JPS6164189A - Method of producing ceramic multilayer circuit board - Google Patents

Method of producing ceramic multilayer circuit board

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JPS6164189A
JPS6164189A JP18677584A JP18677584A JPS6164189A JP S6164189 A JPS6164189 A JP S6164189A JP 18677584 A JP18677584 A JP 18677584A JP 18677584 A JP18677584 A JP 18677584A JP S6164189 A JPS6164189 A JP S6164189A
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oxide
nickel
cobalt
iron
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徹 石田
治 牧野
菊池 立郎
誠一 中谷
秀行 沖中
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  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、IC,LSI、チップ部品などからなる回路
の高密度実装用基板として用いることのできるセラミッ
ク多層配線基板ならびにその製造方法に関するものであ
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Field of the Invention The present invention relates to a ceramic multilayer wiring board that can be used as a board for high-density mounting of circuits including ICs, LSIs, chip components, etc., and a method for manufacturing the same.

従来例の構成とその問題点 近年、機器の小型化や多機能化の要望が年を追って強く
なってきているが、これらの要望に応えるため回路部品
の高密度実装が重要な技術となってきている。特に、I
C,LSIやチップ部品の発達に伴い回路の小型化は急
速に進展しつつある。
Conventional configurations and their problems In recent years, demands for smaller devices and more multi-functionality have become stronger over the years, and in order to meet these demands, high-density mounting of circuit components has become an important technology. ing. In particular, I
With the development of C, LSI and chip components, the miniaturization of circuits is progressing rapidly.

部品の高密度実装化には限られた面積のなかにできるだ
け多くの部品を塔載する必要があり、そのためには部品
を小型化するとともに部品を塔載する基板の有効面積を
大きくすることである。部品の有効塔載面積を太き(す
るには基板に形成される配線の密度を高(する必要があ
る。近年、前述したようにIC,LSI、チップ部品に
みられるように小型部品の進歩は大きい。一方、配線密
度を高くする方法としては、配線を十分にファイン・−
ラインにするか配線を多層構造にするかの方法がある。
In order to achieve high-density mounting of components, it is necessary to mount as many components as possible within a limited area.To do this, it is necessary to make the components smaller and to increase the effective area of the board on which the components are mounted. be. In order to increase the effective mounting area of components, it is necessary to increase the density of the wiring formed on the substrate.In recent years, as mentioned above, advances in small components have been seen in IC, LSI, and chip components. On the other hand, one way to increase the wiring density is to make the wiring sufficiently fine.
There are two methods: a line or a multilayer wiring structure.

配線をファインライン化するには印刷またはエツチング
技術を高度な方法で行う必要があるが、それにしてもそ
の程度には限度がある。配線密度を高くするのに最も効
果的なのは配線を多層化することである。
Creating fine-line wiring requires advanced printing or etching techniques, but even then there are limits to the extent to which they can be achieved. The most effective way to increase wiring density is to use multiple layers of wiring.

従来、多層構造を有する部品塔載用の基板としては有機
樹脂をベースとするものとセラミックをペースにするも
のとに代表される。これらのうち樹脂ベースのものは (1)第1図に示すように、基板内部の導体層間の導体
接続は、基板表裏に貫通孔を設け、この貫通孔の内壁に
メッキを施すことによって行っており内部導体層間の接
続箇所が多いとき、貫通孔の数も多くなり部品実装の有
効塔載面積が小さくなる。
Conventionally, substrates for mounting components having a multilayer structure are typified by those based on organic resin and those based on ceramic. Among these, resin-based ones (1) As shown in Figure 1, conductor connections between conductor layers inside the board are made by providing through holes on the front and back of the board and plating the inner walls of these through holes. When there are many connection points between the inner conductor layers, the number of through holes also increases, and the effective mounting area for component mounting becomes smaller.

(2)部品の塔載密度が高くなるにつれて、部品自体か
ら発熱するような場合、樹脂の熱伝導度が小さいため熱
の放散性が悪い。
(2) As the mounting density of parts increases, if heat is generated from the parts themselves, the heat dissipation is poor because the thermal conductivity of the resin is low.

