JPS6145603B2 - - Google Patents
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- JPS6145603B2 JPS6145603B2 JP381178A JP381178A JPS6145603B2 JP S6145603 B2 JPS6145603 B2 JP S6145603B2 JP 381178 A JP381178 A JP 381178A JP 381178 A JP381178 A JP 381178A JP S6145603 B2 JPS6145603 B2 JP S6145603B2
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Description
この発明は優れたフケ取り効果を有するヘアリ
ンス剤組成物(以下、ヘアリンス剤と略称)に関
する。 ヘアリンス剤の基本的な性能は、シヤンプー後
の毛髪に柔軟性やすぐれた仕上り感を与えること
にあるが、最近ではこの基本的性能に加えてフケ
取り効果を有するものが望まれており、実際に、
その効能を唱つたヘアリンス剤が市場に登場する
ようになつた。 代表例を挙げると、2−ピリジンチオール−1
−オキサイドの亜鉛化合物(ジンクピリチオン)
など、水に不溶な抗菌性物質を配合したヘアリン
ス剤がそれである。しかし、この種の「フケ取
り」ヘアリンス剤は、リンス後のすすぎ洗いによ
つて、毛髪から大部分の抗菌性物質が洗い流され
てしまうため、フケ取り効果の持続性に乏しく、
結局、経済的に無駄が多い欠点を抱えている。 この発明者らは上記の欠点を解消するヘアリン
ス剤の開発研究に努力を重ねた結果、第4級塩型
カチオン界面活性剤と、水に難溶な抗菌性物質
と、特定のC17〜20炭化水素と、さらに好ましく
は特定の含窒素水溶性高分子との組み合せによつ
て、基本的性能を少しも損なうことなく洗浄後の
残留性にすぐれたフケ取りヘアリンス剤を開発す
ることができた。 以下、配合成分の詳細につき説明する。必須配
合成分の一つである第4級塩型カチオン界面活性
剤は、ヘアリンス剤の基本的性能を確保するため
に不可欠であると同時に、後述する他の配合成分
の相溶性を向上させるうえでも欠かせないもので
あり、一般のヘアリンス剤の製造分野で配合され
るものなら、全て使用可能である。 主な例を挙げると、炭素数8〜22のアルキル基
を有するジアルキルジメチルアンモニウム塩、ア
ルキルジメチルベンジルアンモニウム塩、アルキ
ルトリメチルアンモニウム塩、などがあり、さら
にアルキルアミノエタノールなど、ヒドロキシル
基を有する第4級塩型カチオン界面活性剤も使用
できる。 第4級塩型カチオン界面活性剤の配合量は、ヘ
アリンス剤中に占める割合で少くとも0.3重量%
必要であり、それ未満では毛髪に対する柔軟効果
が得られない。上限は臨界的ではないが10重量%
程度に抑えることが好ましい。 つぎに、第2の必須配合成分である抗菌性物質
としては、水に難溶(不溶み当然この概念に含め
る)で抗菌力を有するものでなければならず、主
な例を挙げると、ジンクピリチオンのほかに、ヘ
キサクロロフエン、硫化セレン、イオウコロイド
などがある。 ここに挙げた抗菌性物質を、前述の第4級塩型
カチオン界面活性剤と組み合せて使用すること
は、先述したごとくヘアリンス剤の分野で公知で
あるが、しかしこの2成分のみの組み合せによる
ときは、温水ですすいだとき、毛髪から抗菌性物
質の大部分が洗い流されてしまう。 ところがこの発明者らの研究によれば、前記2
成分をC17〜70炭化水素および含窒素水溶性高分
子と併用したとき、抗菌性物質の残留性が確実に
向上することが明らかになつた。 すなわちこの発明において第3の必須配合成分
となるものは、たとえばパラフインやワセリンな
どの、分子全体が疎水性の部分から構成されてい
て、疎水性の非常に大きな物質である。この発明
ではこのパラフインやワセリンに限らず、マイク
ロクリスタリンワツクス、セレシン、スクワラ
ン、α−オレフインオリゴマーなど、平均炭素数
が17〜70のものでなれば、そのうちから任意に選
択して一種または二種以上を使用することがで
き、その配合量は少なくとも0.5重量%、好まし
い配合量を1〜5重量%とする。また第4の必須
配合成分である含窒素水溶性高分子は、具体的に
はポリビニルピロリドン、酢酸ビニル−ビニルピ
ロリドン共重合体、カチオン化ヒドロキシエチル
セルロース、カチオン化ビニルピロリドン樹脂、
カチオン化アクリル樹脂などを挙げることがで
き、窒素含有量が1.5〜14%のものを使用するの
が好ましい。 その配合量は0.1重量%以上、好ましくは0.5〜
3重量%の範囲に収めることが必要で、毛髪や頭
皮表面との接着性、粘着性を考慮に入れると、分
