JPS61292392A - Manufacture of ceramic wiring board - Google Patents

Manufacture of ceramic wiring board

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JPS61292392A
JPS61292392A JP60134546A JP13454685A JPS61292392A JP S61292392 A JPS61292392 A JP S61292392A JP 60134546 A JP60134546 A JP 60134546A JP 13454685 A JP13454685 A JP 13454685A JP S61292392 A JPS61292392 A JP S61292392A
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wiring board
ceramic wiring
green sheet
temperature
paste
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勉 西村
誠一 中谷
徹 石田
聖 祐伯
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/0306Inorganic insulating substrates, e.g. ceramic, glass

Landscapes

  • Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、IC,LSI 、チップ部品などを搭載し、
かつそれらを相互配線した回路の高密度実装用基板とし
て用いることのできる高放熱性のセラミック配線基板の
製造方法に関するものである。
[Detailed Description of the Invention] Industrial Application Field The present invention is a device equipped with an IC, an LSI, a chip component, etc.
The present invention also relates to a method of manufacturing a ceramic wiring board with high heat dissipation that can be used as a board for high-density mounting of interconnected circuits.

従来の技術 今日、コンピュータ、通信機器はもとより、民生機器に
到るまで、小型、軽量化、高速化、高倍 ゛軸性化に対
する要求が極めて大きい。これらに用いられる半導体は
チップの高集積化、マルチチップ・モジュール化、ある
いは高出力化の方向に急速に進んでいる。これに対応し
て半導体を実装する基板にも、増大する素子の発熱にど
のように対処するかが大きな問題となっている。
BACKGROUND OF THE INVENTION Today, there is an extremely high demand for smaller size, lighter weight, higher speed, and higher axial power in not only computers and communication equipment but also consumer equipment. The semiconductors used in these devices are rapidly progressing toward higher chip integration, multi-chip modularization, and higher output. Correspondingly, how to deal with the increasing heat generation of elements has become a major problem for substrates on which semiconductors are mounted.

従来より、高放熱性の基板としては、BeO基板、やホ
ーロー基板、メタルコア基板が一般的に用いられてきた
。しかしながら、BeOは、アルミナの10倍以上の熱
伝導率を持つ材料であるが、毒性があり用途が限られ、
さらに高価であるという問題を有している。
Conventionally, BeO substrates, hollow substrates, and metal core substrates have been commonly used as substrates with high heat dissipation properties. However, although BeO is a material with a thermal conductivity more than 10 times that of alumina, it is toxic and has limited applications.
Furthermore, it has the problem of being expensive.

次に、ホーロー基板は、低炭素鋼板の表面をホ−ローエ
ナメルでコートし、その上に導体ペーストで配線パター
ンを形成したものであるが、ホーローエナメルの融点が
低いため、焼成温度が550〜600℃と低く、その様
に低い温度での燃成で十分な電気的緒特性を有する導体
ペーストが無いというのが現状である。さらに、基板の
周辺や、スルーホールの周辺が盛り上がっているためこ
の付近への印刷が難しい、ホーローに含まれるアルカリ
金属イオンのマイグレーション、小型のものではコスト
メリットが少ない等の問題を有している。
Next, the enamel board is made by coating the surface of a low carbon steel plate with enamel and forming a wiring pattern with conductive paste on top of it, but since the melting point of enamel is low, the firing temperature is 550~550℃. The current situation is that there is no conductive paste that has sufficient electrical characteristics when burned at such a low temperature of 600°C. Furthermore, there are other problems, such as the raised areas around the substrate and through-holes, making it difficult to print in these areas, migration of alkali metal ions contained in the enamel, and small cost benefits. .