(3)部品が例えばシリコンの半導体チップでありこれ
を基板に直付けしようとしたときシリコンと有機樹脂の
熱膨張係数の差が大きすぎるため信頼性面から樹脂基板
への半導体チップ直付けはむずかしい。
(3) If the component is, for example, a silicon semiconductor chip and you try to attach it directly to a substrate, the difference in thermal expansion coefficients between silicon and organic resin is too large, so it is difficult to attach the semiconductor chip directly to a resin substrate from a reliability standpoint. .

などの問題点があり、樹脂基板では高度の実装密゛度化
に対しては対応しきれない。
Due to these problems, resin substrates cannot cope with high mounting density.

一方、セラミックによる多層基板構成では第2図に示す
ように眉間の導体接続(ピア)が基板内部に形成できる
ことやセラミックの熱伝導度が樹脂に比べ格段に高いた
め熱の放散性にすぐれて℃・ること、さらには熱膨張係
数が小さくシリコンの熱膨張係数に近いためチップの直
付が可能であるなどの利点があり高密度実装用基板とし
て極めてすぐれた性質を有している。従来セラミックに
よる多層基板には大きく分けて2つの構成がある。
On the other hand, as shown in Figure 2, in a multilayer board configuration made of ceramic, conductor connections (piers) between the eyebrows can be formed inside the board, and the thermal conductivity of ceramic is much higher than that of resin, so it has excellent heat dissipation. -Furthermore, it has a small coefficient of thermal expansion close to that of silicon, so it has the advantage of being able to directly attach chips, making it extremely suitable as a substrate for high-density packaging. Conventional ceramic multilayer substrates can be roughly divided into two configurations.

七のひとつは焼結セラミック基板(例えばアルミナ基板
)上に金または銀−パラジウム系の導体ぺ゛ −ストと
ガラス絶縁ペーストを交互に印刷、焼成を繰り返し多層
化する方法である。この方法では、ビアが基板内部に形
成でき部品塔載の有効面積が広くなり高密度実装用基板
に適している。しかし、この構成では導体材料に金また
は銀−パラジウムのような貴金属を用いており、そのた
め高価なものとなっている。その結果、この構成による
セラミック多層基板は産業用機器などその使用は極限ら
れた分野にとどまり、民生用機器などへの応用の例がな
いのが実状である。また、セラミックを用いた多層基板
のもうひとつの例はアルミナを主成分とする無機粉末と
有機結合剤とからなるグリーンシート上にタングステン
またはモリブデンの導体ペーストを印刷し、乾燥後これ
らの複数枚を加熱、圧着により積層化し、さらにこれを
還元雰囲気中、1500〜16oo℃の高温で焼結する
方法である。この方法は、未焼結の゛状態で積層。
One of the seven methods is to alternately print gold or silver-palladium conductive paste and glass insulating paste on a sintered ceramic substrate (for example, an alumina substrate) and repeat firing to create a multilayer structure. With this method, vias can be formed inside the board, increasing the effective area for mounting components, making it suitable for high-density mounting boards. However, this configuration uses a noble metal such as gold or silver-palladium as the conductor material, making it expensive. As a result, the use of ceramic multilayer substrates having this configuration is limited to extremely limited fields such as industrial equipment, and the reality is that there are no examples of application to consumer equipment. Another example of a multilayer board using ceramic is to print tungsten or molybdenum conductive paste on a green sheet made of inorganic powder mainly composed of alumina and an organic binder, and then print multiple sheets of these sheets after drying. This is a method in which the layers are laminated by heating and pressure bonding, and then sintered at a high temperature of 1500 to 160° C. in a reducing atmosphere. In this method, the layers are laminated in an unsintered state.

多層化するため多層化が極めて容易である。また、アル
ミナ、タングステン、モリブデンから構成されるため極
めてすぐれた安定性を示し、またその材料コストも小さ
いという利点がある。しかし、この構成をとるためには
高温を必要とするため設備が大がかりになることや、ま
たタングステンやモリブデンには直接半田付できないた
め実際にはタングステン、モリブデン導体層表面にニッ
ケル。
Since it is multi-layered, multi-layering is extremely easy. Furthermore, since it is composed of alumina, tungsten, and molybdenum, it exhibits extremely high stability and has the advantage of low material cost. However, this configuration requires high temperatures, which requires large-scale equipment, and it is not possible to solder directly to tungsten or molybdenum, so nickel is actually used on the surface of the tungsten or molybdenum conductor layer.