子量(浸透法)は少なくとも10万、上限は50万程
度に抑えることが望ましい。 その機構については詳らかでないが、リンス時
における毛髪および頭皮表面は、抗菌性物質が電
気的もしくは力学的に付着し、さらにこの表面は
C17〜70炭化水素で被覆され、この油性物質が水
をはじくために、温水によるすすぎ洗いでも、毛
髪からの抗菌性物質の流失が抑制されるものと考
えられる。 さらに、含窒素水溶性高分子は毛髪や頭皮表面
に対して親和性があり、結果的にそれらの表面を
改質するために、C17〜70炭化水素で覆われた抗
菌性物質は毛髪、頭皮表面との付着性が向上し、
その結果、すすぎ洗時の残留性が目立つて向上す
るものと推定される。さらにこの作用効果は、カ
チオン界面活性剤がC17〜70炭化水素と含窒素水
溶性高分子との相溶性を向上させる。という事実
にも関係があるように思われる。 なお、この発明では必須配合成分のほかに任意
もしくは常用成分として、エタノール、エチレン
グリコール、プロピレングリコール等の溶剤、乳
化剤、香料、色素等の特徴付与成分、クエン酸、
酒石酸等のPH調整剤を通常0.1〜40重量%の範囲
で適宜に添加使用することができる。ただし食塩
のような強電解質を多量に添加することは、避け
ることが望ましい。 以上説明したように、この発明のヘアリンス剤
は基本的性能を損なうことなく抗菌性物質の残留
性が著しく改善されているため、従来と違つてフ
ケ取り効果が持続的に発揮され、フケ取りヘアリ
ンス剤として高い商品価値を有するものである。 さらに、この発明の効果を実施例に基づいて具
体的に説明する。 その前に実施例で採用した試験法の概要を説明
すると、 Γ抗菌性物質の残留量の測定 表面積200cm2のセーム皮に40℃の水50gを含ま
せたのち、シヤンプー3gを用いて3分間マツサ
ージを行ない、水ですすぐ。つづいて、5gのヘ
アリンス剤を用いて3分間リンス処理を行ない、
40℃の水で1分間すすいだのち、風乾する。次い
でセーム皮に残留するジンクピリチオンを水酸化
ナトリウムの添加によつて水溶性ナトリウム化合
物として抽出し、282mμの紫外線吸光度によつ
て測定する。
ンス剤組成物(以下、ヘアリンス剤と略称)に関
する。 ヘアリンス剤の基本的な性能は、シヤンプー後
の毛髪に柔軟性やすぐれた仕上り感を与えること
にあるが、最近ではこの基本的性能に加えてフケ
取り効果を有するものが望まれており、実際に、
その効能を唱つたヘアリンス剤が市場に登場する
ようになつた。 代表例を挙げると、2−ピリジンチオール−1
−オキサイドの亜鉛化合物(ジンクピリチオン)
など、水に不溶な抗菌性物質を配合したヘアリン
ス剤がそれである。しかし、この種の「フケ取
り」ヘアリンス剤は、リンス後のすすぎ洗いによ
つて、毛髪から大部分の抗菌性物質が洗い流され
てしまうため、フケ取り効果の持続性に乏しく、
結局、経済的に無駄が多い欠点を抱えている。 この発明者らは上記の欠点を解消するヘアリン
ス剤の開発研究に努力を重ねた結果、第4級塩型
カチオン界面活性剤と、水に難溶な抗菌性物質
と、特定のC17〜20炭化水素と、さらに好ましく
は特定の含窒素水溶性高分子との組み合せによつ
て、基本的性能を少しも損なうことなく洗浄後の
残留性にすぐれたフケ取りヘアリンス剤を開発す
ることができた。 以下、配合成分の詳細につき説明する。必須配
合成分の一つである第4級塩型カチオン界面活性
剤は、ヘアリンス剤の基本的性能を確保するため
に不可欠であると同時に、後述する他の配合成分
の相溶性を向上させるうえでも欠かせないもので
あり、一般のヘアリンス剤の製造分野で配合され
るものなら、全て使用可能である。 主な例を挙げると、炭素数8〜22のアルキル基
を有するジアルキルジメチルアンモニウム塩、ア
ルキルジメチルベンジルアンモニウム塩、アルキ
ルトリメチルアンモニウム塩、などがあり、さら
にアルキルアミノエタノールなど、ヒドロキシル
基を有する第4級塩型カチオン界面活性剤も使用
できる。 第4級塩型カチオン界面活性剤の配合量は、ヘ
アリンス剤中に占める割合で少くとも0.3重量%
必要であり、それ未満では毛髪に対する柔軟効果
が得られない。上限は臨界的ではないが10重量%
程度に抑えることが好ましい。 つぎに、第2の必須配合成分である抗菌性物質
としては、水に難溶(不溶み当然この概念に含め
る)で抗菌力を有するものでなければならず、主
な例を挙げると、ジンクピリチオンのほかに、ヘ
キサクロロフエン、硫化セレン、イオウコロイド
などがある。 ここに挙げた抗菌性物質を、前述の第4級塩型
カチオン界面活性剤と組み合せて使用すること
は、先述したごとくヘアリンス剤の分野で公知で
あるが、しかしこの2成分のみの組み合せによる
ときは、温水ですすいだとき、毛髪から抗菌性物
質の大部分が洗い流されてしまう。 ところがこの発明者らの研究によれば、前記2
