JPS6136236A - ナフトヒドロキノンの製造法 - Google Patents
ナフトヒドロキノンの製造法Info
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- JPS6136236A JPS6136236A JP59157608A JP15760884A JPS6136236A JP S6136236 A JPS6136236 A JP S6136236A JP 59157608 A JP59157608 A JP 59157608A JP 15760884 A JP15760884 A JP 15760884A JP S6136236 A JPS6136236 A JP S6136236A
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- solvent
- naphthoquinone
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
「産業上の利用分野」
本発明は、ナフトキノン(以下、断らない限り1,4−
ナフトキノンを示す。)誘導体の合成中間体、ゴムの添
加剤、樹脂材料及び感熱記録材料等として有用なナフト
ヒドロキノンの製造法に関する。
ナフトキノンを示す。)誘導体の合成中間体、ゴムの添
加剤、樹脂材料及び感熱記録材料等として有用なナフト
ヒドロキノンの製造法に関する。
「従来の技術」
ナフトヒドロキノンの従来の製造法としては、ナフトキ
ノンを種々の還元法により還元することにより製造され
ている。その還元法としては、例えば、 ■ 亜鉛末、錫又はその塩及び塩酸で還元する方法、■
電解還元する方法、 ■ ヒドラジンヒトラード、又はヨウ化水素酸と赤燐で
還元する方法、 ■ 有M’S媒と水の存在下でハイドロサルファイドで
還元する方法、 ■ 極性溶媒中で接触水素還元し、晶析する結晶を分離
する方法 等が知られている。
ノンを種々の還元法により還元することにより製造され
ている。その還元法としては、例えば、 ■ 亜鉛末、錫又はその塩及び塩酸で還元する方法、■
電解還元する方法、 ■ ヒドラジンヒトラード、又はヨウ化水素酸と赤燐で
還元する方法、 ■ 有M’S媒と水の存在下でハイドロサルファイドで
還元する方法、 ■ 極性溶媒中で接触水素還元し、晶析する結晶を分離
する方法 等が知られている。
しかしながら、■乃至■の方法は実験室的な方法であっ
て工業的に大量生産するのには適当ではない。
て工業的に大量生産するのには適当ではない。
■の方法は、高純度ナフトキノンを用いても、ナフトヒ
ドロキノンの純度の高いものが得られなかった。又、大
量の有機溶媒を使用する上、得られた結晶は極めて粒子
が細かく、濾過性が悪く、混入する無機塩を除くことは
難しく、かつ保存中に表面が容易に酸化されてキンヒド
ロンを生成し黒紫色に着色する欠点がある。
ドロキノンの純度の高いものが得られなかった。又、大
量の有機溶媒を使用する上、得られた結晶は極めて粒子
が細かく、濾過性が悪く、混入する無機塩を除くことは
難しく、かつ保存中に表面が容易に酸化されてキンヒド
ロンを生成し黒紫色に着色する欠点がある。
■の方法は、工業用ナフトキノンを同じく精製する必要
があるほか、取得量が低く、かつ取扱中に■と同様にキ
ンヒドロン化する欠点がある。また、取得量を高めるた
め水等で希釈すると結晶が微細になり■の場合と同様に
濾過性が悪く、保存安定性も低下する。一般に水分散で
得られる微細なナフトヒドロキノンの操作安定性を改善
するためには、水希釈時に重亜硫酸塩等が加えられるが
、この方法も保存安定性を大きく改善するものではなく
