JPS6143169A - ２−クロロベンズイミダゾ−ル誘導体の製造法 - Google Patents
２−クロロベンズイミダゾ−ル誘導体の製造法Info
- Publication number
- JPS6143169A JPS6143169A JP16534084A JP16534084A JPS6143169A JP S6143169 A JPS6143169 A JP S6143169A JP 16534084 A JP16534084 A JP 16534084A JP 16534084 A JP16534084 A JP 16534084A JP S6143169 A JPS6143169 A JP S6143169A
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- Japan
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- formula
- compound
- ethoxyethyl
- compound shown
- chlorobenzimidazole
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
１−業−ヒの千１用）野
本発明は、医薬品製造における中間原料の新規製造法に
関する。
関する。
特開昭５８−７９９８３号公報には、抗ヒスタミン剤と
して有用なペンズイミタゾール誘導体（ｍ）および下式
で示される製造法が開示されている。
して有用なペンズイミタゾール誘導体（ｍ）および下式
で示される製造法が開示されている。
（式中、Ｒは低級アルキル基、低級アルケニル基、低級
アルキニル基またはアリール基を表わし、Ｒ′は水素原
子または低級アルキル基を表わす、ｎは２または３であ
る。） 本″発明１ま１・記ベンズイミダゾ−１し誘導体（ｍ）
の製造原料であソ２−クロロベンズイミダゾール誘導体
（工′）の新規製造法に関する。
アルキニル基またはアリール基を表わし、Ｒ′は水素原
子または低級アルキル基を表わす、ｎは２または３であ
る。） 本″発明１ま１・記ベンズイミダゾ−１し誘導体（ｍ）
の製造原料であソ２−クロロベンズイミダゾール誘導体
（工′）の新規製造法に関する。
従１Ｊと１會
前記特゛許公報には、２−クロロベンズイミダゾール誘
導体（Ｉ）の下式で示される製造法が開示されている。
導体（Ｉ）の下式で示される製造法が開示されている。
Ｘ −ＣＨ２ＣＨ２−０−Ｒ
（式中、Ｒは前記に同じ、ＸはｌＸロゲン原子を表わす
、） が − す 。 屯従来法に比し、
工業的に一層有利な２−クロロベンズイミダゾール誘導
体（Ｉ）の新規製造法を見い出すべく種々検討を加えた
。
、） が − す 。 屯従来法に比し、
工業的に一層有利な２−クロロベンズイミダゾール誘導
体（Ｉ）の新規製造法を見い出すべく種々検討を加えた
。
。 壱 ための
本発明者らは、上記の観点に立って種々検討した結果、
下式（Ｖｌ） ＣＨ２（Ｈ２−０−Ｒ （式中、Ｒは前記に同じ、） で示される化合物をオキシ塩化リンでクロル化すること
によって、極めて容易に２−クロロベンズイミダゾール
誘導体ＣＩ）が高収率で得られることを見い出し本発明
を完成した。
下式（Ｖｌ） ＣＨ２（Ｈ２−０−Ｒ （式中、Ｒは前記に同じ、） で示される化合物をオキシ塩化リンでクロル化すること
によって、極めて容易に２−クロロベンズイミダゾール
誘導体ＣＩ）が高収率で得られることを見い出し本発明
を完成した。
即ち、化合物（９１）と、化合物（■）に対して通常３
〜４倍当量のオキシ塩化リンを１〜７時間還流させる。
〜４倍当量のオキシ塩化リンを１〜７時間還流させる。
放冷後、例えば反応混合物を氷水中に注ぎ、攪拌した後
カセイソーダ溶液を加え、酢酸エチル等で抽出する。有
機層をカセイソーダ溶液、Ｍｉ、和食重水で順次洗浄し
、乾燥後減圧下に溶媒を留去することによって、蒸留等
の面倒な精製操作を施すことなしに、前記次製造工程に
使用でキル２−クロロベンズイミダゾール誘導体（Ｉ）
を製造することができる。
