JPS60188359A - Ν−フエニルイミデ−ト系化合物、その製造法およびそれを有効成分とする農園芸用殺菌剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、一般式ＣＩ） 〔式中、ＸおよびＹは同一または相異なり、水素原子、
ハロゲン原子、低級アルケニル基、低級シアノアルケニ
ル基、低級アルキニル基、低級アルコキシル基またはシ
アノ基を表わすか、または、ハロゲン原子、水酸基ある
いはシアノ基で置換されていてもよい低級アルキル基を
表わすか、または、一般式−ＣＨ２０Ｒ３。

（２１） で示される置換基を表わす（ここで、Ｒは低級アルキル
基、低級アルケニル基、低級アルキニル基または低級ハ
ロアルキル基を表わす。Ｒ４は水素原子または低級アル
キル基を表わす。ｎは２．３または４を表わす。）。

九当４９Ｚは水素原子、フッ素原子または一般式一〇Ｒ
Ｂ　で示される置換基を表わす（ここで、Ｒ５は低級ア
ルケニル基または低級アルキニル基を表わすか、または
、ハロゲン原子、低級アルコキシル基あるいは低級シク
ロアルキル基で置換されていてもよい低級アルキル基を
表わす。）。

ＡおよびＢは同一または相異なり、酸素原子、硫黄原子
または一般式−ＮＲ６−で示される置換基を表わす（こ
こで、Ｒ６は水素原子、低級アルキル基、低級シクロア
ルキル基、低級アルコキシアルキル基または低級ハロア
ルキル基を表オ）す。）。

Ｒ１およびに２は同一または相異なり、置換されていて
もよい炭素数１〜８のアルキル基、（２２） 炭素数３〜８のアルケニル基、炭素数３〜８のアルキニ
ル基、シクロアルキル基、シクロ７Ｊ１／ケニル基、低
級ハロアルケニル基、低級ハロアルキニル基、シアノ基
、置換すしていてもよいフェニル基、ナフチル基、置換
されていてもよい複素環基または置換されていてもよい
カルバモイル基を表わずか、または−Ｌ　Ｌ ＩＩ　Ｉｆ 般式−ＣＲ７、Ｃ−Ｍ　Ｒ７、５ｏ２Ｒ７あるいは−Ｌ
　Ｒ７で示される置換基を表わしくここで、ＬおよびＭ
は同一または相異なり、酸素原子または硫黄原子を表わ
す。Ｒ７は置換されていてもよい低級アルキル基、低級
アルケニル基、低級アルキニル基、シクロアルキル基、
シクロアルケニル基、置換されていてもよいフェニル基
または置換されていてもよい複素環基を表わす。）、ま
たに１とＲ２とにより置換されていてもよいアルキレン
基または置換されていてもよいカルボニル基あるいはフ
ェニレン基を含むアルキレン基を表わす。〕で示される
Ｎ−フェニルイミデート系化合物、その製造法およびそ
れを有効成分とする農園芸用殺菌剤に関する。

本発明者らはベンズイミダゾール・チオファネート系殺
菌剤および環状イミド系殺菌剤に耐性を示す植物病原菌
およびその他の糸状菌（以下薬剤耐性菌と呼ぶ）に対し
、殺菌効果を示す化合物について鋭意検討を行った結果
、前記一般式ＣＩ）で示されるＮ−フェニルイミデート
系化合物が薬剤耐性菌に対して有効であることを見出し
た。