最後に、メタルコア基板は、Fe板の表面をエポキシ樹
脂でコートし、その上にCu箔をはりつけその後、エツ
チングにより配線パターンを形成するというものである
。しかし、エポキシ樹脂を使用するという事で、耐熱性
が低い、エツチング液を使用するための廃液処理の問題
、さらには、スルーホールを介しての両面実装は可能な
ものの、片面での多層配線構造をとれないという問題を
有している。
Finally, the metal core substrate is produced by coating the surface of an Fe plate with epoxy resin, pasting Cu foil thereon, and then forming a wiring pattern by etching. However, since epoxy resin is used, it has low heat resistance, and there are problems with waste disposal due to the use of etching liquid.Furthermore, although double-sided mounting is possible via through holes, multilayer wiring structure is required on one side. The problem is that it cannot be taken.

そこで、第6図に示す様に、Co粉と有機バインダから
なるCuグリーンシートを基板とし、その上にガラス、
セラミック等の絶縁物と有機バインダからなるペースト
をスクリーン印刷して絶縁層を形成し、さらにこの上に
Co粉と有機バインダからなるCuペーストをスクリー
ン印刷してCu回路パターンを形成した後、N2中で焼
成するという方法が提案された。
Therefore, as shown in Figure 6, a Cu green sheet made of Co powder and an organic binder is used as a substrate, and glass and
A paste made of an insulator such as ceramic and an organic binder is screen printed to form an insulating layer, and then a Cu paste made of Co powder and an organic binder is screen printed on top of this to form a Cu circuit pattern. A method of firing was proposed.

(文献名 例えば、特開昭55−107295号公報)
この方法によって、900℃前後の温度で焼成可能な、
アルミナ基板用の導体ペーストを使用する事が出来るよ
うになった。
(Literature name, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 107295/1983)
This method allows firing at a temperature of around 900°C.
It is now possible to use conductor paste for alumina substrates.

発明が解決しようとする問題点 しかしながら、上記、特開昭55−107295号公報
の様な方法を用いたのでは、その製造過程において、大
きな問題点がある。それは、焼成をN2雰囲気中で行な
った場合、Cuグリーンシート、絶縁ペーストおよびC
uペースト中の有機成分が完全に燃焼除去されないとい
う事である。そのために、N2に02を加えた雰囲気で
焼成しなければならないのであるが、Cuを酸化させず
、なおかつ有機成分を完全に燃焼除去させる様な酸素分
圧に炉内を制御するという事が非常に困難である。酸素
分圧が高ければ、Cu表面が酸化され、ハンダ付は性が
悪くなり、また導電性の低下にもつながる。逆に、酸素
分圧が低過ぎれば、前記の様に有機成分が完全に燃焼除
去されないということとなる。特にCuの融点以下の温
度では、有機バインダは分解しないといわれている。(
文献名 例えば、特開昭55−128899号公報)さ
らに、残存する有機成分によって、良好なメタライズの
接着が得られない、熱放散性が劣るなどの問題を有して
いる。
Problems to be Solved by the Invention However, using the method disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 55-107295, there are major problems in the manufacturing process. It can be used for Cu green sheet, insulating paste and C
This means that the organic components in the u-paste are not completely removed by combustion. For this purpose, firing must be carried out in an atmosphere containing N2 and 02, but it is extremely important to control the oxygen partial pressure in the furnace to a level that does not oxidize the Cu and allows the organic components to be completely burned off. It is difficult to If the oxygen partial pressure is high, the Cu surface will be oxidized, resulting in poor soldering properties and a decrease in electrical conductivity. Conversely, if the oxygen partial pressure is too low, the organic components will not be completely burned off as described above. It is said that organic binders do not decompose especially at temperatures below the melting point of Cu. (
(Literature (for example, Japanese Unexamined Patent Publication No. 55-128899)) Further, due to the remaining organic components, there are problems such as poor adhesion of metallization and poor heat dissipation.

