JPS6149591B2 - - Google Patents
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- JPS6149591B2 JPS6149591B2 JP17719681A JP17719681A JPS6149591B2 JP S6149591 B2 JPS6149591 B2 JP S6149591B2 JP 17719681 A JP17719681 A JP 17719681A JP 17719681 A JP17719681 A JP 17719681A JP S6149591 B2 JPS6149591 B2 JP S6149591B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- valve
- helium
- impurities
- compressor
- Prior art date
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- Expired
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- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 12
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 55
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 31
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 31
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 12
- 238000005057 refrigeration Methods 0.000 description 8
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Landscapes
- Separation By Low-Temperature Treatments (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、装置系内の不純物除去方法に係り、
特にヘリウム冷凍装置等の装置系内に不純物の残
留を好まない装置系内の不純物除去方法に関する
ものである。
特にヘリウム冷凍装置等の装置系内に不純物の残
留を好まない装置系内の不純物除去方法に関する
ものである。
ヘリウム冷凍装置等の装置系内に不純物の残留
を好まない装置では、安定な運転を行うために
は、運転開始前に装置系内から空気、水分等の不
純物を十分に排出する必要がある。
を好まない装置では、安定な運転を行うために
は、運転開始前に装置系内から空気、水分等の不
純物を十分に排出する必要がある。
従来のヘリウム冷凍装置の系内から不純物を排
出し除去する方法には、(1)プロセス用ガスである
ヘリウムガスを装置系内に所定時間連続して流通
させ流通後のヘリウムガスを排出することで系内
から不純物を逐次排出して最終的には系内をヘリ
ウムガスで置換する方法、(2)別の真空排気装置を
用いて系内を真空排気することで系内から不純物
を逐次排出し最終的には系内をヘリウムガスで置
換する方法がある。
出し除去する方法には、(1)プロセス用ガスである
ヘリウムガスを装置系内に所定時間連続して流通
させ流通後のヘリウムガスを排出することで系内
から不純物を逐次排出して最終的には系内をヘリ
ウムガスで置換する方法、(2)別の真空排気装置を
用いて系内を真空排気することで系内から不純物
を逐次排出し最終的には系内をヘリウムガスで置
換する方法がある。
しかし、(1)の方法では、装置系内からの不純物
除去完了までに多量のヘリウムガスを消費しなけ
ればならず、装置系内からの不純物除去に要する
費用が増大するといつた問題がある。また、装置
系内で安全弁等が取付けられている袋小路部分の
ヘリウムガスによる置換が不充分で不純物が残留
し、装置の運転時に該残留した不純物により装置
系内の配管等が閉塞して安定な運転が阻害される
といつた問題もある。また、(2)の方法では、装置
系内に置換用ガスとして供給されるヘリウムガス
は上記(1)の方法に比べて少量で済むが、しかし、
このヘリウムガスは回収されずに装置系外へ排出
される。しかも、別の真空排気装置を用いるた
め、装置系内からの不純物除去に要する費用の増
大を充分に低く抑制するには、いまだ問題があ
る。
除去完了までに多量のヘリウムガスを消費しなけ