一般式ＣＩ）で示されるＮ−フェニルイミデート系化合
物は、ベノミル〔メチル　１−（ブチルカルバモイル）
ベンズイミダゾール−２−イルカ−バメート〕、フベリ
ダゾール［２−（２−フリル）ベンズイミダゾール〕、
チアベンダゾール（２−（４−チアゾリル）ベンズイミ
ダゾール〕、カルペンダジム〔メチル　ベンズイミダゾ
ール−２−イルカ−バメート〕、チオファネートメチル
（１，２−ビス（３−メトキシカルボニル−２−ウオウ
レイド）ベンゼン〕、チオファネート（１，２−ビス（
３−エトキシカルボニル−２−チオウレイド）ベンゼン
〕なりロロフェニル）−１，２−ジメチルシクロプロパ
ン−１，２゛−ジカルボキシイミド〕、イプロジオン［
３−（３’、５’−ジクロロフェニル）−１−イソプロ
ピルカルバモイルイミダゾリジン−２，４−ジオン〕、
ビンクロゾリン〔３−（３′、５′−ジクロロフェニル
）−５−メチル−５−ビニル−オキサゾリジン−２，４
−ジオン〕、エチル（ＲＳ　）　−３−（３’　、　５
’−ジクロロフェニル）−５−メチル−２，４−ジオキ
ソオキサゾリジン−５−カルボキシレートなどの環状イ
ミド系殺菌剤に耐性を示す植物病原菌およびその他の糸
状菌に対し、選択的に強い殺菌効果を示すことを特徴と
している。

本発明化合物は上述のようにベンズイミダゾール・チオ
ファネート系殺菌剤番ご耐性を示す菌（２５） に対し選択的に強い殺菌効果を示すが故に、前記薬剤が
使用されることにより出現が予想されるまたは出現した
薬剤耐性菌の防除に使用することができる。たとえば、
リンゴのうどんこ病菌（Ｐｏｄｏｓｐｈａｅｒａ　１ｅ
ｕｃｏｔｒｉｃｈａ）　、黒星病菌（Ｖｅ、ｎｔｕｒｉ
ａ　１ｎａｅｑｕａｌｉｓ）、ナシの黒星病菌（Ｖｅｎ
ｔｕｒｉａ　ｎａｓｈｉｃｏｌａ）、モニリア病菌（Ｓ
ｃｌｅ−ｒｏｓｉｎｉａ　ｍａｌｉ　）、カキの炭そ病
菌（Ｇｌｏｅｏｓｐｏｒｕｍｋａｋｉ）、モモの灰星病
菌（Ｓｃｌｅｒｏｔｉｎｉａ　ｃｉｎｅｒｅａ）、黒星
病菌（Ｃｌａｄｏｓｐｏｒｉｕｍ　ｃａｒｐｏｐｈｉｌ
ｕｍ）　、ブドウの灰色かび病菌（Ｂｏｔｒｙｔｉｓ　
ｃｉｎｅｒｅａ）、黒とう病菌（Ｅｌ　ｓ　１ｎｏｅ　
ａｍｐｅｌ　ｉｎａ　）、晩腐病菌（Ｇｌｏｍｅ−ｒｅ
ｌｌａ　ｃｉｎｇｕｌａｔａ）、テンサイの褐斑病菌（
Ｃｅｒｃｏｓｐｏｒａ　ｂｅｔｉｃｏｌａ）　、ビーナ
ツツの褐斑病菌（Ｃｅｒｃｏｇｐｏｒａ　ａｒａｃｈｉ
ｄｉｃｏｌａ）　、無洗病菌（Ｃｅｒｃｏｓｐｏｒａ　
ｐｅｒｓｏｎａｔａ　）、オオムギのうどんこ病菌（Ｅ
ｒｙｓｉｐｈｅ　ｇｒａｍｉｎｉｓ　ｆ　、　ｓｐ、　
ｈｏｒｄｅｉ　）、アイ−スポット病菌（Ｃｅｒｃｏｓ
ｐｏｒｅｌｌａ　ｈｅｒｐｏｔｒｉ　−ｃｈｏｉｄｅｓ
　）　、紅色雪腐病菌（Ｆｕｓａｒｉｕｍ　ｎ１ｖａｌ
ｅ　）、コムギのうどんこ病菌（Ｅｒｙｓｉｐｈｅ　ｇ
ｒａｍｉｎｉｓ　ｆ　。