金のメッキを施す必要があるなどの問題がある。There are problems such as the need for gold plating.

前述したように近年は部品が年々小型化され、これらの
小型部品は産業用のみならず民生用機器にも多用されて
いるのが現状である。一方、産業用のみならず民生用機
器の分野においても機器は多機能化、小型化の方向にあ
り、部品実装用基板においてもその必要性から基板の多
層化が望まれている。しかし、現在の多層基板技術には
上記したような問題点があり広く使用されるに至って℃
・な(・。
As mentioned above, in recent years, parts have become smaller year by year, and the current situation is that these small parts are often used not only in industrial equipment but also in consumer equipment. On the other hand, not only in the field of industrial use but also in the field of consumer equipment, devices are becoming more multi-functional and smaller, and multi-layered boards are desired for component mounting boards as well. However, current multilayer board technology has the above-mentioned problems and has not been widely used.
・Na(・.

発明の目的 本発明の目的は、上記欠点に鑑み低コストでかつ部品の
高密度実装を可能とするセラミック多層基板の製造方法
を提供することである。
OBJECTS OF THE INVENTION In view of the above-mentioned drawbacks, an object of the present invention is to provide a method for manufacturing a ceramic multilayer board that is low cost and enables high-density mounting of components.

発明の構成 上記目的を達成するために本発明は、鉄、ニッケル、コ
バルトまたはこれらの合金の融点より低い温度で焼結す
るガラス粉またはガラスとアルミ・す粉と有機性バイン
ダと可塑剤とからなるグリーンシート上とグリーンシー
トに設けたスルホール用小孔の内壁に、酸化鉄、酸化ニ
ッケル、酸化コバルトまたはこれらの混合粉を有機バイ
ンダと有機溶剤とからなるビークルとともに混練して得
たペーストを印刷しパターン膜を形成する工程と、該印
刷されたグリーンシートの複数枚を加熱、圧力によりラ
ミネートし積層化する工程と、これをガラスまたはガラ
スとアルミナの混合体が焼結し始めない温度で空気中で
熱処理し有機バインダを燃焼させる工程と、これを還元
雰囲気中で熱処理し、酸化鉄、酸化ニッケル、酸化コバ
ルトまたはこれらの混合粉を金属に還元する工程と、こ
れを鉄、ニッケル、コバルトの融点より低い温度で焼成
し、ガラスまたはガラスとアルミナの混合相と金属を緻
密化する工程とからなる製造工程としたもので、これに
より極めて低コストの鉄、ニッケルまたはコバルトを使
用したセラミック多層基板を製造することを可能とする
ものである。
Structure of the Invention In order to achieve the above object, the present invention provides a method of manufacturing a glass powder or glass and aluminum powder that is sintered at a temperature lower than the melting point of iron, nickel, cobalt, or an alloy thereof, an organic binder, and a plasticizer. A paste obtained by kneading iron oxide, nickel oxide, cobalt oxide, or a mixed powder thereof with a vehicle consisting of an organic binder and an organic solvent is printed on the green sheet and on the inner walls of the small holes for through holes provided in the green sheet. A process of forming a patterned film, a process of laminating and laminating a plurality of the printed green sheets by heating and pressure, and a process of laminating the printed green sheets by heating and applying air at a temperature that does not cause the glass or a mixture of glass and alumina to begin to sinter. a process of heat treatment in a reducing atmosphere to burn the organic binder; a process of heat treatment in a reducing atmosphere to reduce iron oxide, nickel oxide, cobalt oxide, or a mixed powder of these to metal; The manufacturing process consists of firing at a temperature lower than the melting point and densifying the glass or glass/alumina mixed phase and metal.This process makes it possible to produce extremely low-cost ceramic multilayer substrates using iron, nickel, or cobalt. This makes it possible to manufacture

実施例の説明 以下に本発明の各工程を詳細に説明する。Description of examples Each step of the present invention will be explained in detail below.

本発明では、鉄、ニッケル、コバルトのそれぞれの導体
の出発原料として酸化鉄、酸化ニッケル。
In the present invention, iron oxide and nickel oxide are used as starting materials for conductors of iron, nickel, and cobalt, respectively.

酸化コバルトを用い、また絶縁材料としては鉄。Cobalt oxide is used, and iron is used as the insulating material.