ればならず、装置系内からの不純物除去に要する
費用が増大するといつた問題がある。また、装置
系内で安全弁等が取付けられている袋小路部分の
ヘリウムガスによる置換が不充分で不純物が残留
し、装置の運転時に該残留した不純物により装置
系内の配管等が閉塞して安定な運転が阻害される
といつた問題もある。また、(2)の方法では、装置
系内に置換用ガスとして供給されるヘリウムガス
は上記(1)の方法に比べて少量で済むが、しかし、
このヘリウムガスは回収されずに装置系外へ排出
される。しかも、別の真空排気装置を用いるた
め、装置系内からの不純物除去に要する費用の増
大を充分に低く抑制するには、いまだ問題があ
る。
本発明は、上記問題の解決を目的としたもの
で、装置系内のガスを前記装置系内に連通可能な
別の系内に前記装置系を構成する圧縮機で排気す
る工程と、前記別の系内で前記ガスから不純物を
除去する工程と、該不純物を除去されたガスを前
記別の系内から前記装置系内に前記圧縮機で供給
する工程とを有する装置系内の不純物除去方法を
提供するものである。
で、装置系内のガスを前記装置系内に連通可能な
別の系内に前記装置系を構成する圧縮機で排気す
る工程と、前記別の系内で前記ガスから不純物を
除去する工程と、該不純物を除去されたガスを前
記別の系内から前記装置系内に前記圧縮機で供給
する工程とを有する装置系内の不純物除去方法を
提供するものである。
本発明の一実施例をヘリウム冷凍装置を例にと
り図面により説明する。
り図面により説明する。
図面で、圧縮機１０は、スクリユー型圧縮機で
ある。圧縮機１０の吐出側と液体ヘリウム貯槽
（以下、デユワーと略）１１が設けられたコール
ドボツクス１２の入口側は、配管１４で連結され
ている。配管１４には、コールドボツクス入口弁
１３が設けられている。コールドボツクス１２の
出口側と圧縮機１０の吸入側とは、配管１５で連
結されている。コールドボツクス入口弁１３の前
流側で配管１４より配管１７が分岐し、配管１７
は、中圧タンク１９の出口側に連結されている。
配管１７には、調節弁１６が設けられている。中
圧タンク１９の底部には、ブロー弁１８が設けら
れている。調節弁１６の後流側で配管１７より配
管２６が分岐し、配管２６は、中圧タンク１９の
入口側に連結されている。配管２６には、中圧タ
ンク１９の入口側に向つてガス回収弁２０、容積
可変形ガス保持手段（以下、ガスバルーンと略）
２１、回収圧縮機２２、精製器２３、ヘリウムガ
ス供給源２４、ガス供給弁２５が順次設けられて
いる。調節弁１６の後流側で配管２６の分岐箇所
より前流側で配管１７より配管２８が分岐し、配
管２８は、配管１５に合流連結されている。配管
１５には、調節弁２７が設けられている。制御装
置２９には、圧縮機１０、コールドボツクス入口
弁１３、調節弁１６，２７、ガス回収弁２０がそ
れぞれ接続されている。
ある。圧縮機１０の吐出側と液体ヘリウム貯槽
（以下、デユワーと略）１１が設けられたコール
ドボツクス１２の入口側は、配管１４で連結され
ている。配管１４には、コールドボツクス入口弁
１３が設けられている。コールドボツクス１２の
出口側と圧縮機１０の吸入側とは、配管１５で連
結されている。コールドボツクス入口弁１３の前
流側で配管１４より配管１７が分岐し、配管１７
は、中圧タンク１９の出口側に連結されている。
配管１７には、調節弁１６が設けられている。中
圧タンク１９の底部には、ブロー弁１８が設けら
れている。調節弁１６の後流側で配管１７より配
管２６が分岐し、配管２６は、中圧タンク１９の
入口側に連結されている。配管２６には、中圧タ
ンク１９の入口側に向つてガス回収弁２０、容積
可変形ガス保持手段（以下、ガスバルーンと略）
２１、回収圧縮機２２、精製器２３、ヘリウムガ
ス供給源２４、ガス供給弁２５が順次設けられて
いる。調節弁１６の後流側で配管２６の分岐箇所
より前流側で配管１７より配管２８が分岐し、配
管２８は、配管１５に合流連結されている。配管
１５には、調節弁２７が設けられている。制御装
置２９には、圧縮機１０、コールドボツクス入口
弁１３、調節弁１６，２７、ガス回収弁２０がそ
れぞれ接続されている。
図面で、初めに制御装置２９により圧縮機１０
を起動し、コールドボツクス入口弁１３、ガス回
収弁２０、調節弁２７を閉弁し調節弁１６を開弁
する。この状態で、コールドボツクス１２、配管
１５，２８内に当初滞留しているガスは、圧縮機
１０で排気され、該ガスは、配管１４，１７、調
節弁１６を介して中圧タンク１９に一旦貯蔵され
る。該排気によりコールドボツクス１２、配管１
５，２８内の圧力が、例えば、−76cmHg近くにな
つた時点で、制御装置２９により圧縮機１０の運
転を停止し、調節弁１６を開弁し、ガス回収弁２