（２６） ｉｐ、ｔｒｉｔｉｃｉ）、キュウリのうどんこ病菌（Ｓ
ｐｈａｅｒｏＬｈｅｃａ　ｆｕ目ｇｉｎｅａ　）、ツル
枯病菌（Ｍｙｃｏｓｐｈａｅｒｅｌｌａ　ｍｅｌｏｎｉ
ｓ　）　、灰色かび病菌（ｎｏｔｙｔｔｓ　ｃｉｎｅｒ
ｅａ）、黒星病菌（Ｃｌａｄｏｉｐｏｒｉｕｍｃｕｃｕ
ｍｅ　ｒ　ｉ　ｎｕｍ　）、トマトの葉かび病菌（Ｃ１
ａｄｏｓｐ−ｏｒｉｕｍ　ｆｕｌｖｕｍ）、灰色カビ病
菌（Ｂｏｔｒｙｔ（ｓｃｉｎｅｒｅａ）、イチゴのうど
んこ病菌（Ｓｐｈａｅｒｏｔｈｅｃａｈｕｍｕｌ　ｉ　
）、　ホップの灰色カビ病菌（Ｂｏｔｒｙｔｉｓｃｉｎ
ｅｒｅａ）、タバコのうどんこ病菌（Ｅｒｙｍｉｐｈｅ
ｃｉｃｈｏｒａｃｅａｒｕｍ）、バラの黒星病菌（Ｄｉ
ｐｌｏｃａｒｐｏｎｒｏｓａｅ　）、ミカンのそうか病
菌（Ｅｌｓｉｎｏｅ　ｆａｗｃｅｔｉｉ）、青かび病菌
（Ｐｅｎｉｃｉｌｌｉｕｍ　ｉｔａｌｉｃｕｍ）、緑か
び病菌（Ｐｅｎｉｃｆｌｌｉｕｍ　ｄｉｇ（ｔａｔｕｍ
）　などの薬剤耐性菌の防除に使用することができる。

次に一般式（Ｉ）で示される本発明化合物を例示すると
第１表のよう１こなるが、本発明化合物はこれらのみに
限定されるものではない。

（２７） 特開昭Ｇ　０−１８８３５９　（２０）： 次に本発明化合物の製造法について述べる。

一般式ＣＩ）で示されるＮ−フェニルイミデート系化合
物はたとえば次の方法により製造できる。

製法（ａ）　一般式［ＩＩ） 〔式中、Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ａおよびに１は前述と同じ意味を
表オ〕し、ｑはハロゲン原子を表わす。〕 で示されるイミドイルジクロライド誘導体と一般式［Ｉ
Ｉ［］ ＨＢ　−Ｒ２（ＩＩＩ） 〔式中、ＢおよびＲ２は前述と同じ意味を表わす。〕 で示される化合物あるいはその塩とを反応させる製造法
。

製法（ｂｌ　一般式（ＩＶ） 〔式中、ｘ、ｙ、ｚおよびＱは前述と同じ意味を表わす
。〕 で示されるイミドイルジクロライド誘導体と一般式〔■
〕 ＨＡ　Ｒ１［Ｖ） 〔式中、Ａおよびに１　は前述と同じ意味を表わす。〕 で示される化合物あるいはその塩、および一般式（ＶＩ
） ＨＢ　−Ｒ２（ＶＩ〕 〔式中、Ｂおよびｋ　は前述と同じ意味を表わす。〕 で示される化合物あるいはその塩、または、一般式〔■
〕 （４０） ＨＡ−Ｒ−ＢＨ，（■〕 〔式中、ＡおよびＢは前述と同じ意味を表わし　Ｒ８は
置換されていてもよいアルキレン基または置換されてい
てもよいカルボニル基あるいはフェニレン基を含むアル
キレン基を表わす。〕 で示される化合物あるいはその塩とを反応させる製造法
。