カセイソーダ溶液を加え、酢酸エチル等で抽出する。有
機層をカセイソーダ溶液、Ｍｉ、和食重水で順次洗浄し
、乾燥後減圧下に溶媒を留去することによって、蒸留等
の面倒な精製操作を施すことなしに、前記次製造工程に
使用でキル２−クロロベンズイミダゾール誘導体（Ｉ）
を製造することができる。
Ｆ記製造法において出発原料として用いられる化合物（
Ｖｌ）は文献未記載の新規化合物であり、例えば下式の
方法によって、容易に製造することができる。
Ｖｌ）は文献未記載の新規化合物であり、例えば下式の
方法によって、容易に製造することができる。
（Ｘｌ （Ｖｌ）（式中、Ｒ
は前記に同じ、ｘ′は臭素原子または塩素原子を表わす
、） 即ち、まず化合物（■）と、化合物（■）に対１、て通
常２〜３倍当量の化−合物（Ｗ）とを無溶媒で、１００
〜２００℃で攪拌することによって化合物（ＩＸ）を得
る。この反応は溶媒中で行うこともできるが、その場合
溶媒としては、トルエン、キシレン、ｎ−プロパツール
、ｎ−ブタノール、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミドなど
が用いられる。次に、化合物（ＩＸ）を、亜鉛−カセイ
ソーダ、塩化第１スズ−塩酸、あるいはパラジウム−炭
素を触媒とする接触水素添加などの方法により還元して
化合物（りを得る０次いで化合物（Ｘ）と、化合物（Ｘ
）に対して通常１〜３倍当量の尿素とを無溶媒で、加熱
攪拌することによって、化合物（ＶＩ）を得る。
は前記に同じ、ｘ′は臭素原子または塩素原子を表わす
、） 即ち、まず化合物（■）と、化合物（■）に対１、て通
常２〜３倍当量の化−合物（Ｗ）とを無溶媒で、１００
〜２００℃で攪拌することによって化合物（ＩＸ）を得
る。この反応は溶媒中で行うこともできるが、その場合
溶媒としては、トルエン、キシレン、ｎ−プロパツール
、ｎ−ブタノール、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミドなど
が用いられる。次に、化合物（ＩＸ）を、亜鉛−カセイ
ソーダ、塩化第１スズ−塩酸、あるいはパラジウム−炭
素を触媒とする接触水素添加などの方法により還元して
化合物（りを得る０次いで化合物（Ｘ）と、化合物（Ｘ
）に対して通常１〜３倍当量の尿素とを無溶媒で、加熱
攪拌することによって、化合物（ＶＩ）を得る。
え１立差】
本発明により、抗ヒスタミン剤として有用なベンズイミ
ダゾール誘導体（ｍ）の製造原料である２−クロロベン
ズイミダゾール誘導体（Ｉ）が、従末法に比してＴ業的
に一層有利に製造することができる。
ダゾール誘導体（ｍ）の製造原料である２−クロロベン
ズイミダゾール誘導体（Ｉ）が、従末法に比してＴ業的
に一層有利に製造することができる。
実」１例
次に、参考例および実施例を挙げて、本発明をさらに具
体的に説明する。
体的に説明する。
参考例
（１） Ｎ−（２−エトキシエチル）−ｏ−ニトロアニ
リンの製造： ０−ニトロクロルベンゼン３３ｇと２−エトキシエチル
アミン５１ｇとを１３０℃で３時間攪拌する。放冷後、
反応混合物に酢酸エチル１５０−を加え、飽和食塩水で
３回洗浄する。酢酸エチル層を無水硫酸マグネシウムで
乾燥後減圧下に溶媒を留去して、Ｎ−（２−エトキシエ
チル）−〇−二トロアニリン４２．９ｇを得る（収率９
７％） 。
リンの製造： ０−ニトロクロルベンゼン３３ｇと２−エトキシエチル
アミン５１ｇとを１３０℃で３時間攪拌する。放冷後、
反応混合物に酢酸エチル１５０−を加え、飽和食塩水で
３回洗浄する。酢酸エチル層を無水硫酸マグネシウムで
乾燥後減圧下に溶媒を留去して、Ｎ−（２−エトキシエ
チル）−〇−二トロアニリン４２．９ｇを得る（収率９
７％） 。
沸点：１４４．０〜１４５．５℃／１．０■■ｎｇＮＮ
Ｒ（ＣＯＧｈ 、δｐｐ層） ： １２５（ｔ、３Ｍ）
、３．３〜３．８（ｅＨ）、ｅ、ａ〜ｌ（，９（２Ｂ）
、７．２〜７．５（ＩＨ）、８．０１１１（ｄｄ。
Ｒ（ＣＯＧｈ 、δｐｐ層） ： １２５（ｔ、３Ｍ）
、３．３〜３．８（ｅＨ）、ｅ、ａ〜ｌ（，９（２Ｂ）
、７．２〜７．５（ＩＨ）、８．０１１１（ｄｄ。
