JPS61289072A - アニリン誘導体、その製造法およびそれを有効成分とする農園芸用殺菌剤 - Google Patents

アニリン誘導体、その製造法およびそれを有効成分とする農園芸用殺菌剤

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JPS61289072A
JPS61289072A JP13057385A JP13057385A JPS61289072A JP S61289072 A JPS61289072 A JP S61289072A JP 13057385 A JP13057385 A JP 13057385A JP 13057385 A JP13057385 A JP 13057385A JP S61289072 A JPS61289072 A JP S61289072A
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alkyl group
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phenyl
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JP13057385A
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Junya Takahashi
淳也 高橋
Hiroshi Noguchi
裕志 野口
Yukio Oguri
幸男 小栗
Shigeo Yamamoto
茂男 山本
Toshiro Kato
加藤 寿郎
Katsuzo Kamoshita
鴨下 克三
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Sumitomo Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Chemical Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、一般式〔I〕 〔式中、Rは水素原子、低級アルキル基または低級アル
コキシル基を表わす。
R′は低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキ
ニル基、低級ハロアルキル基、低級アルコキシアルキル
基、低級シクロアルキルアルキル基または低級シアノア
ルキル基を表わす。
Xは低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニ
ル基、低級アルコキシアルキル基、ニトロ基、ホルミル
基、ヒドロキシイミノメチル基、低級アルコキシイミノ
メチル基、低級アルコキシル基、低級アルコキシカルボ
ニル基、水素原子、ハロゲン原子またはアシル基を表ワ
ス。
Yは水素原子、水酸基、低級アルキル基、低級アルケニ
ル基、低級アルキニル基、低級アルコキシカルボニルア
ルキル基または一般式−C−に!あるいは−SR2で示
される基を表わす(ここで、Rtは低級アルキル基、低
級シクロアルキル基またはフェニル基を表わし、R2は
低級アルキル基、フェニル基マタは低級アルコキシカル
ボニル基を表わす。)。
Aは酸素原子または硫黄原子を表わす。
Bは低級アルキル基、低級アルケニル基、低級シクロア
ルキル基、フェニル基マたは一般式−VV−R11で示
されるは換基を表わす(ここで、Wは酸素原子または硫
黄原子を表わし、Raは低級アルキル基、低級アルケニ
ル基、低級アルキニル基、低級ハロアルケニル基、低級
ハロアルキニル基または低級シクロアルキル基を表わす
か、またはハロゲン原子で置換されていてもよいフェニ
ル基を表わすか、またはハロゲン原子、シアノ基、フェ
ニル基、低級シクロアルキル基、低級アルコキシル基、
低級アルケニルオキシ基、低級ハロアルコキシ基、フェ
ノキシ基あるいはアラルキルオキシ基のうち少なくとも
1つの原子または基で置換されたアルキル基を表わす。
)。〕 で示されるアニリン誘導体(以下、本発明化合物と称す
。)、その製造法およびそれを有効成分として含有する
農園芸殺菌剤)ζ関するものである。
本発明者らは、ベノミル〔メチル 1−(ブチルカルバ
モイル)ベンズイミダゾール−2−イルカーバメート〕
、フベリダゾール〔2−(2−フリル)ベンズイミダゾ
ール〕、チアベンダゾール(2−(4−チアゾリル)ベ
ンズイミダゾール〕、カルペンダジム〔メチル ベンズ
イミダゾール−2−イルカ−バメート〕、チオファネー
トメチル〔1,2−ビス(3−メトキシカルボニル−2
−チオウレイド)ベンゼン〕、チオファネート〔1,2
−ビス(3−エトキシカルボニル−2−チオウレイド)
ベンゼン〕などのベンズイミダゾール・チオ・ファネー