ニッケル、コバルトの融点以下で焼結し、かつ鉄。Sintered below the melting point of nickel, cobalt, and iron.

ニッケルまたはコバルトを酸化しないガラスまたはガラ
スとアルミナの混合物を用いる。導体原料の酸化鉄はF
e2O2(ベンガラ)が最も代表的であり、ニッケルで
はNiO、コバルトではCooが代表的であるが、もち
ろん他の価数の酸化物であっても構わない。絶縁材料と
しては、例えばBaO。
Use glass or a mixture of glass and alumina that does not oxidize nickel or cobalt. The iron oxide of the conductor raw material is F.
The most typical example is e2O2 (red iron), NiO for nickel, and Coo for cobalt, but of course oxides with other valences may be used. Examples of the insulating material include BaO.

BaO5,CaO、MgO、ム120s 、 5iOz
などの成分から構成されるガラスやこれとアルミナの混
合物がある。これらのような成分は熱力学的に十分安定
なものであり、鉄、ニッケルやコバルトの金属を酸化さ
せる事はない。先ず上記したようなガラス粉またはガラ
ス粉とアルミナ粉の混合物をトルエンのような有機溶剤
とポリビニルプテラルのような有機バインダとを混練し
インキ状混線物(一般にスリップという)を、ドクタブ
レード造膜機にかけ、乾燥してグリーンシートとする。
BaO5, CaO, MgO, Mu120s, 5iOz
There are glasses composed of such components and mixtures of this and alumina. Components such as these are thermodynamically stable enough to not oxidize metals such as iron, nickel, and cobalt. First, glass powder or a mixture of glass powder and alumina powder as described above is kneaded with an organic solvent such as toluene and an organic binder such as polyvinyl pteral to form an ink-like mixture (generally referred to as slip) and a doctor blade film. Run it through a machine and dry it to make green sheets.

また、酸化鉄、酸化ニッケル、酸化コバルトまたはこれ
らの混合物を有機バインダと有機溶剤とからなるビーク
ルとを混練しペースト化する。このベースpを上記グリ
ーンシート上に印刷し、乾燥する。
Further, iron oxide, nickel oxide, cobalt oxide, or a mixture thereof is kneaded with a vehicle consisting of an organic binder and an organic solvent to form a paste. This base p is printed on the green sheet and dried.

この場合、グリーンシートにはピアホール用の小孔があ
けられておりペースト印刷時にこの小孔に同時にペース
トを埋め込む。このように印刷された複数枚のグリーン
シートを重ね合わせ熱と圧力で積層一体化する。ここで
、グリーンシートにはポリビニールブチラールのような
熱可塑性のバインダを用いているため、これらは熱と圧
力で接着させ一体化することができる。次に、これを6
00〜8oo℃、空気中で熱処理する。この工程は、ペ
ースト中にある有機バインダを完全に散逸させる工程で
ある。有機バインダは、普通には主に炭素と水素から構
成される高分子であり、これを中性雰囲気中または還元
雰囲気中で熱処理した場合、最後に炭素が残り完全に散
逸させる事はなかなか困難である。有機バインダを含む
未焼成セラミツクを酸素を含まない系で焼結する場合、
有機バインダを完全散逸させる事が焼結技術上の問題と
なる事が多い。本発明では、有機バインダ′を含むグリ
ーンシート、ペーストを空気中で熱処理するため、まわ
りの雰囲気には十分多量の酸素が存在している。そのた
め、有機バインダ分解し、最後に炭素が残っても酸素に
よって燃焼されCOまたはCOzのガスとなって完全に
外部に散逸する。ここで当然の事ながら、酸素が内部に
侵入する必要上、この系が焼結し始めることはバインダ
′と酸素との反応上都合が悪(・。この空気中熱処理の
工程では導体の酸化鉄、酸化ニッケルまたは酸化コバル
トの層と絶縁層が交互に積層化され互℃・に接触してい
るが、まだ十分高温でなし・ため、これらの導体層とな
る酸化物と絶縁層との間には極小量の相互拡散層が生じ
るが、互いに混じり合うことはない。
In this case, the green sheet has small holes for peer holes, and the paste is filled into these small holes at the same time when printing the paste. A plurality of green sheets printed in this way are laminated and integrated using heat and pressure. Here, since a thermoplastic binder such as polyvinyl butyral is used for the green sheet, these can be bonded and integrated using heat and pressure. Next, add this to 6
Heat treatment at 00 to 80°C in air. This step is a step to completely dissipate the organic binder in the paste. Organic binders are usually polymers mainly composed of carbon and hydrogen, and when they are heat-treated in a neutral or reducing atmosphere, carbon remains at the end and is difficult to completely dissipate. be. When sintering green ceramic containing an organic binder in an oxygen-free system,
Complete dissipation of organic binders is often a problem in sintering technology. In the present invention, since the green sheet and paste containing the organic binder' are heat-treated in air, a sufficiently large amount of oxygen is present in the surrounding atmosphere. Therefore, even if the organic binder is decomposed and carbon remains at the end, it is burned by oxygen and becomes CO or COz gas, which is completely dissipated to the outside. Of course, since it is necessary for oxygen to enter the interior, it is inconvenient for this system to start sintering due to the reaction between the binder and oxygen. , layers of nickel oxide or cobalt oxide and insulating layers are laminated alternately and are in contact with each other, but the temperature is still high enough that there is no bond between the oxide and the insulating layer, which will serve as the conductor layer. A very small amount of interdiffusion layer is formed, but they do not mix with each other.