１）１ ）、８．１５（ｂｓ、ＩＨ）。
（２） Ｎ−（２−エトキシエチル）−〇−フェニレン
ジアミンの製造： （１）の如くして得られるＮ−（２−エトキシエチル）
−０−ニー ） １：Ｉ ７＝ ’） ７４２．９ｇ
ヲエタ／−ルｌＯＯ＠Ｑに溶かし、 ２．５Ｎカセイソ
ーダ溶液３ｏＩＩＬＱを加えて、穏やかにＭ流させなが
ら、亜鉛末５２ｇを少しずつ１５分間で加える。その後
２時間還流した後５反応混合物を熱時ろ過する。ろ液を
濃縮し、残液に酢酸エチル１５０−を加える。酢酸エチ
ル層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾
燥後減圧下に溶媒を留去して、Ｎ−（２−エトキシエチ
ル）−〇−フェニレンジアミン３６．５ｇを得る（収率
９９駕）。
ジアミンの製造： （１）の如くして得られるＮ−（２−エトキシエチル）
−０−ニー ） １：Ｉ ７＝ ’） ７４２．９ｇ
ヲエタ／−ルｌＯＯ＠Ｑに溶かし、 ２．５Ｎカセイソ
ーダ溶液３ｏＩＩＬＱを加えて、穏やかにＭ流させなが
ら、亜鉛末５２ｇを少しずつ１５分間で加える。その後
２時間還流した後５反応混合物を熱時ろ過する。ろ液を
濃縮し、残液に酢酸エチル１５０−を加える。酢酸エチ
ル層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾
燥後減圧下に溶媒を留去して、Ｎ−（２−エトキシエチ
ル）−〇−フェニレンジアミン３６．５ｇを得る（収率
９９駕）。
沸点：１２２．０〜１２４．０ ”Ｏｌｏ、８５ｍｒｍ
ＨｇＮＭＲ（ＣＤＧ！ｘ 、 δｐｐｍ）：１．１５
（ｔ、３Ｈ）、３．０５〜３．７（１３Ｂ）、８．４〜
８．７５（４Ｍ）。
ＨｇＮＭＲ（ＣＤＧ！ｘ 、 δｐｐｍ）：１．１５
（ｔ、３Ｈ）、３．０５〜３．７（１３Ｂ）、８．４〜
８．７５（４Ｍ）。
（３） １−（２−エトキシエチル）−２−ベンズイミ
ダゾリノンの製造： （２）の如くして得られるＮ−（２−エトキシエチル）
−〇−フェニレンジアミン３４．０ｇと尿素２３．０ｇ
とを１５０℃で５時間攪拌する０反応混合物を８０℃ま
で冷却し、これに水１００−と酢酸エチル３０−を加え
、３０分間攪拌する。有機層を分離し、水層を酢酸エチ
ルで２回抽出する。有機層と抽出層とをあわせて、 ２
Ｎ塩酸で２回、飽和食塩水で２回洗浄する。酢酸エチル
層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後濃縮する。残液
をイソプロピルアルコールより再結晶して１−（２−エ
トキシエチル）−２−ベンズイミダゾリノン２Ｂ、９ｇ
を得る（収率８９％）。
ダゾリノンの製造： （２）の如くして得られるＮ−（２−エトキシエチル）
−〇−フェニレンジアミン３４．０ｇと尿素２３．０ｇ
とを１５０℃で５時間攪拌する０反応混合物を８０℃ま
で冷却し、これに水１００−と酢酸エチル３０−を加え
、３０分間攪拌する。有機層を分離し、水層を酢酸エチ
ルで２回抽出する。有機層と抽出層とをあわせて、 ２
Ｎ塩酸で２回、飽和食塩水で２回洗浄する。酢酸エチル
層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後濃縮する。残液
をイソプロピルアルコールより再結晶して１−（２−エ
トキシエチル）−２−ベンズイミダゾリノン２Ｂ、９ｇ
を得る（収率８９％）。
融点：８Ｂ、０〜８８．０℃
ＮＭＲ（ＣＩＩＱ！ｉ 、δｐｐ■） ：１．１５（
ｔ、３Ｈ）、３．５３（ｑ、２Ｈ）。
ｔ、３Ｈ）、３．５３（ｑ、２Ｈ）。
３．６〜３．８（■、２）１） 、４．０〜４，３（■
、２Ｈ）、７．１（ｂｓ、４Ｈ）。
、２Ｈ）、７．１（ｂｓ、４Ｈ）。
実施例
参考例の如くして得られる１−（２−エトキシエチル）
−２−ベンズイミダゾリノン２８．０ｇをオキシ塩化リ
ン６４．３ｇ中で２時間還流する。放冷後、反応混合物
を氷水３５０ ｄに注ぎ、その後３０分間攪拌する。こ
れに４Ｎカセイソーダ溶液４５０−を加え、酢酸エチル
で抽出する。酢酸エチル層を２．５Ｎカセイソーダ溶液
