、０．６４ｍモル）とジ第３級ブチルカーボネート
＜０．１４９，０．６４ｍモル）を加え、２０時間放殺
した後０℃に冷却し、ＩＮの塩酸でＰ）１５に調整した
。この反応液に硫化水素ガスを１時間吹込み、次いで窒
素ガスを吹込んで過剰量の硫化水素を除去し、濾過後ジ
エチルエーテルで洗浄した。水底をＩＮの苛性ソーダで
Ｐ ｌ−１１２にｔＲａ整した後ジエチルエーテルで洗
浄して減圧乾燥し、残渣油ｙｆ−Ｄｉ ２Ｌ−Ｉｏｎ
ＨＰ −２０（５０ｍ／ ）の充填されたカラムクロマ
トグラフィーに通し、水−メタノール系溶媒を用いて溶
出した。目的物質を含む画分を集めて溶媒を減圧留去し
、残渣を２塩化メチレンに投入した後炭酸ナトリウムで
乾燥し、−過後減圧濃縮すると、油状のＮ８−第３級ブ
トキシカルボニルスペルミジン（０，１２，！ｆＦ。
ｆｎｌ）の混合溶媒に溶かした溶液にトリエチルアミン
（０，２１’、３．５６ｄ）を加え、更にジ第３級ブチ
ルカーボネート（０，２８ダ、１．２８ｍモル）を加え
た。１時間攪拌した後、更にトリエチルアミ７Ｃ０，０
７ｆ、０．６４ｍモル）とジ第３級ブチルカーボネート
＜０．１４９，０．６４ｍモル）を加え、２０時間放殺
した後０℃に冷却し、ＩＮの塩酸でＰ）１５に調整した
。この反応液に硫化水素ガスを１時間吹込み、次いで窒
素ガスを吹込んで過剰量の硫化水素を除去し、濾過後ジ
エチルエーテルで洗浄した。水底をＩＮの苛性ソーダで
Ｐ ｌ−１１２にｔＲａ整した後ジエチルエーテルで洗
浄して減圧乾燥し、残渣油ｙｆ−Ｄｉ ２Ｌ−Ｉｏｎ
ＨＰ −２０（５０ｍ／ ）の充填されたカラムクロマ
トグラフィーに通し、水−メタノール系溶媒を用いて溶
出した。目的物質を含む画分を集めて溶媒を減圧留去し
、残渣を２塩化メチレンに投入した後炭酸ナトリウムで
乾燥し、−過後減圧濃縮すると、油状のＮ８−第３級ブ
トキシカルボニルスペルミジン（０，１２，！ｆＦ。
４６．０％）が得られた。
ＩＲ（ヌジョール）： ３６００，２９００，１７１
０．１６８０゜１５４５．１４６０，１３６０，１２７
５゜１１７０ｃＲ−’ ＮＭＲ（Ｃ１）Ｃ／ ３−δ）： １．４５（９Ｈ，露）、１．．２５〜２．００（６Ｈ，
ｍ）、２．４７〜３．６２ （８Ｈ，ｍ）。
０．１６８０゜１５４５．１４６０，１３６０，１２７
５゜１１７０ｃＲ−’ ＮＭＲ（Ｃ１）Ｃ／ ３−δ）： １．４５（９Ｈ，露）、１．．２５〜２．００（６Ｈ，
ｍ）、２．４７〜３．６２ （８Ｈ，ｍ）。
４．９６（１）１．ｂｒ）
実施例１５
スペルミジンの塩化第２銅錯体（０，４０ｇ。
１．４３ｍモル）をジオキサン（２０ｄ）と水（４〇−
）に溶かした溶液を０℃に保ち、これにカルボヘンゾキ
シクａ５イド（０，７２ｆ 、 ４．２２ｍ−ｅル）の
１０９６ジオキサン溶液とトリエチルアミン（１゜２２
ｆ 、 １２．０ｍモル）の２０％ジオキサン溶液を
２時間かけて同時に添加した。この間反応液のＰ■（は
８〜９に保持した。その後更に２０時間ｔａ拌した後、
ＩＮの塩酸でＰＨ２に調整し、ジエチルエーテルで洗浄
した。次いで塩化水素ガスを１時間吹込んだ後、窒素ガ
スを吹込んで過剰量の硫化水素を除去し沖過した。水層
を３Ｎの水酸化ナトリウム水溶液でｐＨ１０に調整し、
ジエチルエーテルで洗浄した後縁圧濃縮した。残渣を、
Ｄ ｉ ａ−Ｉｏｎ ＨＰ−２０（５０ｍ１ ）を充填
したカラムクロマトグラフィーに通し、水−メタノール