、かつ結晶中に無機塩が混入する欠点を有する。従って
、高純度で、かつ無機物質の混入を好まない製品が望ま
れる、例えば樹脂材料向けの用途には従来の製造法は適
していない。
があるほか、取得量が低く、かつ取扱中に■と同様にキ
ンヒドロン化する欠点がある。また、取得量を高めるた
め水等で希釈すると結晶が微細になり■の場合と同様に
濾過性が悪く、保存安定性も低下する。一般に水分散で
得られる微細なナフトヒドロキノンの操作安定性を改善
するためには、水希釈時に重亜硫酸塩等が加えられるが
、この方法も保存安定性を大きく改善するものではなく
、かつ結晶中に無機塩が混入する欠点を有する。従って
、高純度で、かつ無機物質の混入を好まない製品が望ま
れる、例えば樹脂材料向けの用途には従来の製造法は適
していない。
[発明が解決しようとしている問題点」本発明は、上記
のような欠点を克nCシ、高純度品は勿論例えばナフタ
レンの接触気相酸化反応によって製造される工業用ナフ
トキノンを用いても工業的有利に高純度ナフトヒドロキ
ノンを製造する方法を提供することにある。
のような欠点を克nCシ、高純度品は勿論例えばナフタ
レンの接触気相酸化反応によって製造される工業用ナフ
トキノンを用いても工業的有利に高純度ナフトヒドロキ
ノンを製造する方法を提供することにある。
「問題点を解決するための手段」
本発明は、ナラ1キノンを水素化触媒の存在下で接触水
素還元して得られたナラ1〜ヒドロキノンを、極性溶媒
と非極性溶媒との存在Fに処理することを特徴とするナ
フト上1゛ロキノンの製造法であり、さらには上記の方
法において、ナフl〜ヒ(゛ロキノンを極性溶媒で処理
し、次いで該混合物を非極性ン容媒で処理することから
なる方法であり、特に工業的にはナフトキノンを極性溶
媒と水素化触媒の存在下で接触水素還元し、該反応混合
物から該触媒を分離した該l虐液を濃縮し、又はンa縮
することなくして(ニアら拍Jニナフトヒ1′1」キノ
ンと極性溶媒の混合物を非極性溶媒で処理することから
なる上記の方法に存する。
素還元して得られたナラ1〜ヒドロキノンを、極性溶媒
と非極性溶媒との存在Fに処理することを特徴とするナ
フト上1゛ロキノンの製造法であり、さらには上記の方
法において、ナフl〜ヒ(゛ロキノンを極性溶媒で処理
し、次いで該混合物を非極性ン容媒で処理することから
なる方法であり、特に工業的にはナフトキノンを極性溶
媒と水素化触媒の存在下で接触水素還元し、該反応混合
物から該触媒を分離した該l虐液を濃縮し、又はンa縮
することなくして(ニアら拍Jニナフトヒ1′1」キノ
ンと極性溶媒の混合物を非極性溶媒で処理することから
なる上記の方法に存する。
本発明において、原料となるナフトキノンは、一般的に
はナフタレンの接触気相酸化によって生成したナフトキ
ノンと無水フタル酸とを水洗補集したのら、濾過又はリ
ーフ1キ、ノンのめを溶媒抽出し脱溶媒することによっ
て得られるが、水又は有機溶媒中で過酸化水素、セリウ
ム等の酸化剤を用いて酸化することによっても得られる
。
はナフタレンの接触気相酸化によって生成したナフトキ
ノンと無水フタル酸とを水洗補集したのら、濾過又はリ
ーフ1キ、ノンのめを溶媒抽出し脱溶媒することによっ
て得られるが、水又は有機溶媒中で過酸化水素、セリウ
ム等の酸化剤を用いて酸化することによっても得られる
。
本発明において、ナフトキノンを接触水素還元するには
、一般的に有機溶媒及び水素化触媒の存在下にナツト・
キノンを水素で還元する。
、一般的に有機溶媒及び水素化触媒の存在下にナツト・
キノンを水素で還元する。
その際の有機溶媒としては、本発明を実施する上で極性