ト系殺菌剤、およびプロシミドンCN−(3’、5’−
ジクロロフェニル)−1,2−ジメチルシクロプロパン
−1,2−ジカルボキシイミド〕、イプロジオンC3−
(3’、5’−ジクロロフェニル)−1−イソプロピル
カルバモイルイミダゾリジン−2,4−ジオン〕、ビン
クロゾリン〔3−(3’ 、 5’−ジクロロフェニル
)−5−メチル−5−ビニル−オキサゾリジン−2,4
−ジオン工エチル(R3”) −3−(3’、 5’−
ジクロロフェニル)−5−メチル−2,4−ジオキソオ
キサゾリジン−5−カルボキシレートなどの環状イミド
系殺菌剤に耐性を示す植物病原菌およびその他の糸状菌
(以下、薬剤耐性菌と称す。)に対し、選択的に殺菌効
果を示す殺菌剤の発明に鋭意努力した結果、前記一般式
〔I〕で示されるアニリン誘導体を見出した。
本発明化合物が強い殺菌効果を示す薬剤耐性−としては
、たとえばリンゴのうどんこ病菌(Podosphae
ra 1eoucotricha) 、黒星病菌(Ve
nturia 1naequalis) 、ナシの黒星
病菌(Venturia nashicola) 、モ
ニリア病菌(Scle−rotinia mali) 
、カキの炭そ病菌(Gloeospo −rium k
aki)、モモノ灰星病(Sclerotiniaci
nerea)、黒星病菌(Cladosporium 
carpo −philum)、ブ)”IF(7)灰色
かび病菌(Botrytiscinerea)、黒とう
病菌(Elsinoe ampel 1na)、晩腐病
菌(Glomella cingulata) 、テン
サイの褐斑病菌(Cercospora betico
la)、ビーナツツの褐斑病菌(Cercospora
 arachidicola)、黒渋病菌(Cerco
spora personata)、オオムギのうどん
こ病菌(Erysiphe graminis f、 
sp、 hordei)、アイ−スポット病菌(Cer
cosporella herpotri−choid
es ) 、紅色雪腐病菌(Fusarium n1v
ale)、コムギのうどんこ病菌(Erysiphe 
graminis 。
f、 sp 、 tritici ) 、キュウリのう
どんこ病菌(Sphaerotheca fuligi
nea ) 、ツる枯病菌(Mycogphaerel
la melonis )−灰色かび病菌(Botry
tis cinerea ) 、黒星病菌(C1ado
spori −um cucumerinum )、ト
マトの葉かび病菌(Cladosporium ful
vum)、灰色カビ病菌(Botry−tis cin
erea)、イチゴのうどんこ病菌(Sphaero 
−theca humuli)−rh−tプの灰色カビ
病菌(Boty −tis cinerea )、タバ
コのうどんこ病菌(Erysi−phe cichor
acearum)、バラのf%7!−、N m (Di
 p 1ocar−pon rosae ) 、ミカン
のそうか病菌(Elsinoefawcetii)、青
かび病菌(Penicillium 1tali −c
um)、縁かび病菌(Penicillium dig
itatum)などが挙げられる。
さらに検討を続けた結果、薬剤耐性の有無に拘らず本発
明化合物はイネいもち病菌(Pyri −culari
a oryzae)等の防除に効果のあることが判明し
た。
本発明化合物を例示すると第1表のようになる。
次に、本発明化合物の製造法について述べる。
本発明化合物は例えば次の方法によって製造することが
できる。
製法(a)  一般式CU+ 〔式中、R,R’、XおよびYは前記と同じ意味を表わ
す。〕 で示される化合物と一般式〔m〕 −C−B 〔m〕 〔式中、Zはハロゲン原子を表わす。AおよびBは前記
と同じ意味を表わす。〕 で示される化合物とを反応させる製法。
この反応は、たとえば水またはベンゼン、トルエン、キ
シレン、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオ
キサン、クロロホルム、四塩化炭素、酢酸エチル、ピリ
ジン、ジメチルホルムアミド等の有機溶媒またはそれら
の混合物中において行われ、通常ピリジン、トリエチル
アミン、N、N−ジエチルアニリン、水酸化カリウム等
の脱酸剤を用い、必要に応じて、テトラブチルアンモニ
ウムプロミド等の相間移動触媒を用いて、亮収率で行う
ことができる。反応は必要に応じて冷却または加熱(0
〜150℃)することにより、10時間以内で完結し、
収率よく目的物を得ることができる。
製法(b)  一般式〔Iv〕 〔式中、R、R’ 、 XおよびAは前記と同じ意味を
表わす。〕 で示される化合物と、一般式〔v〕 Ra−W−HCv〕 〔式中、RaおよびWは前記と同じ意味を表わす。〕 で示される化合物とを反応させる製法。
