JPS6142176A - 発光ダイオ−ド - Google Patents

発光ダイオ−ド

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Publication number
JPS6142176A
JPS6142176A JP59163148A JP16314884A JPS6142176A JP S6142176 A JPS6142176 A JP S6142176A JP 59163148 A JP59163148 A JP 59163148A JP 16314884 A JP16314884 A JP 16314884A JP S6142176 A JPS6142176 A JP S6142176A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mixed crystal
zinc
type
substrate
epitaxial layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP59163148A
Other languages
English (en)
Inventor
Tsuneo Mitsuyu
常男 三露
Osamu Yamazaki
山崎 攻
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP59163148A priority Critical patent/JPS6142176A/ja
Publication of JPS6142176A publication Critical patent/JPS6142176A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/02Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor bodies
    • H01L33/26Materials of the light emitting region
    • H01L33/28Materials of the light emitting region containing only elements of Group II and Group VI of the Periodic Table

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Led Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は発光ダイオード、特に高効率の青色発光ダイオ
ードの構造に関するものである。
従来例の構成とその問題点 表示素子等として用いられる可視光の発光ダイオード(
以下LEDと記す)には、ガリウム燐を用いた赤色及び
緑色のLEDがあり、広く実用されている。しかし、三
原色の残る一要素である青色のLEDには、実用的な発
光効率を有するものがなく、フルカラーの表示装置用等
として強く要望されている。
従来得られている青色LEDには、窒化ガリウムを用い
たものや、炭化硅素を用いたものが知られている。しか
し窒化ガリウムの場合はP型の半導体が得られないため
、N型結晶の表面に金属膜を設けた7ヨノトキ一接合型
ダイオードとなっており、発光効率を高めることが難か
しい。また炭化硅素の場合、PN接合タイオードは得ら
れるが、間接遷移型半導体であるため、発光効率を高め
ることが本質的に難かしい。このような理由により、上
記の従来例で得られる発光効率は0.01%程度と極め
て低く、実用性に乏しかった。
発明の目的 本発明はこのような従来の問題に鑑み、新規な半導体材
料を用いて実用的な高効率の青色LEDを提供すること
を目的とする。
発明の構成 本発明は、インジウム燐からなる単結晶基板上に、イン
ジウム燐と同一の格子定数を有するテルル化亜鉛と硫化
亜鉛の混晶半導体からなるエビタキシャル層を設け、前
記エピタキシャル層中にPN接合を備えた構造により、
高効率の青色LEDを実現するものである。
実施例の説明 本発明の具体的な実施例を、図面を用いて説明する。
第1図は本発明の一実施例におけるLEDの構造を示す
断面図である。この図において、1はN型のインジウム
燐からなる単結晶基板である。また2はインジウム燐と
同一の格子定数を有するテルル化亜鉛と硫化亜鉛の混晶
半導体からなるエピタキシャル層であり、N型層21と
P型層22からなっている。また13および23はそれ
ぞれ基板1およびP型層22に対しオーム性接触を有す
る電極層である。
本発明の特徴は使用する半導体材料にあるので、捷ずこ
の点について説明する。テルル化亜鉛および硫化亜鉛は
何れも閃亜鉛鉱型結晶構造を有する化合物半導体であり
、結晶の格子定数は前者が約6.10人、後者が約6.
41人である。また禁制帯幅は前者が2.26eV(電
子ボルト)、後者が3.68eVである。この両者の混
合物は均一な混晶を形成し、その格子定数と禁制帯幅は
組成比に応じて連続的に変化する。第2図は、テルル化
亜鉛(ZnTe)−硫化亜鉛(ZnS)混晶系における
格子定数と禁制帯幅の関係を示したグラフであり、図中
に31で示すように両者は直線的な関係にある。
ところで、このような混晶系材料の良好な大形単結晶を