また、一般式ＣＩ）において置換基Ｂが硫黄原子を表わ
す場合、本発明化合物はたとえば次の方法１こよっても
製造できる。

製法（Ｃ）一般式〔■〕 〔式中、Ｘ、Ｙ、Ｚ、ＡおよびＲ１は前述化合物と一般
式（ＩＸＩ （４２） （４１） Ｒ−Ｑ　（ＩＸＩ 〔式中、Ｒ２およびＱは前述と同じ意味を表わす。〕 で示される化合物とを反応させる製造法。

上記製法において、反応は一般にベンゼン、トルエン、
キシレン、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジ
オキサン、クロロホルム、四塩化炭素、酢酸エチル、ピ
リジン、ジメチルホルムアミド等の有機溶媒またはその
混合物中において行われ、ピリジン、トリエチルアミン
、ジエチルアニリン、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、水素化ナトリウム等の脱ハロゲン化水素剤や、必要
に応じてテトラブチルアンモニウムプロミド、ベンジル
トリエチルアンモニウムクロリド等の相間移動触媒を用
いることにより、高収率で行うことができる。反応は必
要に応じて、冷却または加熱（０〜１５０℃）すること
により、１０時間以内で完結し、収率よく目的物を得る
ことができる。

次に製造例を示す。

（４３） 製造例Ｉ Ｓ−イソプロピル　５ｌ−Ｐ−１−ブチルベンジル　Ｎ
−（３，４−ジェトキシ−５−メチルフェニル）ジチオ
カーボンイミデートの製造〔製法（ｃ）による〕 メタノールＪ５−にイソプロピルＮ　（３゜４−ジェト
キシ−５−メチルフェニル）ジチオツカ−バメート３．
１３９　（０，０１モル）を溶解し、ここへ金属すトリ
ウム０．２３Ｆ（０，０１モル）とメタノール３０ｍｔ
から調製したナトリウムメチラー１−のメタノール溶液
を１０℃以下で加えた。続いてｔ−ブチルベンジルブロ
マイド２．９５ダ（０，０１３モル）を滴下し、３時間
攪拌した後、３００　ｍｌの氷水へ注ぎ、１５０ｍ１の
酢酸エチルで抽出した。抽出層を水で洗浄し、無水硫酸
マグネシウムで乾燥後、酢酸エチルを減圧留去した。得
られた粗油状物をトルエン−テトラヒドロフラン（９／
１）　の混合溶媒を溶離剤としてシリカゲルクロマトグ
ラフィーで精製し、Ｓ−イソプロピルＳ’−ｔ−ブチル
ベンジル−Ｎ−（３，４−ジェトキシ−５−メチルフェ
ニル）ジチオカーボンイミデート４．３１ｙ（収率９４
％）が得られた。

８ ｎ］）１．５７９１　、　ＮＭＲ（ＣＤＣ７３，ＴＭＳ
）δ：１．２〜１．６（２１Ｈ，ｍ）、２．２０（３Ｈ
，ｇ）、３．５〜４．４　（７）１．ｍ）、６．１〜７
．３（ｍ、６Ｈ）製造例２ メチル　Ｓ−エチル−Ｎ−（３−クロロ−４−エトキシ
−５−メトキシメチルフェニル）モノチオカーボンイミ
デートの製造〔製法（ａ）による〕 エタノール１５−にエチルＮ−（３−クロロ−４−エト
キシ−５−メトキシメチルフェニル）−１−クロロチオ
フォルムイミデート３．０８９　（０，０１モル）溶か
し、ここへ金属ナトリウム０．２３Ｆ（０，０１モル）
とメタノール２〇−から調製したナトリウムメチラート
のメタノール溶液を２５℃で加え、さらに３５℃で８時
間攪拌後、水１００−で希釈し、酢酸エチル１５０−で
抽出した。該酢酸エチル層を水洗い后、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥し、酢酸エチルを減圧上留去した。得られ
た粗油状物を溶離剤としてトルエン−テトラヒドロフラ
ン（９／１）　を用いシリカゲルクロマトグラフィーに
より精製しメチル　Ｓ−エチル　Ｎ−（３−クロロ−４
−エトキシ−５−メトキシメチルフェニル）−モノチオ
カーボンイミデート３゜０２ｆ（収率９５％）が得られ
た。