成分をC17〜70炭化水素および含窒素水溶性高分
子と併用したとき、抗菌性物質の残留性が確実に
向上することが明らかになつた。 すなわちこの発明において第3の必須配合成分
となるものは、たとえばパラフインやワセリンな
どの、分子全体が疎水性の部分から構成されてい
て、疎水性の非常に大きな物質である。この発明
ではこのパラフインやワセリンに限らず、マイク
ロクリスタリンワツクス、セレシン、スクワラ
ン、α−オレフインオリゴマーなど、平均炭素数
が17〜70のものでなれば、そのうちから任意に選
択して一種または二種以上を使用することがで
き、その配合量は少なくとも0.5重量%、好まし
い配合量を1〜5重量%とする。また第4の必須
配合成分である含窒素水溶性高分子は、具体的に
はポリビニルピロリドン、酢酸ビニル−ビニルピ
ロリドン共重合体、カチオン化ヒドロキシエチル
セルロース、カチオン化ビニルピロリドン樹脂、
カチオン化アクリル樹脂などを挙げることがで
き、窒素含有量が1.5〜14%のものを使用するの
が好ましい。 その配合量は0.1重量%以上、好ましくは0.5〜
3重量%の範囲に収めることが必要で、毛髪や頭
皮表面との接着性、粘着性を考慮に入れると、分
子量(浸透法)は少なくとも10万、上限は50万程
度に抑えることが望ましい。 その機構については詳らかでないが、リンス時
における毛髪および頭皮表面は、抗菌性物質が電
気的もしくは力学的に付着し、さらにこの表面は
C17〜70炭化水素で被覆され、この油性物質が水
をはじくために、温水によるすすぎ洗いでも、毛
髪からの抗菌性物質の流失が抑制されるものと考
えられる。 さらに、含窒素水溶性高分子は毛髪や頭皮表面
に対して親和性があり、結果的にそれらの表面を
改質するために、C17〜70炭化水素で覆われた抗
菌性物質は毛髪、頭皮表面との付着性が向上し、
その結果、すすぎ洗時の残留性が目立つて向上す
るものと推定される。さらにこの作用効果は、カ
チオン界面活性剤がC17〜70炭化水素と含窒素水
溶性高分子との相溶性を向上させる。という事実
にも関係があるように思われる。 なお、この発明では必須配合成分のほかに任意
もしくは常用成分として、エタノール、エチレン
グリコール、プロピレングリコール等の溶剤、乳
化剤、香料、色素等の特徴付与成分、クエン酸、
酒石酸等のPH調整剤を通常0.1〜40重量%の範囲
で適宜に添加使用することができる。ただし食塩
のような強電解質を多量に添加することは、避け
ることが望ましい。 以上説明したように、この発明のヘアリンス剤
は基本的性能を損なうことなく抗菌性物質の残留
性が著しく改善されているため、従来と違つてフ
ケ取り効果が持続的に発揮され、フケ取りヘアリ
ンス剤として高い商品価値を有するものである。 さらに、この発明の効果を実施例に基づいて具
体的に説明する。 その前に実施例で採用した試験法の概要を説明
すると、 Γ抗菌性物質の残留量の測定 表面積200cm2のセーム皮に40℃の水50gを含ま
せたのち、シヤンプー3gを用いて3分間マツサ
ージを行ない、水ですすぐ。つづいて、5gのヘ
アリンス剤を用いて3分間リンス処理を行ない、
40℃の水で1分間すすいだのち、風乾する。次い
でセーム皮に残留するジンクピリチオンを水酸化
ナトリウムの添加によつて水溶性ナトリウム化合
物として抽出し、282mμの紫外線吸光度によつ
て測定する。
【表】
【表】
【表】
表は、水に不溶な抗菌性物質(ジンクピリチオ
ン)を含有するヘアリンス剤を調製し、他の配合
成分が抗菌性物質の残留性に及ぼす影響、とくに
疎水性油性物質と含窒素水溶性高分子の配合によ
る影響を調査した結果を示すものである。 実験No.2〜13は、いづれも、C17-70炭化水素
と含窒素水溶性高分子の両方を実験No.22〜29に
比べ、抗菌性物質の残留性が劣ることがわかる。 一方、疎水性油性物質を配合しないで含窒素水
溶液高分子を配合した場合の影響をみるのが実験
No.14〜21である。いづれもC17-70炭化水素と含
窒素水溶性高分子の両方を含む実験No.22〜29に
比べ、抗菌性物質の残留性が劣ることがわかる。 つぎに、実験No.22〜29はC17-70炭化水素と発
明の条件を満足する含窒素水溶性高分子を含むも
のばかりであり、抗菌性物質の残留性が格段に向
上している。 なお、C17-70炭化水素と含窒素水溶性高分子の
両者を配合しても、窒素含量がこの発明の条件を
満足しないと、実験No.30〜31にみるように、抗
菌性物質の残留性は低くなる。 以上で、この発明の条件を満足する実験No.の
ヘアリンス剤が抗菌性物質の残留性にすぐれてい
ることが明らかであり、これは表示の例に限ら
ず、この発明の要旨を満足する限りにおいて、同
様の傾向を示すことが確認されている。
ン)を含有するヘアリンス剤を調製し、他の配合