の溶媒が好ましく、必要により水素還元反応を実施した
のち、本発明の極性溶媒として使用し、連続して本発明
を行うことができる。
の溶媒が好ましく、必要により水素還元反応を実施した
のち、本発明の極性溶媒として使用し、連続して本発明
を行うことができる。
かかる極性の有機溶媒としては、メタノール、エタノー
ル、プロパツール等のアルコール;エチレングリコール
、プロピレングリコール等のグリコール;エチレングリ
コールのモノエーテル、ジエーテル等のグリコールエー
テル;酢酸、プロピオン酸等の有機酸;酢酸エチル等の
有機酸エステル;テトラヒドロフラン、ジオキサン等の
エーテル;アセトン、メチルエチルケトン等のケトン;
ピリジン、キノリン、ピペリジン、ホルムアミド、ジメ
チルホルムアミド等の有機塩基等の反応時に安定で、ナ
フトヒドロキノンが溶解し易い溶媒から選ばれる。特に
、ナフトヒドロキノンの溶解度が常温で10〜200g
/100g−1媒程度を有するものが好ましい。
ル、プロパツール等のアルコール;エチレングリコール
、プロピレングリコール等のグリコール;エチレングリ
コールのモノエーテル、ジエーテル等のグリコールエー
テル;酢酸、プロピオン酸等の有機酸;酢酸エチル等の
有機酸エステル;テトラヒドロフラン、ジオキサン等の
エーテル;アセトン、メチルエチルケトン等のケトン;
ピリジン、キノリン、ピペリジン、ホルムアミド、ジメ
チルホルムアミド等の有機塩基等の反応時に安定で、ナ
フトヒドロキノンが溶解し易い溶媒から選ばれる。特に
、ナフトヒドロキノンの溶解度が常温で10〜200g
/100g−1媒程度を有するものが好ましい。
中でも、低級アルコール類がン容媒の回収のし易さ及び
安価であるので好ましい。
安価であるので好ましい。
上記の溶媒は勿論単独でも、いくつかの混合物でも差し
支えなく、通常は無水のものが用いられるが多少の水が
存在していてもよい。
支えなく、通常は無水のものが用いられるが多少の水が
存在していてもよい。
水素化反応において用いられる溶媒の使用量は、ナフト
ヒドロ」−ノンが溶解し得る置板にが好ましく、ナフト
キノンは懸濁していても、溶解していても構わず、特に
限定されるものではないが、−・般的にはナフトヒト′
、ロキノンに対して1〜30重量倍、特に1〜10重量
倍が好ましい。
ヒドロ」−ノンが溶解し得る置板にが好ましく、ナフト
キノンは懸濁していても、溶解していても構わず、特に
限定されるものではないが、−・般的にはナフトヒト′
、ロキノンに対して1〜30重量倍、特に1〜10重量
倍が好ましい。
水素化触媒としては、例えば酸化白金、白金コロ、イl
−1銅クロマイト、パラジウム・カーホン、ルテニウム
・カーホン、う不一ニノケル等が挙げられる。特に、芳
香環への水添を制御する上ではパラジウム・カーボンが
好ましい。
−1銅クロマイト、パラジウム・カーホン、ルテニウム
・カーホン、う不一ニノケル等が挙げられる。特に、芳
香環への水添を制御する上ではパラジウム・カーボンが
好ましい。
水素化触媒の使用量は、ナラ1キノンに対して0.1〜
5重量%、通常0.1〜2重量%である。
5重量%、通常0.1〜2重量%である。
水素化反応の反応圧力は、一般に常圧から加圧下で行わ
れ、通常は1〜15kg/cm2でよい。
れ、通常は1〜15kg/cm2でよい。
その反応温度は常温から150℃でよいが、水素化反応
が発熱反応であることを尤慮し、ナフトキノンの加熱時
の分解、重合をできるだけ抑制するためには高い温度は
好ましくなく、一方水素吸収速度の低下、生成するナフ
]・ヒドロキノンの析出を避けるためには成る程度の温
度を維持する必要があるので、常温〜100 ’Cが特
に好ましい。