４ ｎＤｌ、５４８２　、　ＮＭＲ（ＣＤＣ／３．　ＴＭＳ
）δ：１．３８（３Ｈｔｌ）１１゜５２（３Ｈ，ｔ）　
、２．９２（２Ｈ，’ｌ）　。

３．３５（３Ｈ，８）　、ａ、９ｏ（ａＨ，ｓ）　、ａ
、ｓｏ〜４．２０（４Ｈ，ｍ）、４．４５（２Ｉ（、Ｓ
）、６．８３（２１１，＠）。

６．８３（２Ｈ，８） 製造例３ ０−メチル　０′−メチル−Ｎ−（３，５−ジクロロフ
ェニル）カーボンイミデートの製造〔製法（ｂｌによる
〕 メタノール１５ｒｎｌにＮ−（３，５−ジクロロフェニ
ル）カーボンイミドイルジクロライド２．４３Ｆ（０，
０１モル）を溶解し、ここへ金（４６） 属ナトリウム０．４６１０．０２モル）とメタノール３
０−から調製したナトリウムメチラートのメタノール溶
液を２５℃で加え、さらに３５℃で７時間攪拌后、１０
０ｍ１の水で希釈し１５０−の酢酸エチルで抽出した。

製造例１と同様の後処理をして０−メチル　Ｏ′−メチ
ルＮ−（３，５−ジクロロフェニル）カーボンイミデー
ト２．１ｆｌ　（収率９２％）が得られた。

２δ ｎ　ｌ　、　５８６　Ｑ　ＮＭＲ（ｃＩ）ＣＺ３　、　
ＴＭ　Ｓ　）δ：　３．９２Ｉ） （６Ｈ，ｔ）、６．７３（２Ｈ）、７．００（ＩＨ）製
造例４ メチル　Ｓ−メトキシカルボニル　Ｎ　−（３−クロロ
−４−エトキシ−５−メトキシメチルフェニル）モノチ
オカーボンイミデートの製造〔製法（Ｃ）による〕 Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍ１にメチル　Ｎ−
（３−クロロ−４−エトキシ−５−メトキシメチルフェ
ニル）チオノカーバメート２．９０ｇ（０，０１モル）
を溶解し、ここへ（４７） 水素化ナトリウム０゜２４ｆ（０，０１モル）を２０℃
で加え、さらにメチルクロロホーメート１．１３Ｆ（０
，０１２モル）を加え２５℃で４時間攪拌して後、製造
例１と同じ後処理を行った。

メチル　Ｓ−メトキシカルボニル−Ｎ−（３−クロロ−
４−エトキシ−５−メトキシメチルフェニル）モノチオ
カーボンイミデート３．３４９（収率９６％）が得られ
た。

ｍｐ７０〜７１℃ ＮＭＲ（ＣＤＣＩ！３．　ＴＭＳ）δ：　１．４２（３
Ｈ，ｌ）。

３．３５（３Ｈ，Ｓ）、３．７０（３Ｈ，１１）、４．
０３（３Ｈ，Ｓ）。

３．９５（２Ｈ，ｔ）、４．４３（２Ｈ，８）、７．７
０（２Ｈ，ＩＩ）このようにして得られた本発明化合物
を第２表に示す。

（４８） このようにして得られた本発明化合物を実際に施用する
際には他成分を加えずそのまま使用でき、また、殺菌剤
として使いやすくするため担体と混合して施用すること
ができ、通常使用される形態たとえば粉剤、水和剤、油
剤、乳剤、錠剤、粒剤、微粒剤、エアゾール、フロアブ
ルなどに製剤して施用する。