成分が抗菌性物質の残留性に及ぼす影響、とくに
疎水性油性物質と含窒素水溶性高分子の配合によ
る影響を調査した結果を示すものである。 実験No.2〜13は、いづれも、C17-70炭化水素
と含窒素水溶性高分子の両方を実験No.22〜29に
比べ、抗菌性物質の残留性が劣ることがわかる。 一方、疎水性油性物質を配合しないで含窒素水
溶液高分子を配合した場合の影響をみるのが実験
No.14〜21である。いづれもC17-70炭化水素と含
窒素水溶性高分子の両方を含む実験No.22〜29に
比べ、抗菌性物質の残留性が劣ることがわかる。 つぎに、実験No.22〜29はC17-70炭化水素と発
明の条件を満足する含窒素水溶性高分子を含むも
のばかりであり、抗菌性物質の残留性が格段に向
上している。 なお、C17-70炭化水素と含窒素水溶性高分子の
両者を配合しても、窒素含量がこの発明の条件を
満足しないと、実験No.30〜31にみるように、抗
菌性物質の残留性は低くなる。 以上で、この発明の条件を満足する実験No.の
ヘアリンス剤が抗菌性物質の残留性にすぐれてい
ることが明らかであり、これは表示の例に限ら
ず、この発明の要旨を満足する限りにおいて、同
様の傾向を示すことが確認されている。
Claims (1)
- 1 第4級塩型カチオン界面活性剤0.3重量%以
上と、水に難溶な抗菌性物質0.1重量%以上と、
C17-70炭化水素0.5重量%以上と、分子量(浸透
法)10万以上の含窒素水溶性高分子0.1重量%以
上とを、必須成分として含有することを特徴とす
るヘアリンス剤組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP381178A JPS5498343A (en) | 1978-01-18 | 1978-01-18 | Hair rinse composition |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP381178A JPS5498343A (en) | 1978-01-18 | 1978-01-18 | Hair rinse composition |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5498343A JPS5498343A (en) | 1979-08-03 |
JPS6145603B2 true JPS6145603B2 (ja) | 1986-10-08 |
Family
ID=11567566
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP381178A Granted JPS5498343A (en) | 1978-01-18 | 1978-01-18 | Hair rinse composition |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5498343A (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS56128708A (en) * | 1980-03-04 | 1981-10-08 | Curtis Helene Ind Inc | Cream rinse composition |
JPS57200308A (en) * | 1981-06-03 | 1982-12-08 | Lion Corp | Hair cosmetic |
JPS5865210A (ja) * | 1981-09-14 | 1983-04-18 | アムウエイ・コ−ポレイシヨン | ふけ防止クリ−ムリンスコンデイシヨナ− |
US4557928A (en) * | 1982-07-06 | 1985-12-10 | Amway Corporation | Anti-dandruff cream rinse conditioner |
JPS59108707A (ja) * | 1982-12-14 | 1984-06-23 | Lion Corp | 化粧料 |
KR970032810A (ko) * | 1995-12-26 | 1997-07-22 | 김준웅 | 샴프 조성물 |
KR100807842B1 (ko) | 2005-11-22 | 2008-02-27 | 김대식 | 냄새 제거용 항균성 조성물 |
-
1978
- 1978-01-18 JP JP381178A patent/JPS5498343A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5498343A (en) | 1979-08-03 |
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