が発熱反応であることを尤慮し、ナフトキノンの加熱時
の分解、重合をできるだけ抑制するためには高い温度は
好ましくなく、一方水素吸収速度の低下、生成するナフ
]・ヒドロキノンの析出を避けるためには成る程度の温
度を維持する必要があるので、常温〜100 ’Cが特
に好ましい。
本発明においては、ナフトヒドロキノンを極性溶媒と非
極性溶媒との存在下で処理することにあるが、より効果
的に実施するためには、ナフ[ヒドロキノンを予め極性
溶媒で処理し、その混合物に非極性溶媒を加えて処理す
るがよく、さらに工業的にはナフトキノンを極性溶媒中
で水素還元したのち、ナフトヒドロキノンを分離するこ
となく、触媒のみを分離したナフトヒ「ロキノンと極性
溶媒の混合物(必要なら最も効果的な濃度に達するまで
脱溶媒して濃縮する。)に非極性溶媒を添加し、析出し
たナフトヒドロキノンの結晶を濾過等で分離する方法が
通常行われる。勿論水素化反応で得られるナフトヒドロ
キノンを一旦分離して、その湿ケーキ又は乾燥したもの
を用いることもできる。
極性溶媒との存在下で処理することにあるが、より効果
的に実施するためには、ナフ[ヒドロキノンを予め極性
溶媒で処理し、その混合物に非極性溶媒を加えて処理す
るがよく、さらに工業的にはナフトキノンを極性溶媒中
で水素還元したのち、ナフトヒドロキノンを分離するこ
となく、触媒のみを分離したナフトヒ「ロキノンと極性
溶媒の混合物(必要なら最も効果的な濃度に達するまで
脱溶媒して濃縮する。)に非極性溶媒を添加し、析出し
たナフトヒドロキノンの結晶を濾過等で分離する方法が
通常行われる。勿論水素化反応で得られるナフトヒドロ
キノンを一旦分離して、その湿ケーキ又は乾燥したもの
を用いることもできる。
乾燥状態のナフトヒドロキノンを用いて処理する場合は
、一旦ナフトヒFロギノンを極性溶媒に、通常は約10
0℃以下、好ましくは約50〜60°C以下で溶解し、
不溶分が生じた場合は窒素気流下に濾過し、次いで通常
は脱溶媒し、所定の溶媒含有量に達するまで濃縮したの
ち、非極性溶媒で処理する方法が本発明を実施する上で
効果的である。
、一旦ナフトヒFロギノンを極性溶媒に、通常は約10
0℃以下、好ましくは約50〜60°C以下で溶解し、
不溶分が生じた場合は窒素気流下に濾過し、次いで通常
は脱溶媒し、所定の溶媒含有量に達するまで濃縮したの
ち、非極性溶媒で処理する方法が本発明を実施する上で
効果的である。
かかる本発明の処理に用いられる極性溶媒の種類は、水
素化反応に用いるものと同じでよい。該非極性溶媒との
処理時において、該極性溶媒の使用量はナフトヒドロキ
ノンに対して1〜300重量%、好ましくは10〜50
重量%から選ばれる。
素化反応に用いるものと同じでよい。該非極性溶媒との
処理時において、該極性溶媒の使用量はナフトヒドロキ
ノンに対して1〜300重量%、好ましくは10〜50
重量%から選ばれる。
極性溶媒の量が多いとナフトヒドロキノンの取得量が減
少し、少なすぎれば効果は小さい。
少し、少なすぎれば効果は小さい。
本発明において用いられる非極性溶媒は、例えばヘキサ
ン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素; シクロヘキサン等
の脂環式炭化水素;ベンゼン、トルエン、キシレン等の
芳香族炭化水素;クロロホルム、トリクロルエタン(L
l、l−)リクロルエタン、1,1.2−1−リクロル
エタン等)、トリクロルエチレン、テトラクロルエタン
(1,1,2,2−テトラクロルエタン等)等のハロゲ
ン化炭化水素が挙げられ、特にハロゲン化炭化水素がナ
フトヒドロキノン結晶の酸化を防ぎ、ナフトヒドロキノ
ン中の不純物(例えば原料ナフトキン中に本〕1コ含有
