JPS6134934A - シリコンウエハの装填方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、半導体装置製造工程の酸化・拡散等の熱処
理工程における炉芯管へのシリコンウェハの装填方法に
関するものであり、特にシリコンウェハに均一な熱処理
を施すことができるようにしたシリコンウェハの装填方
法に関するものである。

〔従来の技術〕

従来の半導体装置製造工程の酸化・拡散等の熱処理工程
における炉芯管へのシリコンウェハの装填方法を第４図
に示す。

第４図は炉芯管１内にシリコンウェハ（以下単にウェハ
という）２を装填した状態番示しており、前記ウェハ２
をボート３上に立載した後、該ボート３を前記炉芯管１
内に導入することにより、前記炉芯管１内に前記ウェハ
２を装填するものである。

このとき前記ウェハ２の中心は前記炉芯管１の長手方向
からみた中心とほぼ一致するように装填される。

これは、前記炉芯管１の中心に前記ウェハ２を装填すれ
ば均一な熱処理が行えるという考え方によるものである
。

〔発明が解決しようとする問題点〕

しかしながら、ウェハの大口径化にともなって、このよ
うな構成では必ずしも炉芯管内のガスの流れが均一とな
らず、むしろ均一性が悪くなるという問題点がでてきた
。

これを第６図を用いて説明する。図において、縦軸はウ
ェハを酸化したときの酸化膜厚を、横軸ば炉芯管の長手
方向のウェハ装填位置を示し、Ａ。

Ｂ、Ｃ点は図に示すようにそれぞれ長手方向からみた前
記炉芯管内の上側、中心、下側の位置を示し、ａ、ｂ、
ｃはそれぞれ前記Ａ、Ｂ、Ｃ点における値を示す。

第６図でわかるように、前記炉芯管の炉口側に位置する
ウェハは前記Ａ点とＢ点との酸化膜厚差が大きい。該酸
化膜厚差は炉奥側に向かうに従って減少してはいるもの
の、炉口側１／３程度の位置においては前記酸化膜厚差
はかなり大きく、ウェハ内酸化膜均−性が悪い。

これは第５図にしめすように、ガスの大部分が炉芯管１
上部をながれてしまい、全てのウェハ２に均一にガスが
まわり込まないためである。

これでは、このような装置を用いた大口径ウェハの大量
処理は不可能となってくる。

〔問題点を解決するための手段〕 この発明は、上記問題点を解決するため、ボートにウェ
ハを立載して前記ボートを炉芯管内に導入するようにし
たシリコンウェハの装填方法において、前記炉芯管の長
手方向からみた中心より前記ウェハの中心が上方に位置
するように、該ウェハを前記ボートに立載するようにし
たものである。

〔作　用〕

この発明では、炉芯管の長手方向からみた中心よりウェ
ハの中心が上方に位置しているので、該ウェハ自体によ
り、炉芯管上部を流れるガスを前記ウェハ間にまわり込
ませることとなり、ガスが均一に分布することとなる。

これにより、ウェハ内膜厚均一性が向上するものである
。

〔実施例〕

この発明の一実施例を図面を用いて説明する。

第１図は炉芯管１内にウェハ２を装填した状態を示して
おり、前記ウェハ２をボート４上に立載した後、該ボー
ト４を前記炉芯管１内に導入することにより、前記炉芯
管１内に前記ウェハ２を装填することば従来（第４図）
と同様であるが、前記ボート４は前記ウェハ２を高い位
置（この例では１〜２ｃｍ程度）に支持するよう形成さ
れている。

したがって、前記炉芯管１内において前記ウェハ２の中
心は前記炉芯管１の中心より１〜２ｃｍ高い位置をとる
ことなる。

このため第２図に示すように、前記ウェハ２自体がガス
の流れを炉芯管１内で均一にさせる言わばバッフル板の
ように作用する。

この作用により第３図に示すように、ウェハ内膜厚均一
性が、特に炉芯管１゛の炉口側において大幅に向上する
。なお、この第３図においては、縦軸はシリコンウェハ
を酸化したときの酸化膜厚を、横軸は炉芯管の長手方向
のウェハ装填位置を示し、Ａ、Ｂ、Ｃ点は図に示すよう
にそれぞれ長手方向からみた前記炉芯管内の上側、中心
、下側の位置を示し、ａ、、ｂ、ｃはそれぞれ前記Ａ、
Ｂ、Ｃ点における値を示す。

〔発明の効果〕

以上説明したように、この発明では、炉芯管の長手方向
からみた中心よりウェハの中心を上方に位置させている
ので、炉芯管上部を流れるガスが前記ウェハ間にまわり
込み、均一に分布するのて、ウェハ内膜厚均一性が、特
に炉芯管の炉口側において大幅に向上するという効果が
ある。

また該効果により、特に薄い厚さの膜（ゲート酸化膜等
）の形成の大量処理を行う場合など大いに有利であると
共に、ウニへの大口径化にともない非常に有効なものと
なるという効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は発明の一実施例を示す断面図、第２図は発明の
一実施例の作用の説明用断面図、第３図は発明の効果を
示す図、第４図、第５図、第６図は従来技術を示す図で
ある。 １：炉芯管、２：ウェハ、４：ボート、Ａ−Ｂ・Ｃ点：
それぞれ炉芯管内の上側・中心・下側の点、ａ　−ｂ　
−ｃ：　それぞれＡ−Ｂ−Ｃ点の値を示すグラフ線。 特許出願人　　沖電気工業株式会社 第３図 炉に管上１則 □太Ｆ’ｆｆ頂す　　　　　　　　　　　　　　　　力
四にイ則　□第４図 １Ｉ６図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. ボートにウェハを立載して前記ボートを炉芯管内に導入
   するようにしたシリコンウェハの装填方法において、前
   記炉芯管の長手方向からみた中心より前記ウェハの中心
   が上方に位置するように、該ウェハを前記ボートに立載
   するようにしたことを特徴とするシリコンウェハの装填
   方法。