このように、完全に有機バインダを清適させたのち、こ
れを還元雰囲気中700〜900℃で熱処理する。この
工程のポイントは、導体材料酸化物層を金属に還元する
ところにある。この工程では還元性気体が十分に積層部
内部に拡散する必要があるため、全体が緻密化しない事
が重要である。
After the organic binder is completely purified in this way, it is heat-treated at 700 to 900° C. in a reducing atmosphere. The point of this process is to reduce the conductive material oxide layer to metal. In this step, the reducing gas needs to sufficiently diffuse into the laminated portion, so it is important that the entire layer does not become dense.

また、当然の事ながら絶縁層成分中に還元され易(・成
分が含まれる事は好ましくない。このような成分が含ま
れると絶縁層の絶縁不良が生じたり、また還元された導
体が絶縁層成分により酸化されたりすることとなる。還
元雰囲気としては水素または水素とチッ素の混合気体が
一般的である。次に、還元された金属が酸化されない程
度の還元雰囲気を保ち、温度をあげ金属層と絶縁層を焼
結させ緻密化させる。緻密化させる過程で金属と絶縁層
の密着性が確保され、絶縁層と金属層が積層一体化され
る。
Also, of course, it is undesirable for components that are easily reduced to be included in the insulating layer components.If such components are included, insulation defects may occur in the insulating layer, and the reduced conductor may The reducing atmosphere is generally hydrogen or a mixture of hydrogen and nitrogen.Next, a reducing atmosphere is maintained to the extent that the reduced metal is not oxidized, and the temperature is raised to remove the metal. The layer and the insulating layer are sintered and densified.During the densification process, the adhesion between the metal and the insulating layer is ensured, and the insulating layer and the metal layer are laminated and integrated.

以下に本発明の具体的な実施例について述べる。Specific examples of the present invention will be described below.

