JPS6138139B2 - - Google Patents
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- JPS6138139B2 JPS6138139B2 JP54030614A JP3061479A JPS6138139B2 JP S6138139 B2 JPS6138139 B2 JP S6138139B2 JP 54030614 A JP54030614 A JP 54030614A JP 3061479 A JP3061479 A JP 3061479A JP S6138139 B2 JPS6138139 B2 JP S6138139B2
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- heating element
- frequency heating
- microwave
- ferrite
- semiconductor
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Landscapes
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
- Constitution Of High-Frequency Heating (AREA)
- Electric Ovens (AREA)
- Thermistors And Varistors (AREA)
Description
本発明はマイクロ波により発熱される高周波発
熱体に関し、特に短時間マイクロ波を照射するこ
とのみで非常に高温度の発熱をする高周波発熱体
に関するものである。 一般に電子レンジにおいて魚肉や獣肉をマイク
ロ波加熱する場合には、電気やガス、炭火といつ
た他の加熱方法と異なり、その表面に焼焦げを生
ずることができない。 しかし日本人の従来の食生活からみて獣肉や魚
肉を焼いて調理する場合、その表面に焼焦げのな
いものより多少の焼焦げの存在することを強く希
望するので、電子レンジにおいてもこのような焼
焦げを作る手段が種々提案されている。 これらの焼焦付与装置の１つとして、マイクロ
波エネルギーを吸収してこれを高温度の熱エネル
ギーに変える材料を使用した焼焦付与装置を有す
るものがある。そしてこの場合マイクロ波エネル
ギーを吸収して熱エネルギーに変換する材料とし
てはNi―Znフエライトが使用されている。 いま、第１図について従来の焼焦付与装置を有
するマイクロ波加熱装置を説明する。 １は電子レンジの如きマイクロ波加熱装置であ
つて、図示省略したマイクロ波発生源を具備して
おり、その内部にフエライト容器２が配置され、
該フエライト容器２に獣肉の如き被調理物３が入
れられる。そしてマイクロ波発生源からマイクロ
波を発生させ、これを上記被調理物３に照射すれ
ば、被調理物３は自己発熱作用により発熱し、食
用に供せられるような状態になる。このときマイ
クロ波の一部は上記フエライト容器２に吸収され
て熱エネルギーとなり、該フエライト容器２の温
度は上昇し、これにより被調理物３に焼焦げを付
与することになる。 焼焦付与装置としては、第１図に示す如きフエ
ライト容器２の外に、第２図イ、ロに示す如き他
の手段もある。第２図イに示すものは、フエライ
ト容器２の外にフエライト製の帽体２―１を用意
し、これを被調理物３の上に置くものである。こ
れにより被調理物３の上部にも焼焦わを生ずるこ
とができる。また第２図ロに示す如く、フエライ
トにより格子状物４を作り、これを支持体５，５
により底部６から離して置く。これにより、マイ
クロ波が底部６より反射して格子状物４に吸収さ
れるので、例え被調理物３が大きくてその底部ま
でマイクロ波が到達しないような場合でも被調理
物３を充分発熱させることができるとともに格子
状物４も発熱し、焼焦げを付与することができる
ものである。 しかしながら以上の如き従来の装置において
は、フエライトとしてNi―Znフエライト絶縁体
を焼焦付与用材料として使用しているものであ
る。しかしながらこのようなフエライト絶縁体は
高周波域での発熱温度が十分でないために短時間
で被調理物に焦げ目を付与することはなかなかむ
ずかしい欠点がある。 即ちNi―Znフエライト絶縁体により矩形状の
加熱板を作りこれにマイクロ波を照射した場合、
その表面温度は、第３図におけるＡ曲線に示す如
く３分間マイクロ波を照射しても約200℃の温度
にしか到達せず、したがつて短時間で必要とする
焦目を被調理物に発生させることは困難であつ
た。 したがつて本発明はこのような問題点を改善し