また、金属Cuを用いた場合、たとえ脱バインダの工程
と、Cu焼付けの工程を分けたとしても、金属Cuが脱
バインダの工程で酸化され、体積膨張を起こし、さらに
焼成時に還元され金属Cuにもどるための体積変化で導
体層の剥離等を生ずるという問題がある。
In addition, when using metal Cu, even if the binder removal process and the Cu baking process are separated, the metal Cu is oxidized in the binder removal process, causing volumetric expansion, and is further reduced during firing to become metal Cu. There is a problem that the conductor layer may peel off due to the change in volume due to returning to its original state.

問題点を解決するための手段 上記問題点を解決するために、本発明のセラミック配線
基板の製造方法においては、脱バインダ温度、還元工程
、焼成工程を分離しておこなった。
Means for Solving the Problems In order to solve the above-mentioned problems, in the method for manufacturing a ceramic wiring board of the present invention, the binder removal temperature, the reduction process, and the firing process are performed separately.

そして、脱バインダは、炭素に対して充分な酸化性雰囲
気で行なった。これによって、雰囲気制御が極めて容易
となり、かつグリーンシート、絶縁ペーストおよび導体
ペースト中の有機成分を完全に燃焼除去する事が出来る
構成とした。だから、従来例の様に、グリーンシートお
よび導体ペーストの無機成分として、Cuの様な卑金属
物を用いたのでは、金属から金属酸化物(例えば、Cu
→Cub)への変化を生じ、体積変化により導体層の剥
離等の原因となる。よって、室温から脱バインダ温度ま
での温度範囲内で、炭素に対して充分な酸化性雰囲気で
安定なCub、 Few 03 、C00% NiOを
、グリーンシートおよび導体ペーストの無機成分として
用いた。
The binder was removed in an atmosphere sufficiently oxidizing to carbon. As a result, the atmosphere can be controlled extremely easily, and the organic components in the green sheet, insulating paste, and conductive paste can be completely burned off. Therefore, if a base metal such as Cu is used as the inorganic component of the green sheet and conductive paste as in the conventional example, metal oxides (such as Cu
→Cub), and the volume change causes peeling of the conductor layer. Therefore, Cub, Few 03 , and C00% NiO, which are stable in a sufficiently oxidizing atmosphere with respect to carbon within the temperature range from room temperature to the debinding temperature, were used as the inorganic components of the green sheet and the conductive paste.

なお、本発明のセラミック配線基板の構造は、Cub、
 Fez off 、CooSNiO等と有機成分から
なるグリーンシート上に、ガラスまたはガラス−セラミ
ックからなる絶縁ペーストおよび前記金属酸化物からな
る導体ペーストを、所望の層数、厚膜印刷法によって、
印刷、積層したものである。上記の構造を有するセラミ
ック配線基板を、脱バインダの後、ガラス軟化点以下の
温度でN2 +H。
Note that the structure of the ceramic wiring board of the present invention is Cub;
An insulating paste made of glass or glass-ceramic and a conductive paste made of the metal oxide are applied to a desired number of layers by a thick film printing method on a green sheet made of Fezoff, CooSNiO, etc. and an organic component.
It is printed and laminated. After removing the binder, the ceramic wiring board having the above structure was heated with N2 +H at a temperature below the glass softening point.

雰囲気中で還元し、さらに、その後、N2雰囲気中で焼
成し焼結させるものである。
The material is reduced in an atmosphere, and then fired and sintered in an N2 atmosphere.

作用 本発明は、上記した様に、脱バインダ温度、還元工程、
焼成工程を分離しておこなうため、卑金属を導体層とし
たセラミック配線基板作製の最大の問題点である有機成
分の除去を完全に行なう事が出来る。
Function As described above, the present invention is characterized in that the binder removal temperature, the reduction process,
Since the firing process is performed separately, it is possible to completely remove organic components, which is the biggest problem in producing ceramic wiring boards using base metal as a conductor layer.