この反応はたとえば無溶媒またはベンゼン、トルエン、
キシレン、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジ
オキサン、N、N−ジメチルホルムアミド、クロロホル
ム、四塩化炭素などの有機溶媒中で、無触媒またはトリ
エチルアミン、N、N−ジエチルアニリン、1.4−ジ
アザビシクロ〔2,2,”21オクタンを触媒として行
うことができ、必要に応じて冷却または加熱(0〜50
℃)することにより、10時間以内で完結し、収率よく
目的物を得ることができる。
上記製法において、一般式〔■〕で示される化合物は前
記一般式〔m”)(Y−H)で示される化合物とホスゲ
ンまたはチオホスゲンとを反応させることにより得るこ
とができる。この反応はたとえばベンゼン、トルエン、
キシレン、酢酸エチル等の、有機溶媒またはその混合物
中で行われ、必要に応じて50℃から還流温度に加熱す
ることにより、10時間以内で完結し、収率よく目的物
を得ることができる。
製法(C)  一般式〔vI〕 〔式中、R,X、Y、AおよびBは前記と同じ意味を表
わす。〕 で示される化合物と一般式〔v■〕 R’−Z’   (7)〕 〔式中、R′は前記と同じ意味を表わし、Z′は脱離基
を表わす。〕 で示される化合物とを反応させる製法。ここで脱離基と
は、メシルオキシ基、トシルオキシ基またはハロゲン原
子を表わす。反応は、たとえばN、N−ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキシド、テトラヒドロフラン、
ジオキサン、トルエン、ベンゼン、エーテル等の有機溶
i中、または、トルエンあるいはベンゼンと水との2層
反応系中で必要に応じて水酸化ナトリウム、炭酸カリウ
ム、N、N−ジエチルアニリン、ピリジン等の脱酸剤を
用いて、無柚媒あるいはテトラ−n−ブチルアンモニウ
ムプロミド等の相間移動触媒の存在下に行うことができ
、通常0℃から100℃にて12時間以内で完結する。
製法(d)  一般式〔■〕 〔式中、R’、X、Y、AおよびBは前記と同じ意味を
表わし、R4は低級アルキル基を表わす。〕 で示される化合物と、一般式 〔式中、Rは前記と同じ意味を表わす。〕で示される化
合物とを反応させる製法、1反応はメタノール、エタノ
ール等の低級アルコール中で行われ、必要に応じて冷却
または加熱(0℃〜溶媒還流温度)することにより、1
0時間以内に完結し、収率よく目的物を得ることができ
る。
一般式〔■〕 で示される化合物としては、たとえばエ
チル N−((2−二トキシ−3−クロロ−5−イソプ
ロピルオキシカルボニルアミノ)フェニル〕ホルムイミ
デート(R4= C2H5。
R’−C2Hs 、 X=Ct 、 Y=H、A=0 
、 B=−O−i−CaH7)が挙げられる。〔物理定
数1.28(d、6H)’) 次に製造例を示す。
製造例1 金属ナトリウム0゜15fをメタノール2〇−に加えて
、ナトリウムメトキシド−メタノール溶液を調製した。
次いでこの溶液に水冷下O−メチルヒドロキシルアミン
塩酸塩0.55fを添加した後、エチル N−C(2−
エトキシ−3−クロロ−5−イソプロピルオキシカルボ
ニルアミノ)フェニル〕ホルムイミデート2.181を
加えて、1時間加熱還流を行有機層を水洗した後、無水
硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去した。
得られた残渣をトルエンおよび酢酸エチルを用いた塩基
性アルミナカラムクロマトグラフィーで精製し、N−〔
(2−エトキシ−3−クロロ−5−イソプロピルオキシ
カルボニルアミノ)フェニル〕−N′−メトキシホルム
アミジン(前記一般式〔■〕において、R=CHsO。
R’=C2Ha 、 X=Qa 、 Y=H、A=O、
B=−O−i −C8H? 、本発明化合物(1) )
Q、 84 fを22.8 得た。収率38.4% nDl、5398なお、本発明
化合物の置換基−NH−CH=N−Rにおいては、 −NH−CM−N−R、=ヨーN=CH−NH−Rで示
されるように平衡状態がある。本発明化合物はそのいず
れの場合も含むものである。
このようにして得られた本発明化合物を第2表にまとめ
て示す。
このようにして得られた本発明化合物を実際に施用する
際には他成分を加えずそのまま施用でき、また、殺菌剤
として使いやすくするため担体と混合して施用すること
ができ、通常施用される形態たとえば粉剤、水和剤、油
剤、乳剤、錠剤、粒剤、微粒剤、エアゾール、フロアブ
ルなどの種々の形態に製剤して施用する。
次に製剤例を示す。なお、部は重量部を表わす。
製剤例1  粉  剤 本発明化合物(1)2部、クレー88部およびタルク1
0部をよく粉砕混合して主剤含有量2%の粉剤を得る。
製剤例2 水和剤 本発明化合物(1) 30部、珪藻±45部、ホワイト