た、短時間でも焼焦を付与することが可能な、高
温度に発熱する高周波発熱体を提供することを目
的とするものであり、このために本発明の高周波
発熱体では、一般式ABO3（ただしＡはBa，Sr，
Ca，Pbよりなる元素の少なくとも一種、Ｂは
Ti，Sn，Zrよりなる元素の少なくとも一種を示
す）で表わされる組成を主成分とする磁器半導体
により一部または全部を構成しことを特徴とする
ものである。 以下本発明を実施例にもとづき説明する。 実施例 １ BaTiO3を0.997モル、Y2O3を0.003モル含む磁
器半導体により、第４図イに示す如く、長さが30
mm，幅が30mm，厚さが４mmの板状体７をつくり、
これを電子レンジ内で３分間マイクロ波を照射し
た。これにより、上記板状体７は発熱し、その表
面温度は第３図におけるＢ曲線に示す如く上昇
し、３分後には約660℃になつた。なおBaTiO3よ
りなる磁器絶縁体により同様の大きさの板状体を
作り、これを電子レンジ内に入れて約３分間マイ
クロ波照射した場合、その表面温度は第３図にお
けるＣ曲線の如き温度上昇を示した。したがつて
第３図における各曲線を比較することにより、半
導体化したものと絶縁体との間では発熱作用に非
常に大きな相違の存在することがわかる。 実施例 ２ BaZrO3を0.995モル、Y2O3を0.005モル含む磁
器半導体により、実施例１の場合と同様に、30mm
×30mm×４mmの板状体を作り、これを電子レンジ
中に置き、３分間マイクロ波を照射した。これに
より上記組成の磁器半導体により構成された板状
体は発熱し、その表面温度約700℃となつた。 実施例 ３ BaSnO3を0.996モル、Y2O3を0.004モル含む磁
器半導体により上記実施例１及び２と同様に、30
mm×30mm×４mmの板状体を作り、これを電子レン
ジ中に置き、３分間マイクロ波照射したところ、
その表面温度は約700℃になつた。 なお、実施例４乃至10を表１により示す。３分
後の表面温度は、各組成で 30mm×30mm×４mmの大きさの板状体を作り、これ
を電子レンジによりマイクロ波照射して得られた
ものである。
熱体に関し、特に短時間マイクロ波を照射するこ
とのみで非常に高温度の発熱をする高周波発熱体
に関するものである。 一般に電子レンジにおいて魚肉や獣肉をマイク
ロ波加熱する場合には、電気やガス、炭火といつ
た他の加熱方法と異なり、その表面に焼焦げを生
ずることができない。 しかし日本人の従来の食生活からみて獣肉や魚
肉を焼いて調理する場合、その表面に焼焦げのな
いものより多少の焼焦げの存在することを強く希
望するので、電子レンジにおいてもこのような焼
焦げを作る手段が種々提案されている。 これらの焼焦付与装置の１つとして、マイクロ
波エネルギーを吸収してこれを高温度の熱エネル
ギーに変える材料を使用した焼焦付与装置を有す
るものがある。そしてこの場合マイクロ波エネル
ギーを吸収して熱エネルギーに変換する材料とし
てはNi―Znフエライトが使用されている。 いま、第１図について従来の焼焦付与装置を有
するマイクロ波加熱装置を説明する。 １は電子レンジの如きマイクロ波加熱装置であ
つて、図示省略したマイクロ波発生源を具備して
おり、その内部にフエライト容器２が配置され、
該フエライト容器２に獣肉の如き被調理物３が入
れられる。そしてマイクロ波発生源からマイクロ
波を発生させ、これを上記被調理物３に照射すれ
ば、被調理物３は自己発熱作用により発熱し、食
用に供せられるような状態になる。このときマイ
クロ波の一部は上記フエライト容器２に吸収され
て熱エネルギーとなり、該フエライト容器２の温
度は上昇し、これにより被調理物３に焼焦げを付
与することになる。 焼焦付与装置としては、第１図に示す如きフエ
ライト容器２の外に、第２図イ、ロに示す如き他
の手段もある。第２図イに示すものは、フエライ
ト容器２の外にフエライト製の帽体２―１を用意
し、これを被調理物３の上に置くものである。こ
れにより被調理物３の上部にも焼焦わを生ずるこ
とができる。また第２図ロに示す如く、フエライ
トにより格子状物４を作り、これを支持体５，５
により底部６から離して置く。これにより、マイ
クロ波が底部６より反射して格子状物４に吸収さ
れるので、例え被調理物３が大きくてその底部ま
でマイクロ波が到達しないような場合でも被調理
物３を充分発熱させることができるとともに格子
状物４も発熱し、焼焦げを付与することができる
ものである。 しかしながら以上の如き従来の装置において
は、フエライトとしてNi―Znフエライト絶縁体
を焼焦付与用材料として使用しているものであ