また、グリーンシート、導体ペーストの無機成分として
、卑金属酸化物を用いたため、卑金属物を用いた場合の
様に、金属から金属酸化物の変化による体積変化を心配
する必要もない。なお、金属酸化物としては、種々考え
られるが、室温から、脱バインダ温度までの温度範囲に
おいて、体積変化(例えば、収縮、膨張、結晶変態によ
る)、昇華、不要拡散等をおこさないものが望ましく、
WO2、Mo01、の様に、酸化性雰囲気中で熱処理し
た場合に昇華する様なものは不適当である。
Furthermore, since base metal oxides are used as the inorganic components of the green sheets and conductor pastes, there is no need to worry about volume changes due to changes from metals to metal oxides, unlike when base metals are used. Although various metal oxides can be used, it is desirable to use one that does not cause volume change (for example, due to contraction, expansion, crystal transformation), sublimation, unnecessary diffusion, etc. in the temperature range from room temperature to the debinding temperature. ,
Materials such as WO2 and Mo01, which sublimate when heat treated in an oxidizing atmosphere, are unsuitable.

そのため脱バインダ温度でも安定なCub、 Fez 
03、Coo、NiOが、グリーンシート、導体ペース
ト用の無機成分として適している。
Therefore, Cub and Fez are stable even at debinding temperatures.
03, Coo, and NiO are suitable as inorganic components for green sheets and conductive pastes.

また、以上の様な酸化物を組み合わせた場合が考えられ
るが、CO5Fe、Co、Niは、それぞれを混合し、
合金化しても融点を下げる例が少なく、たとえ下げても
わずかなため、酸化物を混合したものを無機成分として
も効果があるのは明らかである。さらに、グリーンシー
トと導体ペーストに、異なった金属酸化物を使用した構
成にするのも有効である。その例として、グリーンシー
トに用いた金属酸化物に関係なく、上層用導体ペースト
として、CuO1NiOを用いれば直接ハンダ付は可能
なセラミック配線基板が作製出来る。
In addition, it is possible to combine the above oxides, but CO5Fe, Co, and Ni can be mixed together,
Even when alloyed, there are few cases in which the melting point is lowered, and even if it is lowered, it is only a small amount, so it is clear that an inorganic component mixed with an oxide is also effective. Furthermore, it is also effective to use different metal oxides for the green sheet and conductive paste. For example, regardless of the metal oxide used for the green sheet, if CuO1NiO is used as the upper layer conductor paste, a ceramic wiring board that can be directly soldered can be produced.

なお、脱バインダは、絶縁ペーストの無機成分であるガ
ラスの軟化点以下の温度で行なう。なぜなら、軟化点以
上の温度で行なった場合、金属酸化物が絶縁層の内部に
密閉され1.そのため、還元工程によっても金属に還元
されず、導体抵抗が無限大となる。さらに、不要な拡散
をまねくことになり絶縁特性を下げる等の問題を生ずる
こととなるからである。
Note that the binder removal is performed at a temperature below the softening point of glass, which is an inorganic component of the insulating paste. This is because, if the temperature is higher than the softening point, the metal oxide is sealed inside the insulating layer.1. Therefore, it is not reduced to metal even in the reduction process, and the conductor resistance becomes infinite. Furthermore, unnecessary diffusion may occur, resulting in problems such as deterioration of insulation properties.

次に還元工程であるが、これも同様に、ガラスの軟化点
以下の温度で行ない、絶縁層中に金属酸化物が閉じ込め
られる事を防ぐ必要がある。絶縁ペーストの無機成分と
しては、卑金属と化学的に不活性であること、そのため
には熱力学的に安定である事が望ましく、例えばPbO
の様に還元によってpbになるものは不適当である。
Next is the reduction step, which also needs to be carried out at a temperature below the softening point of the glass to prevent metal oxides from being trapped in the insulating layer. The inorganic component of the insulating paste should preferably be chemically inert with base metals and thermodynamically stable, such as PbO.
Those that become PB upon reduction are unsuitable.

最後に、焼成工程であるが、雰囲気はN2中で行なう。Finally, the firing step is carried out in N2 atmosphere.