カーボン20部、湿潤剤(ラウリル硫酸ソーダ)3部お
よび分散剤(リグニンスルホン酸カルシウム)2部をよ
く粉砕混合して主剤含有量30%の水和剤を得る。
製剤例3  水和剤 本発明化合物(1) 50部、珪藻±45部、湿潤剤(
アルキルベンゼンスルホン酸カルシウ介 ム)2.5部および粉散剤(リグニンスルホン酸カルシ
ウム)2.5部をよく粉砕混合して主剤含有mso%の
水和剤を得る。
製剤例4  乳  剤 本発明化合物(1) 10部、シクロへキサノン80部
および乳化剤(ポリオキシエチレンアルキルアリルエー
テル)10部を混合して主剤含有量10%の乳剤を得る
上記製剤中には一般に活性化合物をitにして1.0〜
95.0%、好ましくは2.0〜80.0%を含み、そ
の施用量は通常10アールあたり10〜100gである
。さらにその施用濃度はo、 o o s〜0.5%の
範囲が望ましいが、これらの施用量、濃度は剤型、施用
時間、方法、場所、対象病害、対象作物等によっても異
なるため前記範囲に拘わることなく項一することは何ら
差し支えない。
さらに他の殺菌剤、除草剤、植物生長調節剤および殺虫
剤と混合して使用することもできる。
次に試験例をあげ、本発明化合物の農園芸用殺菌剤とし
ての有用性をさらに明らか:ζする。
なお、対照化合物は第3表の一般名で表示する。
第  3  表 注(1)市販除草剤    出2) 市販殺菌刑試験例
1   キュウリうどんこ病防除効果9〇−容のプラス
チ−ツク製ポーノドに砂壌土をつめ、キュウリ(品積:
相模半白)を播種した。これを室温で8日間栽培し、子
葉が展開したキュウリ幼苗を得た。この幼苗に製剤例4
に準じて調製した下記本発明化合物の乳剤および対照化
合物の水和剤の水希釈液を液滴が葉面に十分量付着する
まで茎葉散布した。
薬液風乾後、幼苗に薬剤耐性または感受性のキュウリう
どんこ病菌(Sphaerotheca  ful −
1g1nea)の分生胞子懸濁液を噴霧接種した。
これを温室で10日間栽培し発病させた後、発病状態を
観察した。
発病度は下記の方法によって算出した。
すなわち、調査葉の病斑出現に応じて、0゜0.5.1
.2.4の指数に分・頌し、次式によって発病度を算出
した。
(発病指数)      (発病状態)0 ・・・・・
葉面上に菌叢または病理を認めない。
0.5・・・・・葉面上に葉面積の5%未満に菌叢また
は病斑を認める 1 ・・・・・葉面上に葉面積の20%未満に菌叢また
は病斑を認める。
2 ・・・・・葉面上に葉面積の50%未満に菌叢また
は病斑を認める。
4 ・・・・・葉面上に葉面積の50%以上に菌叢また
は病斑を認める。
つづいて防除価を次式より求めた。
その結果、第4表のように、薬剤耐性菌に対して本発明
化合物は優れた防除効果を示したが、市販殺菌剤のベノ
ミル、チオファネートメチルおよびカルペンダジムある
いは化学構造類似の市販除草剤のいずれもほとんど防除
効果を示さなかった。
第  4  表 試験例2  テンサイ褐斑病防除効果 90、nt容のプラスチック製ポットに砂壌土をつめ、
テンサイ(品種:デトロイトダークレッド)を播種した
。温室で20日間栽培したのち得られた幼苗に、製剤例
4に準じて調製した下記本発明化合物の乳剤および対照
化合物の水和剤の水希釈液を液滴が葉直に十分付着する
まで茎葉散布した。薬液風乾後幼苗に薬剤耐性または感
受性のテンサイ褐斑病菌(Cercospora  b
eticola )の分生胞子懸濁液を噴霧接種した。
これにビニールカバーをかぶせて多湿条件とし、温室で
10日間栽培したのち、発病状態を観察した。発病調査
方法および防除価の算出は試験例1と同様に行った。
その結果第5表のように試験例1の結果と同様、薬剤耐
性菌に対し、本発明化合物は優れた防除効果を示したが
、市販殺菌剤のベノミルチオファネートメチルおよびカ
ルペンダジムあるいは化学構造類似の市販除草剤ははと
んど防除効果を示さなかった。
第5表 試験例3  ナシ黒星病防除効果 9〇−容プラスチック製ポットにピートモスと砂壌土の
混合土壌をつめ、ナシの果実(品種:長十部)より採取
した種子を播いた。
これを温室で20日間栽培し得られた幼苗に製剤例4に
準じて調製した下記本発明化合物の乳剤および下記対照
化合物の水和剤の水希釈液を液滴が葉面に十分付着する
まで茎葉散布した。薬液風乾後幼苗に薬剤耐性または感
受性のナシ黒星病菌(Venturia  nashi
cola)の分生胞子懸濁液を噴霧接種した。これを2
0℃多湿条件下に3日間置き、つづいて20℃蛍光灯照
明下に20日間栽培して発病させた。
発病調査方法および防除価の算出は試験例1と同様にし
た。
その結果、f86表のように薬剤耐性菌に対して本発明
化合物は優れた防除効果を示したが、市販殺菌剤のベノ
ミルおよびチオファネートメチルは防除効果を示さなか