０を開弁する。この状態で、中圧タンク１９に一
旦貯蔵されたガスのヘリウム濃度が高い場合に
は、該ガスを中圧タンク１９から配管２６、ガス
回収弁２０を介してガスバルーン２１に供給し、
その後、回収圧縮機２２で昇圧して精製器２３に
供給する。ガスに含有された不純物は、精製器２
３で除去され、ヘリウムガスのみがヘリウムガス
供給源２４に回収される。逆に、中圧タンク１９
に一旦貯蔵されたガスの不純物の濃度が高い場合
には、該ガスは、ブロー弁１８を開弁することで
大気へ放出される。中圧タンク１９に一旦貯蔵さ
れたガスの精製回収が完了した時点で、制御装置
２９によりガス回収弁２０を閉弁し、コールドボ
ツクス入口弁１３、調節弁１６，２７、ガス供給
弁２５を開弁する。この状態で、ヘリウムガス供
給源２４から置換用ガスでプロセスガスでもある
ヘリウムガスが、配管２６、ガス供給弁２５、中
圧タンク１９、配管１７、調節弁１６、配管１
４、コールドボツクス入口弁１３を経て真空排気
されたコールドボツクス１２内がほぼ大気圧にな
るまで供給される。また、これと共に、真空排気
された配管１５，２８内にもそれぞれコールドボ
ツクス１２、調節弁２７を経てヘリウムガスが同
様に供給される。その後、制御装置２９により圧
縮機１０を再び起動し、コールドボツクス入口弁
１３、ガス回収弁２０、調節弁２７を再び閉弁
し、調節弁１６を再び開弁する。これにより、コ
ールドボツクス１２、配管１５，２８内に供給さ
れているヘリウムガスは圧縮機１０で排気され
る。該排気された不純物を含むヘリウムガスは、
中圧タンク１９に一旦貯蔵された後に上記と同様
にして精製器２３に供給され、ここで、不純物は
除去される。その後、精製器２３からはヘリウム
ガスのみがヘリウムガス供給源２４に回収され、
再び置換用ガスとして利用される。このような操
作を繰り返して実施することで、ヘリウム冷凍装
置の系内から不純物が充分に除去される。
を起動し、コールドボツクス入口弁１３、ガス回
収弁２０、調節弁２７を閉弁し調節弁１６を開弁
する。この状態で、コールドボツクス１２、配管
１５，２８内に当初滞留しているガスは、圧縮機
１０で排気され、該ガスは、配管１４，１７、調
節弁１６を介して中圧タンク１９に一旦貯蔵され
る。該排気によりコールドボツクス１２、配管１
５，２８内の圧力が、例えば、−76cmHg近くにな
つた時点で、制御装置２９により圧縮機１０の運
転を停止し、調節弁１６を開弁し、ガス回収弁２
０を開弁する。この状態で、中圧タンク１９に一
旦貯蔵されたガスのヘリウム濃度が高い場合に
は、該ガスを中圧タンク１９から配管２６、ガス
回収弁２０を介してガスバルーン２１に供給し、
その後、回収圧縮機２２で昇圧して精製器２３に
供給する。ガスに含有された不純物は、精製器２
３で除去され、ヘリウムガスのみがヘリウムガス
供給源２４に回収される。逆に、中圧タンク１９
に一旦貯蔵されたガスの不純物の濃度が高い場合
には、該ガスは、ブロー弁１８を開弁することで
大気へ放出される。中圧タンク１９に一旦貯蔵さ
れたガスの精製回収が完了した時点で、制御装置
２９によりガス回収弁２０を閉弁し、コールドボ
ツクス入口弁１３、調節弁１６，２７、ガス供給
弁２５を開弁する。この状態で、ヘリウムガス供
給源２４から置換用ガスでプロセスガスでもある
ヘリウムガスが、配管２６、ガス供給弁２５、中
圧タンク１９、配管１７、調節弁１６、配管１
４、コールドボツクス入口弁１３を経て真空排気
されたコールドボツクス１２内がほぼ大気圧にな
るまで供給される。また、これと共に、真空排気
された配管１５，２８内にもそれぞれコールドボ
ツクス１２、調節弁２７を経てヘリウムガスが同
様に供給される。その後、制御装置２９により圧
縮機１０を再び起動し、コールドボツクス入口弁
１３、ガス回収弁２０、調節弁２７を再び閉弁
し、調節弁１６を再び開弁する。これにより、コ
ールドボツクス１２、配管１５，２８内に供給さ
れているヘリウムガスは圧縮機１０で排気され
る。該排気された不純物を含むヘリウムガスは、
中圧タンク１９に一旦貯蔵された後に上記と同様
にして精製器２３に供給され、ここで、不純物は
除去される。その後、精製器２３からはヘリウム
ガスのみがヘリウムガス供給源２４に回収され、
再び置換用ガスとして利用される。このような操
作を繰り返して実施することで、ヘリウム冷凍装
置の系内から不純物が充分に除去される。
本実施例では、ヘリウム冷凍装置の系内の不純
物を除去するのに、置換用ガスであるヘリウムガ
スを排出、消費することなしに精製して再利用す
るようにしているため、ヘリウム冷凍装置の系内
からの不純物の除去を安価に行うことができる。
また、ヘリウム冷凍装置内の系内を真空排気して
置換用ガスであるヘリウムを系内に供給するた