されている不純物又はナフトキノンの水素還元により生
成した不純物)を除去するのには好都合である。
ン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素; シクロヘキサン等
の脂環式炭化水素;ベンゼン、トルエン、キシレン等の
芳香族炭化水素;クロロホルム、トリクロルエタン(L
l、l−)リクロルエタン、1,1.2−1−リクロル
エタン等)、トリクロルエチレン、テトラクロルエタン
(1,1,2,2−テトラクロルエタン等)等のハロゲ
ン化炭化水素が挙げられ、特にハロゲン化炭化水素がナ
フトヒドロキノン結晶の酸化を防ぎ、ナフトヒドロキノ
ン中の不純物(例えば原料ナフトキン中に本〕1コ含有
されている不純物又はナフトキノンの水素還元により生
成した不純物)を除去するのには好都合である。
非極性溶媒の使用量は、ナフトヒドロキノンの7容解度
が0゜01〜0.5g/100g−f4媒と低いので多
く用いることもできるか、一般的にはナフI・ヒドロキ
ノンに対して05〜30重量倍、好ましくは1〜5重量
倍から選ぶことができる。
が0゜01〜0.5g/100g−f4媒と低いので多
く用いることもできるか、一般的にはナフI・ヒドロキ
ノンに対して05〜30重量倍、好ましくは1〜5重量
倍から選ぶことができる。
極性溶媒と非極性溶媒との使用比率は、一般に1:l乃
至1:100の範囲から選ぶことができる。
至1:100の範囲から選ぶことができる。
次に、本発明の一般的実施方法について説明する。
ナフトキノンを極性溶媒中で、所定の温度、圧力下、水
素化触媒を用いて攪拌しながら接触水素還元し、反応後
触媒を濾過する。
素化触媒を用いて攪拌しながら接触水素還元し、反応後
触媒を濾過する。
得られたナフトヒ1−ロキノン含有?′4液を通常はロ
ータリーエバポレーター又はヘヌレス等の減圧蒸発装置
を用いて所定の溶媒含有量まで濃縮し、冷却したのら、
所定量の非極性溶媒を加えてスラリー化し、沈澱したナ
フI・ヒドロキノンを濾過等の分離法で分離し、淘ケー
4−を減圧乾燥する。非極性溶媒の添加処理は、接触水
素還元又は濃縮時の温度以下でよいが、一般的には10
0℃以下、通常は常温付近で行われる。該処理を実施し
た後は、ナノ1〜ヒドロキノンの収量を増加させるため
にさらに温度(例えば15°C以下、0〜10℃)を低
下させ、得られる結晶を分離する方法が採られる。
ータリーエバポレーター又はヘヌレス等の減圧蒸発装置
を用いて所定の溶媒含有量まで濃縮し、冷却したのら、
所定量の非極性溶媒を加えてスラリー化し、沈澱したナ
フI・ヒドロキノンを濾過等の分離法で分離し、淘ケー
4−を減圧乾燥する。非極性溶媒の添加処理は、接触水
素還元又は濃縮時の温度以下でよいが、一般的には10
0℃以下、通常は常温付近で行われる。該処理を実施し
た後は、ナノ1〜ヒドロキノンの収量を増加させるため
にさらに温度(例えば15°C以下、0〜10℃)を低
下させ、得られる結晶を分離する方法が採られる。
上記の操作は、一般的に1窒素等の不活性ガス雰囲気下
で行われるのが好ましい。
で行われるのが好ましい。
「発明の効果」
本発明によれば、得られるナフトヒドロキノン結晶は従
来法に比べて濾過性が極めてよく、非極性溶媒のスラリ
ーの流動性がよいため取扱やすく、湿ケーキの乾燥が容
易で、製造工程での取扱中にも、また乾燥品の保存時に
も酸化され難く、即ち保存性がよく、得られる製品は白
色又は銀白色を呈し、ブロック化せず、さらに製品の純
度及び収率が高いという驚くべき多くの効果を奏する。
来法に比べて濾過性が極めてよく、非極性溶媒のスラリ
ーの流動性がよいため取扱やすく、湿ケーキの乾燥が容