った。
第  6  表 試験例4   ビーナツツ褐斑病防除効果100−容の
プラスチ−Iり製ポットに砂壌土をつめ、ビーナツツ(
品種二千葉半立性)を播種した。温室で14日間栽培し
たのち得られた幼苗に、製剤例4に準じて調製した下記
本発明化合物の乳剤および下記対照化合物の水和剤の水
希釈液をボーIトあたり1〇−茎葉散布した。薬液風乾
後、幼苗に薬剤耐性または感受性のビーナツツ褐斑病菌
(Cereo −5pora  arachidico
la )の胞子懸濁液を噴霧接種した。これにビニール
カバーをかぶせて多湿条件とし、温室で10日間栽培し
た後、発病状態を観察した。発病調査方法および防除価
の算出は試験例1と同様に行った。
その結果、第7表のように薬剤耐性菌に対して本発明祝
金物は優れた防除効果を示したが、市販殺菌剤のベノミ
ルおよびチオファネートメチルは防除効果を示さなかっ
た。
第  7  表 試験例5  キュウリ灰色カビ病防除効果90−容のプ
ラスチック製ポ・Iトに砂壌土をつめ、キュウリ(品種
:相模半白)を播種した。これを温室で8日間栽培し、
子葉が展開したキュウリを得た。この幼苗に製剤例4に
準じて調製した下記本発明化合物の乳剤および下記対照
化合物の水和剤の水希釈液をポットあたり10.d、茎
葉散布した。薬液風乾後、径5日)を葉面上にはり付け
て接種した。これを20℃多湿条件下に3日装置いて発
病させた後、発病状態を観察した。発病調査方法および
防除価の算出は試験例1と同様に行った。
その結果、第8表のように薬剤耐性菌に対して本発明化
合物は浸れた防除効果を示したが、市販殺菌剤のベノミ
ルおよびチオファネートメチルは防除効果を示さなかっ
た。
第  8  表 試験例6  キュウリつる枯病防除効果90−容のプラ
スチック製ポットに砂壌土をつめ、キュウリ(品種:相
模半白)を播種した。これを温室で8日間栽培し、子葉
が展開したキュウリを得た。この幼苗に製剤例4に準じ
て調製した下記本発明化合物の乳剤および下記対照化合
物の水和剤の水希釈液をポットあたり10j、茎葉散布
した。薬液風乾後、幼苗に薬剤耐性または感受性のキュ
ウリつる枯病菌(Mycosphaerella me
lonig )の菌叢切板(直径5諺)を葉面上にはり
付けて接種した。これを20℃多湿条件下に3日装置い
て発病させた後、発病状態を観察した。
発病調査方法および防除価の算出は試験例1と同様に行
った。
その結果、第9表のように薬剤耐性菌に対して、本発明
化合物は優れた防除効果を示したが、市販殺菌剤のベノ
ミルおよびチオファネートメチルは防除効果を示さなか
った。
第9表 試験例7  ミカン青かび病防除効果 ミカン果実(品種:温洲)をよく水洗し、風乾した後、
製剤例4に準じて調製した下記本発明化合物の乳剤およ
び下記対照市販薬剤を水で希釈し所定濃度とした薬液に
1分間浸漬した。風乾後、薬剤耐性または感受性のミカ
ン青カビ病菌(Penicillium  itali
cum)分生胞子を水に懸濁し、果実表面に噴霧振温し
た。接涌後14日間湿室にわいたのち、発病程度を下記
のように0.1,2.3,4゜5の発病指数を用いて調
査した。
(発病状態)            (発病指数→病
斑が認められない               0果
実表面積の20%未満に病斑が認められる    1〜
 20〜40%未満に病斑が認められる  2〃  4
0〜6096             3〜 60〜
80%    〜         4〜 80%以と
に病斑が認められる     5発病度および防除価の
算出は試験例1と同様に行った。
その結果、第10表のように薬剤耐性菌に対して本発明
化合′物は優れた防除効果を示し、逆に市販殺菌剤のベ
ノミルおよびチオファネートメチルは防除効果を示さな
かった。
第10表 試験例8  作物に対する薬害試験 150m1容のプラスチック製ポットに砂壌土をつめ、
コムギ(品種:農林61号)、リンゴ(品種:紅玉)、
ピーナーIツ(品種二千葉半立性)のそれぞれを播種し
、温室で栽培した。得られた幼苗に製剤例4に準じて調
製した下記本発明化合物の乳剤および下記対照化合物の
水和剤の水希釈液を茎葉散布した。
散布後再び温室に置き、10日間載培後、薬害発生の有
無を以下の基準により調査した。
薬害程度の基準 (程度)      (症  状) −異常なし。
十   作物の一部に薬害による異常が認められる。
ナ   作物の全体に薬害による異常が認められる。
+   薬害によって枯死となる。
られず、対照をご用いた化学構造類似の市販除草剤に薬
害作用が認められた。
第11表

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Rは水素原子、低級アルキル基、または低級ア