る。しかしながらこのようなフエライト絶縁体は
高周波域での発熱温度が十分でないために短時間
で被調理物に焦げ目を付与することはなかなかむ
ずかしい欠点がある。 即ちNi―Znフエライト絶縁体により矩形状の
加熱板を作りこれにマイクロ波を照射した場合、
その表面温度は、第３図におけるＡ曲線に示す如
く３分間マイクロ波を照射しても約200℃の温度
にしか到達せず、したがつて短時間で必要とする
焦目を被調理物に発生させることは困難であつ
た。 したがつて本発明はこのような問題点を改善し
た、短時間でも焼焦を付与することが可能な、高
温度に発熱する高周波発熱体を提供することを目
的とするものであり、このために本発明の高周波
発熱体では、一般式ABO3（ただしＡはBa，Sr，
Ca，Pbよりなる元素の少なくとも一種、Ｂは
Ti，Sn，Zrよりなる元素の少なくとも一種を示
す）で表わされる組成を主成分とする磁器半導体
により一部または全部を構成しことを特徴とする
ものである。 以下本発明を実施例にもとづき説明する。 実施例 １ BaTiO3を0.997モル、Y2O3を0.003モル含む磁
器半導体により、第４図イに示す如く、長さが30
mm，幅が30mm，厚さが４mmの板状体７をつくり、
これを電子レンジ内で３分間マイクロ波を照射し
た。これにより、上記板状体７は発熱し、その表
面温度は第３図におけるＢ曲線に示す如く上昇
し、３分後には約660℃になつた。なおBaTiO3よ
りなる磁器絶縁体により同様の大きさの板状体を
作り、これを電子レンジ内に入れて約３分間マイ
クロ波照射した場合、その表面温度は第３図にお
けるＣ曲線の如き温度上昇を示した。したがつて
第３図における各曲線を比較することにより、半
導体化したものと絶縁体との間では発熱作用に非
常に大きな相違の存在することがわかる。 実施例 ２ BaZrO3を0.995モル、Y2O3を0.005モル含む磁
器半導体により、実施例１の場合と同様に、30mm
×30mm×４mmの板状体を作り、これを電子レンジ
中に置き、３分間マイクロ波を照射した。これに
より上記組成の磁器半導体により構成された板状
体は発熱し、その表面温度約700℃となつた。 実施例 ３ BaSnO3を0.996モル、Y2O3を0.004モル含む磁
器半導体により上記実施例１及び２と同様に、30
mm×30mm×４mmの板状体を作り、これを電子レン
ジ中に置き、３分間マイクロ波照射したところ、
その表面温度は約700℃になつた。 なお、実施例４乃至10を表１により示す。３分
後の表面温度は、各組成で 30mm×30mm×４mmの大きさの板状体を作り、これ
を電子レンジによりマイクロ波照射して得られた
ものである。
【表】
実施例 11
BaTiO3を0.99モル、Y2O3を0.01モルの組成物
を仮焼成した後、粉砕、混合して成形し、その成
形体をH2ガス（100％）中で1380℃、２時間焼成
して強制還元して半導体化し、かくして得られた
磁器半導体を、上記実施例１の場合と同様にして
電子レンジ中に３分間置いてマイクロ波を照射し
たところ、その表面温度は約700℃であつた。な
お、上記組成物では0.01モルのY2O3が含有され
ているが、このように多量のY2O3を加えた場合
それのみでは半導体化しない。したがつて上記の
如く還元性雰囲気中で加熱して半導体化すること
が必要である。なお、BaTiO3100％で構成された
ものを強制還元した場合には、600℃乃至700℃
で、その表面が容易に再酸化される。これを防止
するためにY2O3を0.01モル含ませる必要があ
る。 実施例 12 BaSnO3を0.99モル、Y2O3を0.01モルの組成物
を上記実施例11と同様にして、還元法により磁器
半導体を得た。これを上記実施例１と同様にして
電子レンジ中に３分間置きマイクロ波を照射した
ところ、その表面温度は約700℃になつた。 したがつて、本発明により得られる磁器半導体
により構成される高周波発熱体により、第１図及
び第２図に示す如き形状、構造の容器、帽体、格
子状体を構成したり、また第４図イの如き板状体
を構成して被調理物を加熱すれば、これらは短時
間で非常に高温度に発熱するために短時間で被調
理物の表面に容易に焼焦を作ることができる。 この外に、第４図ロに示す如く、本発明による
高周波発熱体により棒状発熱素子８，８を製造
し、これを適宜材料により構成された基台、例え
ば通常の磁器製の基台９に形成した溝１０内に適
宜配置し、その上に魚等を載置して焼焦を付与す
るようにすることもできる。 勿論、上記一般式ABO3（ただしＡはBa，Sr，