上記製剤中には一般に活性化合物を重量にして１゜０〜
９５゜０チ、好ましくは２．０〜８０．０％を含み、通
常１０アールあたり１０〜１００ｆの施用量である。さ
らにその使用濃度は０．００５　〜０．５９６の範囲が
望ましいが、これらの使用量、濃度は剤型、施用時期、
方法、場所、対象病害、対象作物等によっても異なるた
め前記範囲に拘わることなく増減することは何ら差し支
えない。

さらに他の殺菌剤、除草剤、植物生長調節剤および殺虫
剤と混合して使用することもできる。

次に製剤例を示す。

製剤例１　粉　剤 本発明化合物（２）２部、クレー８８部およびタルク１
０部をよく粉砕混合して主剤含有量２チの粉剤を得る。

製剤例２　水和剤 本発明化合物＋４１３０部、珪藻土４５部、ホワイトカ
ーボン２０部、湿潤剤（ラウリル硫酸ソーダ）３部およ
び分散剤（リグニンスルホン酸カルシウム）２部をよ（
粉砕混合して主剤含有量３０係の水和剤を得る。

製剤例３　水和剤 本発明化合物＋５１５０部、珪藻土４５部、湿［［１（
アルキルベンゼンスルホン酸カルシウム）２．５部およ
び分散剤（リグニンスルホン酸カルシウム）２．５部を
よく粉砕混合して主剤含有量５０チの水和剤を得る。

製剤例４　乳　剤 本発明化合物＋８１１０部、シクロへキサノン８０部お
よび乳化剤（ポリオキシエチレンアルキ゛ルアリルエー
テル）１０部を混合して主剤含有量１０％の乳剤を得る
。

次に試験例をあげ、本発明化合物の農園芸用殺菌剤とし
ての有用性をさらに明らかにする。

なお、対照化合物は第３表の一般名で表示する。

第　３　表 注（１）市販除草剤　注（２）市販殺菌剤試験例１　キ
ュウリうどんこ病防除効果９〇−容のプラスチック製ポ
ットに砂壌土をつめ、キュウリ（品種：相撲半白）を播
種した。これを室温で８日間栽培し、子葉が展開したキ
ュウリ幼苗を得た。この幼苗に製剤例４に準じて乳剤に
調製した下記本発明化合物の乳剤および対照化合物の水
和剤の水希釈液を液滴が葉面に十分量付着するまで茎葉
散布した。薬液風乾後、幼苗に薬剤耐性または感受性の
キュウリうどんこ病菌（Ｓｐｈａｅｒｏｔｈｅｃａｆｕ
ｌ　１ｇ１ｎｅａ　）の分生胞子懸濁液を噴霧接種した
。これを温室で１０日間栽培し発病させた後、発病状態
を観察した。

発病度は下記の方法によって算出した。

すなわち、調査葉の病斑出現に応じて、０．０．５．１
．２．４の指数に分類し、次式によって発病度を算出し
た。

（発病指数）　（発病状態　） ０　・・・・・・・・葉面上に菌叢または病斑を認めな
い。

０．５・・・・・・・・葉面上に葉面積の５チ未満に菌
叢または病斑を認める。

１　・・・・・・・・葉面上に葉面積の２０％未満に菌
叢または病斑を認める。

２　・・・・・・・・葉面上に葉面積の５０チ未満に菌
叢または病斑を認める。

４　・・・・・・・・葉面上に葉面積の５０％以上に菌
叢または病斑を認める。

つづいて防除価を次式よりめた。

その結果、第４表のように本発明化合物は薬剤耐性菌を
接種した場合優れた防除効果を示し、ベンズイミダゾー
ル・チオファネート系殺菌剤または環状イミド系殺菌剤
に感受性な野性菌（以下薬剤感受性菌と呼ぶ）を接種し
た場合防除効果を示さなかった。一方、市ｉ殺菌剤のベ
ノミル、チオファネートメチル、カルペンダジムのいず
れも、薬剤耐性菌を接種した場合防除効果を示さず、薬
剤感受性菌を接種した場合優れた防除効果を示した。