系溶媒を用いて溶出した。目的物質を含む両分を集めて
溶媒を渾江留去すると、油状で放置すると結晶化するＮ
８− カルボベンゾキシスペルミジン（０，１９７ダ、
４９．４％）が得られた。ｆｆ１ｐ 、９４〜９８℃ ＩＮ（ヌジョール）：３６５０，２９００，１６８５，
１５３５゜１４５０．１２６５，１１２０，７’５０゜
７２５．６９５ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＣＤＣ／３．δ） １．１０〜２．００（６Ｈ，ｍ）、２．１０〜３．５０
（４Ｈ，ｍ） 、 ３．５２〜４．５４Ｎ−カルボベン
ゾキシー１．４−ジアミノブタン塩酸塩（１，０（１，
３，８６ｍモル）の水（１０，０ｍｌ ）溶液に、ＩＮ
の水酸化ナトリウム水溶液（４゜６４ｍモル）を加えた
。この水溶液を塩化ナトリウムで飽和した後、ジエチル
エーテルで十分に抽出した。エーテル溶液を硫酸ナトリ
ウムで乾燥した後−過し、溶媒を減圧留去した。残渣を
メタノール（１０，０ｍ／）に溶かした溶液にアクリロ
ニトリル（０，２５ｆ 、 ４．６３ｍモル）を加え、
２０時間ｉδ拌した後瀝；圧濃縮してｌｌＴ！＋状物を
得た。これを３０ｆｌのシリカゲＡ／（Ｋｉｅｓｅｌｇ
ｅｌ ６０．７０．、、。
）に溶かした溶液を０℃に保ち、これにカルボヘンゾキ
シクａ５イド（０，７２ｆ 、 ４．２２ｍ−ｅル）の
１０９６ジオキサン溶液とトリエチルアミン（１゜２２
ｆ 、 １２．０ｍモル）の２０％ジオキサン溶液を
２時間かけて同時に添加した。この間反応液のＰ■（は
８〜９に保持した。その後更に２０時間ｔａ拌した後、
ＩＮの塩酸でＰＨ２に調整し、ジエチルエーテルで洗浄
した。次いで塩化水素ガスを１時間吹込んだ後、窒素ガ
スを吹込んで過剰量の硫化水素を除去し沖過した。水層
を３Ｎの水酸化ナトリウム水溶液でｐＨ１０に調整し、
ジエチルエーテルで洗浄した後縁圧濃縮した。残渣を、
Ｄ ｉ ａ−Ｉｏｎ ＨＰ−２０（５０ｍ１ ）を充填
したカラムクロマトグラフィーに通し、水−メタノール
系溶媒を用いて溶出した。目的物質を含む両分を集めて
溶媒を渾江留去すると、油状で放置すると結晶化するＮ
８− カルボベンゾキシスペルミジン（０，１９７ダ、
４９．４％）が得られた。ｆｆ１ｐ 、９４〜９８℃ ＩＮ（ヌジョール）：３６５０，２９００，１６８５，
１５３５゜１４５０．１２６５，１１２０，７’５０゜
７２５．６９５ｃｍ−１ ＮＭＲ（ＣＤＣ／３．δ） １．１０〜２．００（６Ｈ，ｍ）、２．１０〜３．５０
（４Ｈ，ｍ） 、 ３．５２〜４．５４Ｎ−カルボベン
ゾキシー１．４−ジアミノブタン塩酸塩（１，０（１，
３，８６ｍモル）の水（１０，０ｍｌ ）溶液に、ＩＮ
の水酸化ナトリウム水溶液（４゜６４ｍモル）を加えた
。この水溶液を塩化ナトリウムで飽和した後、ジエチル
エーテルで十分に抽出した。エーテル溶液を硫酸ナトリ
ウムで乾燥した後−過し、溶媒を減圧留去した。残渣を
メタノール（１０，０ｍ／）に溶かした溶液にアクリロ
ニトリル（０，２５ｆ 、 ４．６３ｍモル）を加え、
２０時間ｉδ拌した後瀝；圧濃縮してｌｌＴ！＋状物を
得た。これを３０ｆｌのシリカゲＡ／（Ｋｉｅｓｅｌｇ
ｅｌ ６０．７０．、、。
２３０メツシユ、メルク社製）の充填されたカラムクロ
マトグラフィーに通し、クロロホルム−メタノール系溶
媒で溶出すると、油状のＮ−カルボベンゾキシ−Ｎ’−
（２−シアノエチル）−１，４−ジアミノブタンが得ら