Ca，Pbによりなる元素の少なくとも一種、Ｂは
Ti，Bn，Zrよりなる元素の少なくとも一種示
す）で表わされる組成物を主成分とする磁器半導
体のみで高周波発熱体を構成する場合には、その
表面温度が700℃位にも達し、用途によつてはも
う少し低い方が適当な場合がある。このような場
合には適当なものを混合することによりその表面
温度を調整することができる。また第４図ハに示
す如く、本発明による高周波発熱体１１を従来の
高周波発熱体１２と組合せて使用し、被調理物１
３との距離を適宜にすることにより被調理物１３
に対する温度調整を行なうことができる。したが
つて、このような場合、被調理物１３の種類に応
じてこの距離の異つたものを用意しておけば、被
調理物１３の種類に応じた最適の加工を行なうこ
とができる。 なお、以上の説明では、本発明による高周波発
熱体を電子レンジ内に配置して調整用に使用した
例について記載しているが、本発明は勿論このよ
うな用途に限定されるものではない。
を仮焼成した後、粉砕、混合して成形し、その成
形体をH2ガス（100％）中で1380℃、２時間焼成
して強制還元して半導体化し、かくして得られた
磁器半導体を、上記実施例１の場合と同様にして
電子レンジ中に３分間置いてマイクロ波を照射し
たところ、その表面温度は約700℃であつた。な
お、上記組成物では0.01モルのY2O3が含有され
ているが、このように多量のY2O3を加えた場合
それのみでは半導体化しない。したがつて上記の
如く還元性雰囲気中で加熱して半導体化すること
が必要である。なお、BaTiO3100％で構成された
ものを強制還元した場合には、600℃乃至700℃
で、その表面が容易に再酸化される。これを防止
するためにY2O3を0.01モル含ませる必要があ
る。 実施例 12 BaSnO3を0.99モル、Y2O3を0.01モルの組成物
を上記実施例11と同様にして、還元法により磁器
半導体を得た。これを上記実施例１と同様にして
電子レンジ中に３分間置きマイクロ波を照射した
ところ、その表面温度は約700℃になつた。 したがつて、本発明により得られる磁器半導体
により構成される高周波発熱体により、第１図及
び第２図に示す如き形状、構造の容器、帽体、格
子状体を構成したり、また第４図イの如き板状体
を構成して被調理物を加熱すれば、これらは短時
間で非常に高温度に発熱するために短時間で被調
理物の表面に容易に焼焦を作ることができる。 この外に、第４図ロに示す如く、本発明による
高周波発熱体により棒状発熱素子８，８を製造
し、これを適宜材料により構成された基台、例え
ば通常の磁器製の基台９に形成した溝１０内に適
宜配置し、その上に魚等を載置して焼焦を付与す
るようにすることもできる。 勿論、上記一般式ABO3（ただしＡはBa，Sr，
Ca，Pbによりなる元素の少なくとも一種、Ｂは
Ti，Bn，Zrよりなる元素の少なくとも一種示
す）で表わされる組成物を主成分とする磁器半導
体のみで高周波発熱体を構成する場合には、その
表面温度が700℃位にも達し、用途によつてはも
う少し低い方が適当な場合がある。このような場
合には適当なものを混合することによりその表面
温度を調整することができる。また第４図ハに示
す如く、本発明による高周波発熱体１１を従来の
高周波発熱体１２と組合せて使用し、被調理物１
３との距離を適宜にすることにより被調理物１３
に対する温度調整を行なうことができる。したが
つて、このような場合、被調理物１３の種類に応
じてこの距離の異つたものを用意しておけば、被
調理物１３の種類に応じた最適の加工を行なうこ
とができる。 なお、以上の説明では、本発明による高周波発
熱体を電子レンジ内に配置して調整用に使用した
例について記載しているが、本発明は勿論このよ
うな用途に限定されるものではない。
第１図及び第２図は従来のマイクロ波による焼
焦付与装置の説明図、第３図は従来のマイクロ波
加熱用発熱体と本発明による高周波発熱体との特
性の曲線を示すもの、第４図はマイクロ波発熱体
の種々の形状を示すものである。 １…マイクロ波加熱装置、２…フエライト容
器、２―１…フエライト帽体、３…被調理物、４
…フエライト格子状体、５…支持体、６…底部、
７…板状体、８…棒状発熱素子、９…基台、１０
…溝、１１，１２…高周波発熱体。
焦付与装置の説明図、第３図は従来のマイクロ波
加熱用発熱体と本発明による高周波発熱体との特
性の曲線を示すもの、第４図はマイクロ波発熱体
の種々の形状を示すものである。 １…マイクロ波加熱装置、２…フエライト容
器、２―１…フエライト帽体、３…被調理物、４
…フエライト格子状体、５…支持体、６…底部、