得ることは一般に極めて困難である。しかし、上記混晶
系材料の場合、インジウム燐単結晶を基板として用いる
と、その上に良質な単結晶薄膜をエピタキシャル成長さ
せ得ることを発明者らは見出した。すなわち、インジウ
ム燐は上記混晶と同じ閃亜鉛鉱型の結晶構造を有し、格
子定数は約5.87人でテルル化亜鉛と硫化亜鉛の中間
の値であるので、混晶の組成比を適切に選んで格子定数
を基板と一致させることができ、その場合欠陥のない良
好な単結晶薄膜が得られることになる第2図中の点線3
2Viイ/ジウム燐の格子定数を示しており、点33は
これに一致する混晶の位置を示す。この点における混晶
半導体の禁制帯幅は点線34で示すように約2.72@
V  となる。一般に禁制帯幅Eyを有する半導体にお
いて電子と正孔の再結合により発する光の波長λはλ=
 bclE9(hはブランク定数、Cは光速)なる式で
表わされ、第2図の上辺にはこの式で計算した発光波長
が目盛っである。点3における発光波長は約466nと
なり、これは純青色に対応する。すなわち、インジウム
燐に格子定数が一致するテルル亜鉛と硫化亜鉛の混晶半
導体は、青色発光素子材料となる0 第1図に示した構造は本材料を用いたLEDの実施例で
あり、電極13.23の間に基板側電極13が負となる
ように電圧を印加すると、混晶半導体のエビタンヤル層
2中のPN接合面20においてN型層21中の電子とP
fi層2層中2中孔が再結合し、青色の発光を生じる。
本材料は直接遷移型半導体であるので発光効率が高く、
1%程度の値が得られる。これは従来の赤色および緑色
のLEDと同等の実用的な効率である。
なお、本実施例ではN型基板上にN型層とP型層を順次
積層した構造を示したが、逆にP型基板上にP型層とN
型層を順次積層した構造であってもよく、また絶縁性基
板上にPNN領領域含むエピタキシャル層を設け、両頭
域に電極を付した構造であってもよいことは明らかであ
る。
発明の効果 以上のように、本発明はインジウム燐からなる単結晶基
板上に、インジウム燐と同一の格子定数を有するテルル
化亜鉛と硫化亜鉛の混晶半導体からなるエピタキシャル
層を設け、前記エピタキシャル層中にPN接合を備えた
構造により、従来得られなかった高効率の青色LEDを
実現するものであり、フルカラーLED表示装置の実用
化に資する等、大きな効果をもつものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例の発光ダイオードの断面図、
第2図は本発明に関係するテルル化亜鉛と硫化亜鉛の混
晶系材料における格子定数と禁制帯幅および発光波長の
関係を示すグラフである。 1・・・・・N型インジウム燐からなる単結晶基板、2
・・・・テルル化亜鉛と硫化亜鉛の混晶半導体からなる
エピタキシャル層、2o・・・・・・PNI合面、21
・・・・・・N型層、22・・・P型層、13.23・
・・・・電極層。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 elか1名第
1図 ?3 第2図 兄、ffi?Jl(ル岬

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1.  インジウム燐からなる単結晶基板上に、インジウム燐
    と同一の格子定数を有するテルル化亜鉛と硫化亜鉛の混
    晶半導体からなるエピタキシャル層を設け、前記エピタ
    キシャル層中にPN接合を備えてなる発光ダイオード。
JP59163148A 1984-08-02 1984-08-02 発光ダイオ−ド Pending JPS6142176A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP59163148A JPS6142176A (ja) 1984-08-02 1984-08-02 発光ダイオ−ド

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP59163148A JPS6142176A (ja) 1984-08-02 1984-08-02 発光ダイオ−ド

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS6142176A true JPS6142176A (ja) 1986-02-28

Family

ID=15768128

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP59163148A Pending JPS6142176A (ja) 1984-08-02 1984-08-02 発光ダイオ−ド

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JP (1) JPS6142176A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008109382A (ja) * 2006-10-25 2008-05-08 Canon Inc 表示装置及び外部スピーカー

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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