で１回、飽和食塩水で２回洗浄し、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥後減圧下に溶媒を留去して、２−クロロ−１−
（２−エトキシエチル）ベンズイミダゾ−に２８．０ｇ
ｔｒ得る（収率１１２１１゜沸点７１３２．０〜１３３
．５℃１０．８５＋ｓｄｇＮＭＲ（ＣＯＣ！１！＊
、 ａｐｐ＋＊）：１．０（ｔ、３Ｊ、３．３（ｑ、２
）１）、３．５〜３．７５（ｍ、２Ｈ） 、４．１〜４
．３５（＋ａ、２Ｈ） 、？、Ｏ〜７．８５（４Ｈ）。
−２−ベンズイミダゾリノン２８．０ｇをオキシ塩化リ
ン６４．３ｇ中で２時間還流する。放冷後、反応混合物
を氷水３５０ ｄに注ぎ、その後３０分間攪拌する。こ
れに４Ｎカセイソーダ溶液４５０−を加え、酢酸エチル
で抽出する。酢酸エチル層を２．５Ｎカセイソーダ溶液
で１回、飽和食塩水で２回洗浄し、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥後減圧下に溶媒を留去して、２−クロロ−１−
（２−エトキシエチル）ベンズイミダゾ−に２８．０ｇ
ｔｒ得る（収率１１２１１゜沸点７１３２．０〜１３３
．５℃１０．８５＋ｓｄｇＮＭＲ（ＣＯＣ！１！＊
、 ａｐｐ＋＊）：１．０（ｔ、３Ｊ、３．３（ｑ、２
）１）、３．５〜３．７５（ｍ、２Ｈ） 、４．１〜４
．３５（＋ａ、２Ｈ） 、？、Ｏ〜７．８５（４Ｈ）。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 下式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒは低級アルキル基、低級アルケニル基、低級
アルキニル基またはアリール基を表わす。） で示される化合物をクロル化することを特徴とする下式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒは上記に同じ。） で示される２−クロロベンズイミダゾール誘導体の製造
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16534084A JPS6143169A (ja) | 1984-08-06 | 1984-08-06 | ２−クロロベンズイミダゾ−ル誘導体の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16534084A JPS6143169A (ja) | 1984-08-06 | 1984-08-06 | ２−クロロベンズイミダゾ−ル誘導体の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6143169A true JPS6143169A (ja) | 1986-03-01 |
Family
ID=15810477
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16534084A Pending JPS6143169A (ja) | 1984-08-06 | 1984-08-06 | ２−クロロベンズイミダゾ−ル誘導体の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6143169A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0441216A (ja) * | 1990-06-07 | 1992-02-12 | Mikuni Plast Kk | パラボラアンテナ射出成形用金型 |
-
1984
- 1984-08-06 JP JP16534084A patent/JPS6143169A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0441216A (ja) * | 1990-06-07 | 1992-02-12 | Mikuni Plast Kk | パラボラアンテナ射出成形用金型 |
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