それ°によって、非常にメタライズ性が良いセラミック
配線基板が作製できる。もし還元性雰囲気で行なった場
合、導体層と絶縁層との間のねれが悪く、良好なメタラ
イズ性が得られない。
By doing so, a ceramic wiring board with very good metallization properties can be produced. If it is carried out in a reducing atmosphere, the twisting between the conductive layer and the insulating layer will be poor and good metallization properties will not be obtained.

実施例 (実施例1) 市販のCuO粉100部に対して、バインダーとしてポ
リビニルブチラールを10部、可塑剤として、ジブチル
フタレートを8部、溶剤として、イソプロピルアルコー
ルを50部加えたものをスラリー状に混練し、その後、
ドクターブレード法で造膜し、乾燥させ厚みが約1籠の
グリーンシートを作成した。このグリーンシート上に2
00メツシユのスクリーンを用い、絶縁ペーストを印刷
し、乾燥させた。なお、絶縁ペーストは、無機成分とし
て、ホウケイ酸ガラス粉末11kl  (平均粒径約3
.0μm二組成は第1表に示す。)とアルミナ粉末を重
量比1対1となる様に配合したものを用い、さらにこの
混合粉に、テレピン油とエチルセルロースからなるビヒ
クルを加え、三段ロールによって適当な粘度に混練した
ものである。
Example (Example 1) To 100 parts of commercially available CuO powder, 10 parts of polyvinyl butyral as a binder, 8 parts of dibutyl phthalate as a plasticizer, and 50 parts of isopropyl alcohol as a solvent were added to form a slurry. Knead and then
A film was formed using a doctor blade method and dried to create a green sheet with a thickness of about 1 basket. 2 on this green sheet
The insulation paste was printed using a 00 mesh screen and dried. The insulating paste contains 11kl of borosilicate glass powder (average particle size: approx. 3cm) as an inorganic component.
.. The 0 μm composition is shown in Table 1. ) and alumina powder in a weight ratio of 1:1, a vehicle consisting of turpentine oil and ethyl cellulose was added to this mixed powder, and the mixture was kneaded with three-stage rolls to an appropriate viscosity.

絶縁ペースト乾燥後、CuOに前記絶縁ペーストに用い
たものと同一のビヒクルを加え、適当な粘度に調製した
導体ペーストを250メツシユのスクリーンを用い、印
刷し、乾燥させた。乾燥後、導体層は10μm以上の厚
みを有していた。導体印刷後の未焼成セラミツク配線基
板の断面図を第1図に示した。次にこの乾燥済基板を、
空気巾約650℃の温度で脱バインダを行なった。なお
、この脱バインダの温度や雰囲気の設定については、あ
らかじめ、使用する有機バインダの空気中での熱分析を
行ない、バインダ除去が完全に行なわれるかどうかを確
認して設定されるものである。従ってバインダの種類に
よっては、多少分解温度が異なるので、おのずと脱バイ
ンダ時の温度プロファイルも異なってくるのは当然であ
る。
After drying the insulating paste, the same vehicle as that used for the insulating paste was added to CuO, and a conductive paste adjusted to an appropriate viscosity was printed using a 250 mesh screen and dried. After drying, the conductor layer had a thickness of 10 μm or more. A cross-sectional view of the unfired ceramic wiring board after conductor printing is shown in FIG. Next, this dried substrate
Binder removal was carried out at a temperature of about 650°C in an air width. Note that the temperature and atmosphere for this binder removal are determined by conducting a thermal analysis of the organic binder used in air in advance to confirm whether or not the binder is completely removed. Therefore, since the decomposition temperature differs depending on the type of binder, it is natural that the temperature profile during binder removal also differs.