易で、製造工程での取扱中にも、また乾燥品の保存時に
も酸化され難く、即ち保存性がよく、得られる製品は白
色又は銀白色を呈し、ブロック化せず、さらに製品の純
度及び収率が高いという驚くべき多くの効果を奏する。
本発明によれば、不純物を含む工業用のナフトキノンを
使用した場合でも高純度のナノ1−ヒ1′ロキノンを収
率よく製造することができ、さらに」1記と同様の効果
を奏することができる。
使用した場合でも高純度のナノ1−ヒ1′ロキノンを収
率よく製造することができ、さらに」1記と同様の効果
を奏することができる。
次に、本発明について実施例により詳細に説明する。
実施例 1
純度約96.2χのナノ1キノン(工業薬品)3.5h
、メタノール12L、50χ含水の5χパラジウム・カ
ーボン80gを、攪拌機を備えた2OLのオー1〜クレ
ープに仕込み、窒素ガス置換後、水素ガスを供給した。
、メタノール12L、50χ含水の5χパラジウム・カ
ーボン80gを、攪拌機を備えた2OLのオー1〜クレ
ープに仕込み、窒素ガス置換後、水素ガスを供給した。
約20°Cで攪拌しながら水素ガスを吸収させ、60分
後に、常温、常圧換算で521Lの水素を吸収し、70
℃まで昇温しで反応は停止した。
後に、常温、常圧換算で521Lの水素を吸収し、70
℃まで昇温しで反応は停止した。
反応生成物を取り出し、窒素の加圧濾過で触媒を分離し
た。その濾液をロータリーエバポレーターで減圧濃縮し
て、約11Lのメタノールを回収し、常温付近まで冷却
した。得られた残りのメタノールを含有しているナフト
ヒドロキノン結晶に、クロロホルム6Lを加えて攪拌し
スラリー化し、徐冷しながら約7℃に冷却した。窒素気
流下でナフトヒI“ロキノンスラリーを濾過して、ナフ
トヒドロキノン記ケーキを取り出し、IOLロータリー
エバポレーターで減圧下で乾燥し、ナフトヒドロキノン
3.1hを得た。 ゛このナフトヒドロキノン
結晶は、約50 X 1000μ程度の粒径の良く揃っ
た白色の結晶であった。該結晶の融点は190.4°C
であった。純度は、該結晶をシリル化したのちガスクロ
マトグラフで分析した結果、99.4χであり、液体ク
ロマトグラフで分析したが他の成分は検出されなかった
。
た。その濾液をロータリーエバポレーターで減圧濃縮し
て、約11Lのメタノールを回収し、常温付近まで冷却
した。得られた残りのメタノールを含有しているナフト
ヒドロキノン結晶に、クロロホルム6Lを加えて攪拌し
スラリー化し、徐冷しながら約7℃に冷却した。窒素気
流下でナフトヒI“ロキノンスラリーを濾過して、ナフ
トヒドロキノン記ケーキを取り出し、IOLロータリー
エバポレーターで減圧下で乾燥し、ナフトヒドロキノン
3.1hを得た。 ゛このナフトヒドロキノン
結晶は、約50 X 1000μ程度の粒径の良く揃っ
た白色の結晶であった。該結晶の融点は190.4°C
であった。純度は、該結晶をシリル化したのちガスクロ
マトグラフで分析した結果、99.4χであり、液体ク
ロマトグラフで分析したが他の成分は検出されなかった
。
該ナフトヒドロキノンの結晶を100日間保存したが、
外観及び純度に何の変化も見られなかった。
外観及び純度に何の変化も見られなかった。
実施例 2
実施例1において、クロロホルムをトリクロルエチレン
に代えた以外は実施例1と同様に実施したが、実施例1
と殆ど同様の結果を得た。
に代えた以外は実施例1と同様に実施したが、実施例1
と殆ど同様の結果を得た。
実施例 3
実施例1において、クロロボルムに代えて0−キシレン
を使用した以外は実施例1と同様に実施した。ナフトヒ
ドロキノンの収量は3.2 Kg、その融点は190.