コーニング社製ガラス# 7070の粉末とアルミナ粉
が重量比で1:1である混合粉2kgとトルエンとイン
プロピルアルコールが重量比で1:1の有機溶剤0.7
kg、可塑剤0.09 kg、ポリビニルブラールo、
1ekgをボールミルで混合し、これを脱泡後、ドクタ
ブレードで造膜、乾燥し、200μm厚のグリーンシー
トを作成した。次に、酸化鉄(α−Fezes )粉末
とテレピン油に1層%のエチルセルロースを溶かしたビ
ークルを三段ロールで混練し、導体ペーストとした。次
に、グリーンシートを所定サイズに切断するとともに必
要箇所にとア用の小孔をあけ加工したものに、上記導体
ペーストを250メツシユ、乳厚10μmのステンレス
・スクリーンを用い印刷し、乾燥した。スクリーン印刷
の時点でビア用の小孔にも導体ペーストの充填を行った
。次に、上記のように印刷したものを3枚重ね合わせ、
了0’C、20oki7の圧力でラミネートした。この
ようにして得た積層物を700℃、60分間空気中で熱
処理した。更にこの積層体を850℃、10%H2−9
0%N2混合気体中で30分間熱処理した。次に、これ
を1%12−99%N2混合気体雰囲気中で1200’
C,1時間熱処理した。このようにして得た積層体は一
体、緻密構造となっており、また鉄は完全な金属層とな
っており最上層鉄層と内部鉄層との電気的導通も得られ
ていた。以下には、このようにして得た積層体の配線基
板としての代表特性を示す。
2 kg of mixed powder of Corning glass #7070 powder and alumina powder in a weight ratio of 1:1, and 0.7 kg of an organic solvent of toluene and inpropyl alcohol in a weight ratio of 1:1.
kg, plasticizer 0.09 kg, polyvinyl bral o,
1 ekg was mixed in a ball mill, and after defoaming, a film was formed using a doctor blade and dried to create a green sheet with a thickness of 200 μm. Next, a vehicle containing iron oxide (α-Fezes) powder and 1% ethyl cellulose dissolved in turpentine oil was kneaded with a three-stage roll to form a conductive paste. Next, the green sheet was cut to a predetermined size and small holes were punched in the necessary places, and then 250 meshes of the above conductor paste was printed using a stainless steel screen with a thickness of 10 μm and dried. At the time of screen printing, small holes for vias were also filled with conductive paste. Next, stack the three sheets printed as above,
Lamination was carried out at a temperature of 0°C and a pressure of 20°C. The thus obtained laminate was heat treated in air at 700°C for 60 minutes. Furthermore, this laminate was heated at 850°C and 10% H2-9.
Heat treatment was performed for 30 minutes in a 0% N2 mixed gas. Next, this was heated for 1200' in a 1% 12-99% N2 mixed gas atmosphere.
C, heat treated for 1 hour. The laminate thus obtained had a dense structure, the iron was a complete metal layer, and electrical continuity was obtained between the top iron layer and the inner iron layer. Typical characteristics of the thus obtained laminate as a wiring board are shown below.

表 ニッケル導体またはコバルト導体の場合も、導体材料原
料として酸化ニッケル(NiO)、酸化コバルト(Co
o )の粉末を用い、ビークルと混練し導体ペーストと
した。これを鉄の場合と同様、グリーンシートに印刷、
乾燥し、ラミネート一体化した。
In the case of surface nickel conductors or cobalt conductors, nickel oxide (NiO) and cobalt oxide (Co) are used as conductor material raw materials.
The powder of (o) was used and kneaded with a vehicle to form a conductor paste. This is printed on a green sheet as in the case of iron,
It was dried and laminated.

更に、熱処理も同条件で空気中処理、還元処理。Furthermore, heat treatment was performed in air and reduction treatment under the same conditions.

還元高温処理をし緻密な一体構造物を得た。この2者の
配線基板としての特性はほぼ同じ程度であり、層間絶縁
抵抗は)1012Ω、導体抵抗は7〜9rrLΩ、接着
強度は1.0〜1 、5 kgAn7jであった。なお
、上の実施例では層数は導体3層としたが、この層数は
3層に限定されるものでなく何層にもすることができる
A dense monolithic structure was obtained by reduction and high temperature treatment. The characteristics of these two wiring boards were approximately the same, with an interlayer insulation resistance of 1012Ω, a conductor resistance of 7 to 9rrLΩ, and an adhesive strength of 1.0 to 1.5 kgAn7j. In the above embodiment, the number of conductor layers is three, but the number of layers is not limited to three and can be any number of layers.

発明の効果 以上の説明から明らかなように、本発明はガラスまたは
ガラスとアルミナと有機バインダとからなるグリーンシ
ート上に鉄、ニッケルまたはコバルトの酸化物粉とビー
クルを混練したペーストを印刷し、熱、圧力によりこれ
らの複数枚をラミネートした積層物を、脱バインダ空気
中熱処理、金、属酸化物還元熱処理、絶縁層焼結緻密化
工程からなるように構成されており、次のような効果が
得られる。
Effects of the Invention As is clear from the above explanation, the present invention involves printing a paste made by kneading iron, nickel or cobalt oxide powder and a vehicle on a green sheet made of glass or glass, alumina and an organic binder, and , a laminate made by laminating a plurality of these sheets under pressure is subjected to an in-air heat treatment to remove the binder, a heat treatment to reduce metal and metal oxides, and an insulating layer sintering and densification process, which has the following effects. can get.