次にこの脱バインダ済基板を第3図に示す様な温度プロ
ファイルで、Nz + Hz  (Hz / Nz =
20/80 :流量212 /min、)の雰囲気で還
元し、続いて、第4図に示す温度プロファイルで、N2
雰囲気中で焼成した。その結果CuOのグリーンシート
および導体ペーストは金属Cuに完全に還元され、さら
に有機成分が完全に燃焼除去された緻密な熱放散性の良
い、セラミック配線基板が作製できた。
Next, this debinding substrate is heated to Nz + Hz (Hz / Nz =
20/80: Reduction in an atmosphere with a flow rate of 212/min,), and then N2 with the temperature profile shown in Figure 4.
Fired in an atmosphere. As a result, the CuO green sheet and the conductive paste were completely reduced to metal Cu, and furthermore, the organic components were completely burned off, making it possible to produce a dense ceramic wiring board with good heat dissipation properties.

この焼結済セラミック配線基板の断面図を第2図に示し
た。
A cross-sectional view of this sintered ceramic wiring board is shown in FIG.

(1′人下4メbン 第1表 (実施例2) 実施例1で作製したCuOグリーンシートおよびCuO
ペーストをCuOのかわりにNiOを用い、同様の手順
で、セラミック配線基板の作製を行なった。
(4 members under 1' Table 1 (Example 2) CuO green sheet produced in Example 1 and CuO
A ceramic wiring board was manufactured in the same manner using NiO instead of CuO as the paste.

ただし、絶縁ペーストの無機成分としては、ホウケイ酸
ガラス粉末隘2(平均粒径、約3.2μm二組成は第1
表に示す。)とアルミナ粉末を重量比3対7となる様に
配合したものを用いた。また、焼成温度は、第5図に示
す様な温度プロフィルを用いた。この様にして作製した
セラミック配線基板も実施例1の場合と同様に、NiO
は完全に金属Niに還元され、さらに有機成分が完全に
燃焼除去された緻密な熱放散性にすぐれたものであった
However, the inorganic component of the insulating paste is borosilicate glass powder (average particle size, approximately 3.2 μm).
Shown in the table. ) and alumina powder in a weight ratio of 3:7. Further, the firing temperature used a temperature profile as shown in FIG. The ceramic wiring board produced in this way was also made of NiO
was completely reduced to metallic Ni, and furthermore, the organic components were completely burned off, resulting in a compact product with excellent heat dissipation properties.

以上の様に、今回の実施例1,2においては、導体ペー
ストを一層だけ印刷したが、これは、絶縁ペーストの印
刷、乾燥、さらに導体ペーストの印刷、乾燥を所望の回
数繰り返し行ない、多層化した場合においても同様の結
果が得られている。
As described above, in Examples 1 and 2, only one layer of conductive paste was printed, but this could be done by printing and drying the insulating paste, and then repeating the printing and drying of the conductive paste as many times as desired to create a multilayer structure. Similar results were obtained in this case.