0℃、その純度は99.2χであったが、結晶の着色に
ついては実施例1の方か優れていた。
を使用した以外は実施例1と同様に実施した。ナフトヒ
ドロキノンの収量は3.2 Kg、その融点は190.
0℃、その純度は99.2χであったが、結晶の着色に
ついては実施例1の方か優れていた。
実施例 4
ナフトキノンの接触水素還元、減圧乾固することによっ
て得られたナフトヒドロキノン(純度約94χ)3.5
gを121のメタノールに50℃で溶解し、次いで減圧
濃縮し、約1比のメタノールを留去した。残りのナフト
ヒドロキノンとメタノールとの混合物に常温で6Lのク
ロロホルムを加えて、よく攪拌したのち、7℃に冷却し
てこのスラリーを濾過した。
て得られたナフトヒドロキノン(純度約94χ)3.5
gを121のメタノールに50℃で溶解し、次いで減圧
濃縮し、約1比のメタノールを留去した。残りのナフト
ヒドロキノンとメタノールとの混合物に常温で6Lのク
ロロホルムを加えて、よく攪拌したのち、7℃に冷却し
てこのスラリーを濾過した。
得られたナフトヒドロキノンの収量は3.0Kg 、融
点は190゜4℃及び純度は99.4χであった。
点は190゜4℃及び純度は99.4χであった。
比較例 1
実施例1と同様の方法で接触水素還元し、次いで触媒を
濾過した反応液を窒素気流下で、減圧乾燥した。得られ
たナフトヒドロキノン結晶は、タール状の不純物が付着
し、外観は褐色を呈し、その融点は185℃、純度は9
4.2χてあった。
濾過した反応液を窒素気流下で、減圧乾燥した。得られ
たナフトヒドロキノン結晶は、タール状の不純物が付着
し、外観は褐色を呈し、その融点は185℃、純度は9
4.2χてあった。
比較例 2
比較例1と同様の反応液をナフトヒドロキノンが60重
量%になるまで減圧濃縮し、冷却したのち、ナフトヒド
ロキノン結晶を厳密な窒素気流下で濾過し、乾燥した。
量%になるまで減圧濃縮し、冷却したのち、ナフトヒド
ロキノン結晶を厳密な窒素気流下で濾過し、乾燥した。
ナフトヒドロキノンの収量は0.8 Kg、融点は19
0.1°C1純度は99.1%であった・ 上記処理では、収率が22.6χと低く工業的ではない
ので、収量を高めるために、上記の濃縮液に水6.3
Lを徐々に注加することにより、さらにナフト上1′ロ
キノンを晶出させた。
0.1°C1純度は99.1%であった・ 上記処理では、収率が22.6χと低く工業的ではない
ので、収量を高めるために、上記の濃縮液に水6.3
Lを徐々に注加することにより、さらにナフト上1′ロ
キノンを晶出させた。
晶出したナフトヒドロキノンの結晶を濾過し、乾燥した
。得られたナフトヒドロキノンの結晶は極めて細かい(
10〜40μ)ものでナフトヒドロキノンの収量は3.
35Kg、融点は187℃、純度は95.4χであった
。該結晶を30日間保持したところ、表面が黒紫色とな
り、純度が低下した。
。得られたナフトヒドロキノンの結晶は極めて細かい(
10〜40μ)ものでナフトヒドロキノンの収量は3.