れた。これを２５ｍ７のメタノールに溶解し、塩化ｆｆ
１２銅（１，５７ｇ、 ６．６０ｍモル）を加えた後更
に水素化硼素ナトリウム（１，２５９、３３，０ｍモル
）を少量ずつ加えた。この混合物を更に２時間攪拌した
後ＩＮの塩酸（５０゜０ＷＬｌ）を加え、次いでＩＮの
水酸化ナトリウム水溶液でｐＨ９に調整し、硫化水素ガ
スを１時間吹込んだ。その後窒素ガスを吹込んで過剰の
硫化水素を除去し、生成した黒色の沈殿を沖去しメタノ
ールで洗浄した。−液と洗浄液を合して溶媒を減圧留去
し、残渣をＩＮの水酸化ナトリウム水溶液に溶解し、Ｄ
ｉｇ −Ｉｏｎ ＨＰ −２０を充填したカラムク
ロマトグラフィーに通した後、水−メタノール系溶媒で
溶出させた。目的物質を含む両分を集めて溶媒を減圧留
去すると油状物が得られた。
マトグラフィーに通し、クロロホルム−メタノール系溶
媒で溶出すると、油状のＮ−カルボベンゾキシ−Ｎ’−
（２−シアノエチル）−１，４−ジアミノブタンが得ら
れた。これを２５ｍ７のメタノールに溶解し、塩化ｆｆ
１２銅（１，５７ｇ、 ６．６０ｍモル）を加えた後更
に水素化硼素ナトリウム（１，２５９、３３，０ｍモル
）を少量ずつ加えた。この混合物を更に２時間攪拌した
後ＩＮの塩酸（５０゜０ＷＬｌ）を加え、次いでＩＮの
水酸化ナトリウム水溶液でｐＨ９に調整し、硫化水素ガ
スを１時間吹込んだ。その後窒素ガスを吹込んで過剰の
硫化水素を除去し、生成した黒色の沈殿を沖去しメタノ
ールで洗浄した。−液と洗浄液を合して溶媒を減圧留去
し、残渣をＩＮの水酸化ナトリウム水溶液に溶解し、Ｄ
ｉｇ −Ｉｏｎ ＨＰ −２０を充填したカラムク
ロマトグラフィーに通した後、水−メタノール系溶媒で
溶出させた。目的物質を含む両分を集めて溶媒を減圧留
去すると油状物が得られた。
この油状物を更にカルボキシメチルセルロース（ワット
７：／ＣＭ −５２、２，５ＣＩＩＸ ５５．０ｃＩＲ
，０，４Ｍ−ピリジン−酢酸緩衝液（ＰＨ５，４）で平
衡化したもの〕を用いたカラムクロマトグラフィーで精
製し、Ｑ、４Ｍ−１，０Ｍの直線勾配的に濃度変換させ
た同−緩衝液（各５００ｉ）で溶出すると、油状で放置
すると結晶化する〜８− カルボベンゾキシスペルミジ
ン（０，２５ｙ、２３．３％）が得られたｏ ”Ｐ−９
４〜９９℃ ＩＲ（Ｊジ”ｌ−ル）：３３３０．２９００．１６８５
．１５３５゜１４５０．１２３５，１１２０，１０２０
゜７５０．６９５国−１ 実施例１７ Ｎ−（２−シアノエチル）アニリン（８，００ダ。
７：／ＣＭ −５２、２，５ＣＩＩＸ ５５．０ｃＩＲ
，０，４Ｍ−ピリジン−酢酸緩衝液（ＰＨ５，４）で平
衡化したもの〕を用いたカラムクロマトグラフィーで精
製し、Ｑ、４Ｍ−１，０Ｍの直線勾配的に濃度変換させ
た同−緩衝液（各５００ｉ）で溶出すると、油状で放置
すると結晶化する〜８− カルボベンゾキシスペルミジ
ン（０，２５ｙ、２３．３％）が得られたｏ ”Ｐ−９
４〜９９℃ ＩＲ（Ｊジ”ｌ−ル）：３３３０．２９００．１６８５
．１５３５゜１４５０．１２３５，１１２０，１０２０
゜７５０．６９５国−１ 実施例１７ Ｎ−（２−シアノエチル）アニリン（８，００ダ。
５４．７ ｍ％ル）、無水炭酸ナトリウム（６，７０ｐ
。
。
６３．２１ｎモル）及びヨウ化カリウム（１−１５グ。
６．９４ｍモル）の混合物を１１５℃に保ち、これに４
−ブロムブタンニトリル（亀８４９．４６．２ｍモル）