    ルコキシル基を表わす。 R′は低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキ
    ニル基、低級ハロアルキル基、 低級アルコキシアルキル基、低級シクロア ルキルアルキル基または低級シアノアルキ ル基を表わす。 Xは低級アルキル基、低級アルケニル基、 低級アルキニル基、低級アルコキシアルキ ル基、ニトロ基、ホルミル基、ヒドロキシ イミノメチル基、低級アルコキシイミノメ チル基、低級アルコキシル基、低級アルコ キシカルボニル基、水素原子、ハロゲン原 子またはアシル基を表わす。 Yは水素原子、水酸基、低級アルキル基、 低級アルケニル基、低級アルキニル基、低 級アルコキシカルボニルアルキル基または 一般式▲数式、化学式、表等があります▼あるいは−S
    R_2で示される基を表わす(ここで、R_1は低級ア
    ルキル基、低級シクロアルキル基またはフェニル基を 表わし、R_2は低級アルキル基、フェニル基または低
    級アルコキシカルボニル基を表わ す。)。 Aは酸素原子または硫黄原子を表わす。 Bは低級アルキル基、低級アルケニル基、 低級シクロアルキル基、フェニル基または 一般式−W−R_3で示される置換基を表わす(ここで
    、Wは酸素原子または硫黄原子を 表わし、R_3は低級アルキル基、低級アルケニル基、
    低級アルキニル基、低級ハロアル ケニル基、低級ハロアルキニル基または低 級シクロアルキル基を表わすか、またはハ ロゲン原子で置換されていてもよいフェニ ル基を表わすか、またはハロゲン原子、シ アノ基、フェニル基、低級シクロアルキル 基、低級アルコキシル基、低級アルケニル オキシ基、低級ハロアルコキシ基、フェノ キシ基あるいはアラルキルオキシ基のうち 少なくとも1つの原子または基で置換され たアルキル基を表わす。)。〕 で示されるアニリン誘導体。 (至)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Rは水素原子、低級アルキル基ま たは低級アルコキシル基を表わす。 R′は低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキ
    ニル基、低級ハロアルキル基、 低級アルコキシアルキル基、低級シクロア ルキルアルキル基または低級シアノアルキ ル基を表わす。 Xは低級アルキル基、低級アルケニル基、 低級アルキニル基、低級アルコキシアルキ ル基、ニトロ基、ホルミル基、ヒドロキシ イミノメチル基、低級アルコキシイミノメ チル基、低級アルコキシル基、低級アルコ キシカルボニル基、水素原子、ハロゲン原 子またはアシル基を表わす。 Yは水素原子、水酸基、低級アルキル基、 低級アルケニル基、低級アルキニル基、低 級アルコキシカルボニルアルキル基または 一般式▲数式、化学式、表等があります▼あるいは−S
    R_2で示される基を表わす(ここで、R_1は低級ア
    ルキル基、低級シクロアルキル基またはフェニル基を 表わし、R_2は低級アルキル基、フェニル基または低
    級アルコキシカルボニル基を表わ す。)〕 で示される化合物と、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Zはハロゲン原子を表わす。 Aは酸素原子または硫黄原子を表わす。 Bは低級アルキル基、低級アルケニル基、 低級シクロアルキル基、フェニル基または 一般式−W−R_3で示される置換基を表わす(ここで
    、Wは酸素原子または硫黄原子を 表わし、R_3は低級アルキル基、低級アルケニル基、
    低級アルキニル基、低級ハロアル ケニル基、低級ハロアルキニル基または低 級シクロアルキル基を表わすか、またはハ ロゲン原子で置換されていてもよいフェニ ル基を表わすか、またはハロゲン原子、シ アノ基、フェニル基、低級シクロアルキル 基、低級アルコキシル基、低級アルケニル オキシ基、低級ハロアルコキシ基、フェノ キシ基あるいはアラルキルオキシ基のうち 少なくとも1つの原子または基で置換され たアルキル基を表わす。)。〕 で示される化合物とを反応させることを特徴とする一般
    式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R、R′、X、Y、AおよびBは 前記と同じ意味を表わす。〕 で示されるアニリン誘導体の製造法。 (3)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Rは水素原子、低級アルキル基ま たは低級アルコキシル基を表わす。 R′は低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキ
    ニル基、低級ハロアルキル基、 低級アルコキシアルキル基、低級シクロア ルキルアルキル基または低級シアノアルキ ル基を表わす。 Xは低級アルキル基、低級アルケニル基、 低級アルキニル基、低級アルコキシアルキ ル基、ニトロ基、ホルミル基、ヒドロキシ イミノメチル基、低級アルコキシイミノメ チル基、低級アルコキシル基、低級アルコ キシカルボニル基、水素原子、ハロゲン原 子またはアシル基を表わす。 Aは酸素原子または硫黄原子を表わす。〕 で示されるフェニルイソシアネート誘導体と、一般式 R_3−W−H 〔式中、Wは酸素原子または硫黄原子を表 わし、R_3は低級アルキル基、低級アルケニル基、低
    級アルキニル基、低級ハロアル ケニル基、低級ハロアルキニル基または低 級シクロアルキル基を表わすか、またはハ ロゲン原子で置換されていてもよいフェニ ル基を表わすか、またはハロゲン原子、シ アノ基、フェニル基、低級シクロアルキル 基、低級アルコキシル基、低級アルケニル オキシ基、低級ハロアルコキシ基、フェノ キシ基あるいはアラルキルオキシ基のうち 少なくとも1つの原子または基で置換され たアルキル基を表わす。〕 で示される化合物とを反応させることを特徴とする一般
    式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R、R′、X、A、WおよびR_3は前記と同
    じ意味を表わす。〕 で示されるアニリン誘導体の製造法。 (4)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Rは水素原子、低級アルキル基ま たは低級アルコキシル基を表わす。 Xは低級アルキル基、低級アルケニル基、 低級アルキニル基、低級アルコキシアルキ ル基、ニトロ基、ホルミル基、ヒドロキシ イミノメチル基、低級アルコキシイミノメ チル基、低級アルコキシル基、低級アルコ キシカルボニル基、水素原子、ハロゲン原 子またはアシル基を表わす。 Yは水素原子、水酸基、低級アルキル基、 低級アルケニル基、低級アルキニル基、低 級アルコキシカルボニルアルキル基または 一般式▲数式、化学式、表等があります▼あるいは−S
    R_2で示される基を表わす(ここで、R_1は低級ア
    ルキル基、低級シクロアルキル基またはフェニル 基を表わし、R_2は低級アルキル基、フェニル基また
    は低級アルコキシカルボニル基 を表わす。)。 Aは酸素原子または硫黄原子を表わす。 Bは低級アルキル基、低級アルケニル基、 低級シクロアルキル基、フェニル基または 一般式−W−R_3で示される置換基を表わす(ここで
    、Wは酸素原子または硫黄原子を 表わし、R_3は低級アルキル基、低級アルケニル基、
    低級アルキニル基、低級ハロア ルケニル基、低級ハロアルキニル基または 低級シクロアルキル基を表わすか、または ハロゲン原子で置換されていてもよいフェ ニル基を表わすか、またはハロゲン原子、 シアノ基、フェニル基、低級シクロアルキ ル基、低級アルコキシル基、低級アルケニ ルオキシ基、低級ハロアルコキシ基、フェ ノキシ基あるいはアラルキルオキシ基のう ち少なくとも1つの原子または基で置換さ れたアルキル基を表わす。)。〕 で示される化合物と一般式 R′−Z′ 〔式中、R′は低級アルキル基、低級アルケニル基、低
    級アルケニル基、低級アルキニ ル基、低級ハロアルキル基、低級アルコキ シアルキル基、低級シクロアルキルアルキ ル基または低級シアノアルキル基を表わす。 Z′は脱離基を表わす。〕 で示される化合物とを反応させることを特徴とする一般
    式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R、R′、X、Y、AおよびBは 前述のとおりである。〕 で示されるアニリン誘導体の製造法。 (5)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R_4は低級アルキル基を表わす。 R′は低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキ
    ニル基、低級ハロアルキル基、 低級アルコキシアルキル基、低級シクロア ルキルアルキル基または低級シアノアルキ ル基を表わす。 Xは低級アルキル基、低級アルケニル基、 低級アルキニル基、低級アルコキシアルキ ル基、ニトロ基、ホルミル基、ヒドロキシ イミノメチル基、低級アルコキシイミノメ チル基、低級アルコキシル基、低級アルコ キシカルボニル基、水素原子、ハロゲン原 子またはアシル基を表わす。 Yは水素原子、水酸基、低級アルキル基、 低級アルケニル基、低級アルキニル基、低 級アルコキシカルボニルアルキル基または 一般式▲数式、化学式、表等があります▼あるいは−S
    R_2で示される基を表わす(ここで、R_1は低級ア