発明の効果 以上述べた様に、本発明の脱バインダ時程により、グリ
ーンシート、絶縁ペースト、および導体ペースト中の有
機成分を完全に除去する事が出来、また、焼成工程をN
2雰囲気中で行なう事により、非常にメタライズ性にす
ぐれた、セラミック配線基板を作製出来る。また、導体
の出発原料として、Cub、 Fez Ox 、Coo
、NiO等の卑金属酸化物を用いるため、極めて低コス
ト化がはかれる。さらに、本発明のセラミック配線基板
は、金属板層を存するため極めて放熱性が良く、工業的
に極めて効果的な発明である。
Effects of the Invention As described above, the binder removal process of the present invention can completely remove the organic components in the green sheet, insulating paste, and conductive paste, and also reduces the firing process to N.
By carrying out the process in a 2 atmosphere, a ceramic wiring board with very good metallization properties can be produced. In addition, as starting materials for conductors, Cub, Fez Ox, Coo
Since base metal oxides such as , NiO, etc. are used, the cost can be extremely reduced. Further, since the ceramic wiring board of the present invention includes a metal plate layer, it has extremely good heat dissipation properties, and is an industrially extremely effective invention.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は、実施例1の未焼成セラミツク配線基板の断面
図、第2図は、実施例1の焼成後のセラミック配線基板
の断面図、第3図は、実施例1の還元工程の温度プロフ
ァイル、第4図は、実施例1の焼成工程の温度プロファ
イル、第5図は、実施例2の焼成工程の温度プロファイ
ル、第6図は、従来例を示す図である。 1・・・・・・CuOグリーンシート層、2・・・・・
・絶縁ペースト層、3・・・・・・CuOペースト層、
4・・・・・・CuO層、5・・・・・・絶縁層、6・
・・・・・Cuメタライズ層、7・・・・・・Cuグリ
ーンシート層、8・・・・・・絶縁ペースト層、9・・
・Cuペースト層。 代理人の氏名 弁理士 中尾敏男 はか1名第1図 、3 第3図 第4図
Fig. 1 is a cross-sectional view of the unfired ceramic wiring board of Example 1, Fig. 2 is a cross-sectional view of the ceramic wiring board after firing of Example 1, and Fig. 3 is the temperature of the reduction step of Example 1. FIG. 4 shows the temperature profile of the firing process of Example 1, FIG. 5 shows the temperature profile of the firing process of Example 2, and FIG. 6 shows the conventional example. 1... CuO green sheet layer, 2...
- Insulating paste layer, 3...CuO paste layer,
4... CuO layer, 5... Insulating layer, 6...
... Cu metallized layer, 7 ... Cu green sheet layer, 8 ... Insulating paste layer, 9 ...
・Cu paste layer. Name of agent: Patent attorney Toshio Nakao (1 person) Figures 1 and 3 Figure 3 Figure 4

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims]  ガラスまたはガラス−セラミックを無機成分とするグ
リーンシートもしくは絶縁ペーストと、CuOFe_2
O_3、CoO、NiOのうち少なくとも1種以上を無
機成分とする導体ペーストで、少なくとも1層以上の配
線を、CuO、Fe_2O_3、CoO、NiOのうち
少なくとも1種以上を無機成分とするグリーンシート上
に形成する工程と、前記未焼結配線基板を炭素に対して
充分な酸化雰囲気で、かつ内部の有機成分を熱分解させ
るに充分な温度で脱バインダする工程と、さらに、これ
をガラスの軟化点以下の温度で、還元雰囲気中において
熱処理する工程と、その後、窒素雰囲気中で焼結させる
工程とを有することを特徴とするセラミック配線基板の
製造方法。
A green sheet or insulating paste containing glass or glass-ceramic as an inorganic component, and CuOFe_2
At least one layer of wiring is formed using a conductive paste containing at least one of O_3, CoO, and NiO as an inorganic component on a green sheet containing at least one of CuO, Fe_2O_3, CoO, and NiO as an inorganic component. a step of debinding the unsintered wiring board in an oxidizing atmosphere sufficient for carbon and at a temperature sufficient to thermally decompose the internal organic components; A method for manufacturing a ceramic wiring board, comprising the steps of heat treatment in a reducing atmosphere at a temperature below, and then sintering in a nitrogen atmosphere.
JP60134546A 1985-06-20 1985-06-20 Manufacture of ceramic wiring board Granted JPS61292392A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60134546A JPS61292392A (en) 1985-06-20 1985-06-20 Manufacture of ceramic wiring board

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JP60134546A JPS61292392A (en) 1985-06-20 1985-06-20 Manufacture of ceramic wiring board

Publications (2)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01238191A (en) * 1988-01-22 1989-09-22 Pechiney Rech Group Interet Economique Copper or copper base alloy conductor and method of sintering the conductor and cordierite ceramic board simultaneously
JP2016204247A (en) * 2015-04-16 2016-12-08 サムソン エレクトロ−メカニックス カンパニーリミテッド. Insulator composition for ceramic package and manufacturing method therefor
JP2017218368A (en) * 2016-06-07 2017-12-14 サムソン エレクトロ−メカニックス カンパニーリミテッド. Insulator composition and method of manufacturing electronic component using the same

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