め、系内の袋小路部分での不純物の残留を防止で
き系内の配管等が閉塞することなく安全な運転を
行うことができる。
物を除去するのに、置換用ガスであるヘリウムガ
スを排出、消費することなしに精製して再利用す
るようにしているため、ヘリウム冷凍装置の系内
からの不純物の除去を安価に行うことができる。
また、ヘリウム冷凍装置内の系内を真空排気して
置換用ガスであるヘリウムを系内に供給するた
め、系内の袋小路部分での不純物の残留を防止で
き系内の配管等が閉塞することなく安全な運転を
行うことができる。
本発明は、以上説明したように、装置系内から
不純物を除去するのに、置換用ガスを排出、消費
することなしに精製して再利用するようにしてい
るので、装置系内からの不純物の除去を安価に行
うことができるという効果がある。
不純物を除去するのに、置換用ガスを排出、消費
することなしに精製して再利用するようにしてい
るので、装置系内からの不純物の除去を安価に行
うことができるという効果がある。
図面は、本発明の一実施例を示すもので、本発
明を実施したヘリウム冷凍装置のフローシートで
ある。 １０…圧縮機、１２…コールドボツクス、１３
…コールドボツクス入口弁、１４，１５，１７，
２６，２８…配管、１６，２７…調節弁、１８…
ブロー弁、１９…中圧タンク、２０…ガス回収
弁、２１…ガスバルーン、２２…回収圧縮機、２
３…精製器、２４…ヘリウムガス供給源、２５…
ガス供給弁、２９…制御装置。
明を実施したヘリウム冷凍装置のフローシートで
ある。 １０…圧縮機、１２…コールドボツクス、１３
…コールドボツクス入口弁、１４，１５，１７，
２６，２８…配管、１６，２７…調節弁、１８…
ブロー弁、１９…中圧タンク、２０…ガス回収
弁、２１…ガスバルーン、２２…回収圧縮機、２
３…精製器、２４…ヘリウムガス供給源、２５…
ガス供給弁、２９…制御装置。
Claims (1)
- １ 装置系内のガスを前記装置系内に連通可能な
別の系内に前記装置系を構成する圧縮機で排気す
る工程と、前記別の系内で前記ガスから不純物を
除去する工程と、該不純物を除去されたガスを前
記別の系内から前記装置系内に前記圧縮機で供給
する工程とを有することを特徴とする装置系内の
不純物除去方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17719681A JPS5880470A (ja) | 1981-11-06 | 1981-11-06 | 装置系内の不純物除去方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17719681A JPS5880470A (ja) | 1981-11-06 | 1981-11-06 | 装置系内の不純物除去方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5880470A JPS5880470A (ja) | 1983-05-14 |
| JPS6149591B2 true JPS6149591B2 (ja) | 1986-10-30 |
Family
ID=16026853
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17719681A Granted JPS5880470A (ja) | 1981-11-06 | 1981-11-06 | 装置系内の不純物除去方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5880470A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63136494U (ja) * | 1987-02-27 | 1988-09-07 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0721358B2 (ja) * | 1987-01-30 | 1995-03-08 | 株式会社日立製作所 | 極低温液化冷凍装置 |
-
1981
- 1981-11-06 JP JP17719681A patent/JPS5880470A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63136494U (ja) * | 1987-02-27 | 1988-09-07 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5880470A (ja) | 1983-05-14 |
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