のジメチルホルムアミド（１６ｍ／）溶液を４時間かけ
て添加した。この混合液をＩＩ５℃で更に２０時間攪拌
し、室温まで冷却した後洲過し、固形物をジメチルホル
ムアミドで洗浄した。
−ブロムブタンニトリル（亀８４９．４６．２ｍモル）
のジメチルホルムアミド（１６ｍ／）溶液を４時間かけ
て添加した。この混合液をＩＩ５℃で更に２０時間攪拌
し、室温まで冷却した後洲過し、固形物をジメチルホル
ムアミドで洗浄した。
ｒ液と洗浄液を合した後溶媒を留去し、残渣をＩＮの塩
酸に溶解した。この水溶液をジエチルエーテルで洗浄し
た後炭酸カリウムでＰＨ１２に調整し、次いでジエチル
エーテルで抽出した。抽出液を食塩水で洗浄し、硫酸ナ
トリウムで乾燥した後溶媒を減圧留去した。残分を蒸留
（１００〜１２５、 ℃、０．０８闘Ｈｇ）Ｌ未反応の
Ｎ−（２−シアノエチル）アニリン（４，０６ｙ、５０
．８％）を除去した後、シリカゲ／Ｌ／ （Ｋｉｅｓｅ
ｌｇｅｌ ５Ｑ 、 ２３０〜４００メツシユ、メルク
社製）のカラムクロマトグラフィーに通し、クロロホル
ムとへキサン（１：１）の混合溶媒で溶出した。目的物
質を含む画分を集めて溶媒を減圧留去すると、油状のＮ
−（２−シアノエチル）−Ｎ−（３−シアノプロピル）
アニリン（５，１’ｌ 、５２．７９６）が得られた。
酸に溶解した。この水溶液をジエチルエーテルで洗浄し
た後炭酸カリウムでＰＨ１２に調整し、次いでジエチル
エーテルで抽出した。抽出液を食塩水で洗浄し、硫酸ナ
トリウムで乾燥した後溶媒を減圧留去した。残分を蒸留
（１００〜１２５、 ℃、０．０８闘Ｈｇ）Ｌ未反応の
Ｎ−（２−シアノエチル）アニリン（４，０６ｙ、５０
．８％）を除去した後、シリカゲ／Ｌ／ （Ｋｉｅｓｅ
ｌｇｅｌ ５Ｑ 、 ２３０〜４００メツシユ、メルク
社製）のカラムクロマトグラフィーに通し、クロロホル
ムとへキサン（１：１）の混合溶媒で溶出した。目的物
質を含む画分を集めて溶媒を減圧留去すると、油状のＮ
−（２−シアノエチル）−Ｎ−（３−シアノプロピル）
アニリン（５，１’ｌ 、５２．７９６）が得られた。
ＩＲ（フィルム）：３０５０，２９５０，２２５０．１
６００゜１５００．１３６０．１１９５，１１６０゜１
０４０．９９０，７５０．６９５０−１ＮｈＨＬ （Ｃ
ＤＣｌ ３ 、δ）： １．６３〜２．２３ （２８，ｍ） 、 ２．２５〜２
．７７ （４Ｈ，ｍ） 、 ３．３０〜３．＋３７ （
４Ｈ，ｍ）、６．６３〜７．５０（５Ｈ，ｍ）ＭＡＳ
５ ： Ｍ ｍ／ｅ＝ ２１３ ベースビークｍ
／ ｅ＝１７３ 一方水素化リチウムアルミニウム（２，２２５’。
６００゜１５００．１３６０．１１９５，１１６０゜１
０４０．９９０，７５０．６９５０−１ＮｈＨＬ （Ｃ
ＤＣｌ ３ 、δ）： １．６３〜２．２３ （２８，ｍ） 、 ２．２５〜２
．７７ （４Ｈ，ｍ） 、 ３．３０〜３．＋３７ （
４Ｈ，ｍ）、６．６３〜７．５０（５Ｈ，ｍ）ＭＡＳ
５ ： Ｍ ｍ／ｅ＝ ２１３ ベースビークｍ
／ ｅ＝１７３ 一方水素化リチウムアルミニウム（２，２２５’。
ｓｓ、ｓｍモル）の無水ジエチルエーテル（１１５−）
懸濁液に、塩化アルミニウム（７，８（Ｈ’。
懸濁液に、塩化アルミニウム（７，８（Ｈ’。
５９．５ｍモル）の無水ジエチルエーテル（７２，０４
）溶液をす早く添加し、窒素雰囲気下にはげしく攪拌し
ながら、上記で得たＮ−（２−シアノエチル）−Ｎ−（