    ルキル基、低級シクロアルキル基またはフェニル基を 表わし、R_2は低級アルキル基、フェニル基または低
    級アルコキシカルボニル基を表 基を表わす。)。 Aは酸素原子または硫黄原子を表わす。 Bは低級アルキル基、低級アルケニル基、 低級シクロアルキル基、フェニル基または 一般式−W−R_3で示される置換基を表わす(ここで
    、Wは酸素原子または硫黄原子を 表わし、R_3は低級アルキル基、低級アルケニル基、
    低級アルキニル基、低級ハロア ルケニル基、低級ハロアルキニル基または 低級シクロアルキル基を表わすか、または ハロゲン原子で置換されていてもよいフェ ニル基を表わすか、またはハロゲン原子、 シアノ基、フェニル基、低級シクロアルキ ル基、低級アルコキシル基、低級アルケニ ルオキシ基、低級ハロアルコキシ基、フェ ノキシ基あるいはアラルキルオキシ基のう 少なくとも1つの原子または基で置換され たアルキル基を表わす。)。〕 で示される化合物と一般式 R−NH_2 〔式中、Rは水素原子、低級アルキル基ま たは低級アルコキシル基を表わす。〕 で示される化合物とを反応させることを特徴とする一般
    式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R、R′、X、Y、AおよびBは前記と同じ意
    味を表わす。〕 で示されるアニリン誘導体の製造法。 (6)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Rは水素原子、低級アルキル基ま たは低級アルコキシル基を表わす。 R′は低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキ
    ニル基、低級ハロアルキル基、 低級アルコキシアルキル基、低級シクロア ルキルアルキル基または低級シアノアルキ ル基を表わす。 Xは低級アルキル基、低級アルケニル基、 低級アルキニル基、低級アルコキシアルキ ル基、ニトロ基、ホルミル基、ヒドロキシ イミノメチル基、低級アルコキシイミノメ チル基、低級アルコキシル基、低級アルコ キシカルボニル基、水素原子、ハロゲン原 子またはアシル基を表わす。 Yは水素原子、水酸基、低級アルキル基、 低級アルケニル基、低級アルキニル基、低 級アルコキシカルボニルアルキル基または 一般式▲数式、化学式、表等があります▼あるいは−S
    R_2で示される基を表わす(ここで、R_1は低級ア
    ルキル基、低級シクロアルキル基またはフェニル 基を表わし、R_2は低級アルキル基、フェニル基また
    は低級アルコキシカルボニル基 を表わす。)。 Aは酸素原子または硫黄原子を表わす。 Bは低級アルキル基、低級アルケニル基、 低級シクロアルキル基、フェニル基または 一般式−W−R_3で示される置換基を表わす(ここで
    、Wは酸素原子または硫黄原子を 表わし、R_5は低級アルキル基、低級アルケニル基、
    低級アルキニル基、低級ハロア ルケニル基、低級ハロアルキニル基または 低級シクロアルキル基を表わすか、または ハロゲン原子で置換されていてもよいフェ ニル基を表わすか、またはハロゲン原子、 シアノ基、フェニル基、低級シクロアルキ ル基、低級アルコキシル基、低級アルケニ ルオキシ基、低級ハロアルコキシ基、フェ ノキシ基あるいはアラルキルオキシ基のう ち少なくとも1つの原子または基で置換さ れたアルキル基を表わす。)。〕 で示されるアニリン誘導体を有効成分として含有するこ
    とを特徴とする農園芸用殺菌剤。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002536354A (ja) * 1999-02-06 2002-10-29 アべンティス・クロップサイエンス・ゲー・エム・ベー・ハー N2−フェニルアミジン誘導体
US8933107B2 (en) 2005-09-13 2015-01-13 Bayer Cropscience Ag Pesticide thiazolyloxy substituted phenylamidine derivatives
WO2020148617A1 (en) * 2019-01-14 2020-07-23 Pi Industries Ltd. 3-substituted phenylamidine compounds, preparation and use thereof

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CN113454063A (zh) * 2019-01-14 2021-09-28 Pi工业有限公司 3-取代苯脒化合物、其制备方法和用途

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