化学構造類似の市販除草剤はいずれの菌を接種した場合
もほとんど防除効果を示さなかった。

第　４　表 試験例２　テンサイ褐斑病防除効果 ９０ｍ／容のプラスチック製ポットに砂壌土をつめ、テ
ンサイ（品種：デトロイトダークレッド）を播種した。

温室で２０日間栽培したのち得られた動画に製剤例４に
準じて調製した下記本発明化合物の乳剤および対照化合
物の水和剤の水希釈液を液滴が葉面に十分付着するまで
茎葉散布した。薬液風乾後幼苗に薬剤耐性または感受性
のテンサイ褐斑病菌（Ｃｅｒｃｏｓｐｏｒａ　ｂｅｔｉ
ｃｏｌａ）の分生胞子懸濁液を噴霧接種した。これにビ
ニールカバーをかぶせて多湿条件とし、温室で１０日間
栽培したのち、発病状態を観察した。

発病調査方法および防除価の算出は試験例１と同様に行
った。

その結果第５表のように試験例１の結果と同様に、本発
明化合物は薬剤耐性菌を接種した場合に優れた防除効果
を示し、逆に市販殺菌剤のベノミルおよびチオファネー
トメチル、カルペンダジムは薬剤感受性菌を接種した場
（６０） 合に優れた防除効果を示した。化学構造類似の市販除草
剤はいずれの菌を接種した場合もほとんど防除効果を示
さなかった。

第　５　表 試験例３　ナシ黒星病防除効果 ９〇−容プラスチック製ポットにピートモスと砂壌土の
混合土壌をつめ、ナシの果実（品種：長十部）より採取
した種子を播いた。

これを温室で２０日間栽培し得られた幼ｍ＋こ製剤例４
に準じて調製した下記本発明化合物の乳剤および下記対
照化合物の水和剤の水希釈液を液滴が葉面に十分付着す
るまで茎葉散（６２） （６１） 布した。

薬液風乾後動画に薬剤耐性または感受性のナシ黒星病菌
（Ｖｅｎｔｕｒｉａ　ｎａｓｈｉｃｏｌａ）の分生胞子
懸濁液を噴霧接種した。これを２０℃多湿条件下に３日
間置き、つづいて２０℃螢光灯照明下に２０日間栽培し
て発病させた。

発病調査方法および防除価の算出は試験例１と同様にし
た。

その結果、第６表のように本発明化合物は薬剤耐性菌を
接種した場合優れた防除効果を示し、逆に市販殺菌剤の
ベノミルおよびチオファネートメチルは薬剤感受性菌を
接種した場合優れた防除効果を示した。

（６３） 第　６　表 試験例４　キュウリ灰色カビ病防除効果９０１ｎｌ容の
プラスチック製ポットに砂壌土をつめ、キュウリ（品種
二相模半白）を播種した。これを温室で８日間栽培し、
子葉が展開したキュウリを得た。この幼苗に製剤例４に
準じて調製した下記本発明化合物の乳剤および下記対照
化合物の水和剤の水希釈液をポットあたり１〇−茎葉散
布した。薬液風乾後、幼苗に薬剤耐性または感受性のキ
ュウリ灰色カビ病菌（Ｂｏｔｒｙｔｉｓ　ｃｉｎｅｒｅ
ａ）の―叢切版（直径５暉）を葉面上にはり付けて接種
した。