35Kg、融点は187℃、純度は95.4χであった
。該結晶を30日間保持したところ、表面が黒紫色とな
り、純度が低下した。
比較例 3
実施例1と同様な原料ナフトキノン40g、ヘンゼン2
00m1、水294gを混合し、20〜30℃で無水ハ
・イトロサルファイト63gを加え、よく攪拌した。得
られたナフト上1′ロギノン結晶を濾過し、その淘ケー
キを純水100m1で濾斗上で洗浄した。
00m1、水294gを混合し、20〜30℃で無水ハ
・イトロサルファイト63gを加え、よく攪拌した。得
られたナフト上1′ロギノン結晶を濾過し、その淘ケー
キを純水100m1で濾斗上で洗浄した。
この湿ケーキを窒素気流中で減圧乾燥して、ナフトヒド
ロキノン38.5g(純度82.5χ)を得た。
ロキノン38.5g(純度82.5χ)を得た。
得られたナフトヒドロキノンの結晶は極めて細かい(1
0〜40μ)もので濾過性が悪く、無機のスルホン酸塩
が混入していた(エーテル不溶分1.1χ)。該結晶の
外観はうず桃色であった。
0〜40μ)もので濾過性が悪く、無機のスルホン酸塩
が混入していた(エーテル不溶分1.1χ)。該結晶の
外観はうず桃色であった。
該結晶を30日間保存したところ、表面が黒紫色となり
、純度が低下した。
、純度が低下した。
特許出願人 川崎化成工業株式会社
代表者 丸 川 博 ゛、
Claims (3)
- (1)ナフトキノンを水素化触媒の存在下で接触水素還
元して得られたナフトヒドロキノンを、極性溶媒と非極
性溶媒との存在下に処理することを特徴とするナフトヒ
ドロキノンの製造法。 - (2)ナフトヒドロキノンを極性溶媒で処理し、次いで
該混合物を非極性溶媒で処理することからなる特許請求
の範囲第1項記載の方法。 - (3)ナフトキノンを極性溶媒と水素化触媒の存在下で
接触水素還元し、該反応混合物から該触媒を分離した該
濾液を濃縮し、又は濃縮することなくして得られたナフ
トヒドロキノンと極性溶媒の混合物を非極性溶媒で処理
することからなる特許請求の範囲第1項又は第2項記載
の方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59157608A JPS6136236A (ja) | 1984-07-30 | 1984-07-30 | ナフトヒドロキノンの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59157608A JPS6136236A (ja) | 1984-07-30 | 1984-07-30 | ナフトヒドロキノンの製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6136236A true JPS6136236A (ja) | 1986-02-20 |
JPH0475897B2 JPH0475897B2 (ja) | 1992-12-02 |
Family
ID=15653443
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59157608A Granted JPS6136236A (ja) | 1984-07-30 | 1984-07-30 | ナフトヒドロキノンの製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6136236A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015039686A (ja) * | 2013-08-23 | 2015-03-02 | 内山 俊一 | 水素活性化触媒 |
CN107614473A (zh) * | 2015-05-27 | 2018-01-19 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 羟基取代芳香族化合物的制造方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4852727A (ja) * | 1971-11-05 | 1973-07-24 | ||
JPS4852729A (ja) * | 1971-11-05 | 1973-07-24 | ||
JPS4891024A (ja) * | 1972-03-03 | 1973-11-27 |
-
1984
- 1984-07-30 JP JP59157608A patent/JPS6136236A/ja active Granted
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4852727A (ja) * | 1971-11-05 | 1973-07-24 | ||
JPS4852729A (ja) * | 1971-11-05 | 1973-07-24 | ||
JPS4891024A (ja) * | 1972-03-03 | 1973-11-27 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015039686A (ja) * | 2013-08-23 | 2015-03-02 | 内山 俊一 | 水素活性化触媒 |
CN107614473A (zh) * | 2015-05-27 | 2018-01-19 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 羟基取代芳香族化合物的制造方法 |
JPWO2016190044A1 (ja) * | 2015-05-27 | 2018-03-15 | 三菱瓦斯化学株式会社 | ヒドロキシ置換芳香族化合物の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0475897B2 (ja) | 1992-12-02 |
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---|---|---|---|
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