７…板状体、８…棒状発熱素子、９…基台、１０
…溝、１１，１２…高周波発熱体。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式ABO3（ただしＡはBa，Sr，Ca，Pb
よりなる元素の少なくとも一種、ＢはTi，Sn，
Zrよりなる元素の少なくとも一種を示す）で表わ
される組成を主成分とする磁器半導体により一部
または全部を構成したことを特徴とする高周波発
熱体。 ２ 上記磁器半導体は、上記ABO3に微量の半導
体化元素を含有したものであることを特徴とする
特許請求の範囲第１項記載の高周波発熱体。 ３ 上記半導化元素は、希土類元素、Nb，Ta，
Sb，Biの群から選ばれた少くとも一種であるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第２項記載の高周
波発熱体。 ４ 上記磁器半導体は上記ABO3を強制還元によ
り得たものであることを特徴とする特許請求の範
囲第１項記載の高周波発熱体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3061479A JPS55121961A (en) | 1979-03-16 | 1979-03-16 | High frequency heat generator |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3061479A JPS55121961A (en) | 1979-03-16 | 1979-03-16 | High frequency heat generator |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS55121961A JPS55121961A (en) | 1980-09-19 |
| JPS6138139B2 true JPS6138139B2 (ja) | 1986-08-27 |
Family
ID=12308743
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3061479A Granted JPS55121961A (en) | 1979-03-16 | 1979-03-16 | High frequency heat generator |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS55121961A (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6258603A (ja) * | 1985-09-09 | 1987-03-14 | フイガロ技研株式会社 | 排ガス温度の検出用サ−ミスタ |
| JPS6294717A (ja) * | 1985-10-18 | 1987-05-01 | Matsushita Seiko Co Ltd | 厨芥処理機 |
| JPS6294716A (ja) * | 1985-10-18 | 1987-05-01 | Matsushita Seiko Co Ltd | 厨芥処理機 |
| JPS62218719A (ja) * | 1986-03-20 | 1987-09-26 | Matsushita Seiko Co Ltd | 厨芥処理装置 |
| JPS62288410A (ja) * | 1986-06-06 | 1987-12-15 | Matsushita Seiko Co Ltd | 厨芥処理装置 |
| US4810845A (en) * | 1987-06-01 | 1989-03-07 | General Mills, Inc. | Solid state ceramic microwave heating susceptor |
| US4818831A (en) * | 1987-06-25 | 1989-04-04 | General Mills, Inc. | Amphoteric ceramic microwave heating susceptor |
-
1979
- 1979-03-16 JP JP3061479A patent/JPS55121961A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS55121961A (en) | 1980-09-19 |
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