３−シアノプロピル）アニリン（５，１０ダ、２３．９
ｍそル）の無水ジエチルエーテル（７２，Ｏ，ｎｌ）溶
液を２．５時間かけて添加した。
）溶液をす早く添加し、窒素雰囲気下にはげしく攪拌し
ながら、上記で得たＮ−（２−シアノエチル）−Ｎ−（
３−シアノプロピル）アニリン（５，１０ダ、２３．９
ｍそル）の無水ジエチルエーテル（７２，Ｏ，ｎｌ）溶
液を２．５時間かけて添加した。
そして更に２０時間攪拌した後ｏ℃まで冷却し、３０％
（Ｗ／ｖ）の水酸化カリウム水溶液（５８−）を加え、
エーテル層を傾斜により分離し、残りのエマルジョンは
エーテルにより抽出した。エーテル層と洗浄液を合して
小量の食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムにより乾燥し沖
過後溶媒を減圧留去すると、油状のＮ−フェニルスペル
ミジン（４，８０ｇ、９０．７５１６）が得られた。
（Ｗ／ｖ）の水酸化カリウム水溶液（５８−）を加え、
エーテル層を傾斜により分離し、残りのエマルジョンは
エーテルにより抽出した。エーテル層と洗浄液を合して
小量の食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムにより乾燥し沖
過後溶媒を減圧留去すると、油状のＮ−フェニルスペル
ミジン（４，８０ｇ、９０．７５１６）が得られた。
ＩＲ（フィルム）： ３３５０，２９００，１５９５，
１５００゜１３７０．１１９０，７４５．６９０ＣＩ１
１−’ＮＭＲ（ＣＤ Ｃ１３，δ） １．３０（４）１．ｓ） 、１．１３〜２．０６（４８
、ｍ） 、２．６０〜３．０３（４１１，ｍ）＄３．１
６〜３．６３（４Ｈ，ｍ）、６．４７〜７．４３（５）
１．ｍ） ＦＤ−ＭＡＳＳ ： Ｍ＋１ ｍ／ｅ＝２２２〔
発明の効果〕 この発明の上記スペルミジン誘導体及びその医薬として
許容される塩は、 − −・ ・ 、・ −炎症蜂り治療用として使
用することができる。
１５００゜１３７０．１１９０，７４５．６９０ＣＩ１
１−’ＮＭＲ（ＣＤ Ｃ１３，δ） １．３０（４）１．ｓ） 、１．１３〜２．０６（４８
、ｍ） 、２．６０〜３．０３（４１１，ｍ）＄３．１
６〜３．６３（４Ｈ，ｍ）、６．４７〜７．４３（５）
１．ｍ） ＦＤ−ＭＡＳＳ ： Ｍ＋１ ｍ／ｅ＝２２２〔
発明の効果〕 この発明の上記スペルミジン誘導体及びその医薬として
許容される塩は、 − −・ ・ 、・ −炎症蜂り治療用として使
用することができる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 下記一般式で示されるスペルミジン誘導体又は医薬とし
て許容されるそれらの塩。 ▲数式、化学式、表等があります▼ 但しＲ＾１〜Ｒ＾３は下記（ｉ）〜（ｖ）のいずれかを
満足する基を意味する。 （ｉ）Ｒ＾１及びＲ＾３がアルカノイル基でＲ＾２がア
ラルキル基、 （ｉｉ）Ｒ＾１〜Ｒ＾３がいずれも炭素数３以上のアル
カノイル基、 （ｉｉｉ）Ｒ＾１〜Ｒ＾３のうち少なくとも１つがアル
コキシカルボニル基又はアラルキルオキシカルボニル基
であり、残りの基がアラルキル基、アシル基、水素又は
ω−アルカノイルアミノ−ω′−アラルコキシカルボニ
ルアルカノイル基、 （ｉｖ）Ｒ＾１及びＲ＾３が同一若しくは異なるアルカ
ノイル基で且つＲ＾２が水素、 （ｖ）Ｒ＾１及びＲ＾３が水素であり、Ｒ＾２がアルカ
ノイル基（但し炭素数が３以上）、ベンゾイル基又はア