(1)導体材料として金属の酸化物を出発原料として(
・るため、グリーンシート:導体ペースト中に含まれる
有機バインダの除去が空気中で行え、そのため極めてす
ぐれた緻密化状態が実現できる。
(1) Using a metal oxide as a starting material as a conductor material (
Green sheet: The organic binder contained in the conductor paste can be removed in the air, making it possible to achieve an extremely densified state.

(2)導体材料は鉄、ニッケル、コバルトのような卑金
属を用いているため極めて低コストの多層基板を得るこ
とができる。
(2) Since base metals such as iron, nickel, and cobalt are used as conductor materials, extremely low-cost multilayer substrates can be obtained.

(3)焼結の条件は完全な還元雰囲気で行うため微妙な
雰囲気制御を必要とせず条件設定が容易などのすぐれた
効果が得られる。
(3) Since sintering is performed in a completely reducing atmosphere, excellent effects such as easy condition setting without requiring delicate atmosphere control can be obtained.

その効果により、多層基板が低コストで、かつ容易に製
造できるため低コスト、高密度実装回路モジュールを提
供し、機器の小型化、多機能化の拡大に貢献するところ
大である。
As a result, the multilayer board can be manufactured at low cost and easily, providing a low-cost, high-density mounting circuit module, which greatly contributes to the miniaturization and multifunctionality of equipment.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

1・・・・・・表面導体、2・・・・・・スルホール内
壁導体、3・・・・・・内部導体、4・・・・・・樹脂
絶縁体、6・・・・・・表面導体、6・・・・・・内部
導体、7・・・・・・セラミック絶縁体。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名第1
図 第 2 図
1...Surface conductor, 2...Through hole inner wall conductor, 3...Inner conductor, 4...Resin insulator, 6...Surface Conductor, 6... Internal conductor, 7... Ceramic insulator. Name of agent: Patent attorney Toshio Nakao and 1 other person No. 1
Figure 2

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)鉄、ニッケル、コバルトまたはこれらの合金の融
点より低い温度で焼結するガラス粉またはガラス粉とア
ルミナ粉と有機性バインダと可塑剤とからなるグリーン
シート上とグリーンシートに設けたスルホール用小孔の
内壁に、酸化鉄、酸化ニッケル、酸化コバルトまたはこ
れらの混合粉を有機バインダと有機溶剤とからなるビー
クルとともに混練して得たペーストを印刷し、パターン
膜を形成する工程と、上記印刷されたグリーンシートの
複数枚を加熱、圧力によりラミネートし積層化する工程
と、これをガラスまたはガラスとアルミナの混合体が焼
結し始めない温度、空気中で熱処理し有機バインダを燃
焼させる工程と、これを還元雰囲気中で熱処理し、酸化
鉄、酸化ニッケル、酸化コバルトまたはこれらの混合粉
を金属に還元する工程およびこれを鉄、ニッケル、コバ
ルトの融点より低い温度で焼成し、ガラスまたはガラス
とアルミナの混合相と金属を緻密化する工程とからなる
セラミック多層配線基板の製造方法。
(1) For through-holes on and on green sheets made of glass powder or glass powder, alumina powder, organic binder, and plasticizer sintered at a temperature lower than the melting point of iron, nickel, cobalt, or their alloys. A step of printing a paste obtained by kneading iron oxide, nickel oxide, cobalt oxide, or a mixed powder thereof with a vehicle consisting of an organic binder and an organic solvent on the inner wall of the small hole to form a pattern film, and the above printing. A process of laminating and laminating a plurality of green sheets by heating and pressure, and a process of heat-treating the green sheets in air at a temperature at which the glass or a mixture of glass and alumina does not begin to sinter, and burning the organic binder. , heat-treating this in a reducing atmosphere to reduce iron oxide, nickel oxide, cobalt oxide, or a mixed powder of these to metal, and firing this at a temperature lower than the melting point of iron, nickel, and cobalt to form glass or glass. A method for manufacturing a ceramic multilayer wiring board comprising a mixed phase of alumina and a step of densifying metal.
JP18677584A 1984-07-17 1984-09-06 Method of producing ceramic multilayer circuit board Granted JPS6164189A (en)

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