リール基。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17470584A JPS6153250A (ja) | 1984-08-21 | 1984-08-21 | スペルミジン誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17470584A JPS6153250A (ja) | 1984-08-21 | 1984-08-21 | スペルミジン誘導体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6153250A true JPS6153250A (ja) | 1986-03-17 |
Family
ID=15983216
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17470584A Pending JPS6153250A (ja) | 1984-08-21 | 1984-08-21 | スペルミジン誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6153250A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009007357A (ja) * | 1996-07-22 | 2009-01-15 | F Hoffmann La Roche Ag | 抗腫瘍剤としてのポリアミン配位子を有する新規ビス−プラチナ錯体 |
| JP2013082661A (ja) * | 2011-02-24 | 2013-05-09 | Univ Of Tokyo | プラントアクティベーター |
| WO2014167508A1 (en) * | 2013-04-09 | 2014-10-16 | Giuliani S.P.A. | Cosmetic or pharmaceutical composition for resisting skin ageing through an anti-inflammatory action |
-
1984
- 1984-08-21 JP JP17470584A patent/JPS6153250A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009007357A (ja) * | 1996-07-22 | 2009-01-15 | F Hoffmann La Roche Ag | 抗腫瘍剤としてのポリアミン配位子を有する新規ビス−プラチナ錯体 |
| JP2013082661A (ja) * | 2011-02-24 | 2013-05-09 | Univ Of Tokyo | プラントアクティベーター |
| WO2014167508A1 (en) * | 2013-04-09 | 2014-10-16 | Giuliani S.P.A. | Cosmetic or pharmaceutical composition for resisting skin ageing through an anti-inflammatory action |
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