これを２０℃多湿条件下に３日装置いて発病させた後、
発病状態を観察した。発病調査方法および防除価の算出
は試験例１と同様に行った。

その結果、第７表のように本発明化合物は薬剤耐性菌を
接種した場合優れた防除効果を示し、逆に市販殺菌剤の
ベノミルおよびチオファネートメチルは薬剤感受性菌を
接種した場合優れた防除効果を示した。

第　７　表 有効成分　薬剤耐性菌を　薬剤感受性菌供試化合物　濃
　度　接種した場合　を接種した場の防除価　合の防除
価 （ｐｐｍ）　（％）　（％） 本発明化合物＋２＋　２００　１００　０〃ｉ３１　２
００　１００　０ ｔｙ　（４１２００１０００ ／ｌ　（５１２００１０００ ｔｔ　（６１２００１０００ ｔｔ　ｆ８１　２００　１００　０ ｔｔ　（９１２００１０００ 〃　αα　２００　１００　０ ｔｔ　ｔＪ２　２００　１００　０ ｔｔ　（１３）　２００　１００　０ ｔｔ　０４１　２００　１００　０ ｔｔ　（１５１２００１０００ 〃Ｑ６）　２００　１００　０ ｔｔ　１１７１　’）（Ｉｎｉｎｎ　（１次に本発明化
合物と、ベンズイミダゾール・チオファネート系殺菌剤
および環状イミド系殺菌剤との混合例について述べる。

次の試験例で用いられるベンズイミダゾール・チオファ
ネート系殺菌剤および環状イミド系殺菌剤は第８表のと
おりである。

（６７） 第　８　表 （６８） （６９） 試験例５　キュウリうどんこ病防除効果９〇−容のプラ
スチック製ポットに砂壌土をつめ、キュウリ（品種：相
撲半白）を播種した。これを室温で８日間栽培し、子葉
が展開したキュウリ動画を得た。この動画に乳剤または
水和剤形態の供試薬剤の水希釈液を液滴が葉面に十分量
付着するまで茎葉散布した。

薬液風乾後、動画にキュウリうどんこ病菌（Ｓｐｈａｅ
ｒｏｔｈｅｃａ　ｆｕｌｉｇｉｎｅａ）の薬剤耐性菌お
よび感受性菌を混合して得られた分生胞子懸濁液を噴霧
接種した。これを温室に置いて１０日間栽培し発病させ
た後、発病状態を観察した。

発病調査方法および防除価の算出は試験例１と同様に行
った。

その結果、第９表のように、本発明化合物のいずれかと
、化合物Ａ、Ｂ、Ｃ，Ｄ、Ｅ。

Ｆ、Ｇ、Ｈのいずれかと混合して散布した場合、それら
を単独で散布した場合に比べ、優れた防除効果が認めら
れた。

（７１） 第　９　表 試験例６　トマト灰色カビ病防除効果 ９〇−容のプラスチック製ポットに砂壌土をつめ、トマ
ト（品種：福寿２号）を播種した。これを温室で４週間
栽培し、４葉期のトマト菌を得た。これに乳剤または水
和剤形態の供試薬剤の水希釈液をポットあたり１０ｔｎ
ｌ茎葉散布した。薬液風乾後、灰色カビ病菌（Ｂｏｔｒ
ｙｔｉｓ　ｃｉｎｅｒｅａ）の葉剤耐性菌および感受性
菌を混合して得られた分生胞子液を噴霧接種した。これ
を２０℃湿室条件下に５日装置いたのち発病状態を観察
した。発病調査方法および防除価の算出は試験例１と同
様に行（７４） った。

その結果、第１０表のように本発明化合物のいずれかと
、化合物１　、Ｊ　、に、Ｌのいずれかと混合して散布
した場合、それらを単独で散布した場合に比べ、優れた
防除効果が得られた。

第　１０　表 第１頁の続き

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１）　一般式 〔式中、ＸおよびＹは同一または相異なり、水素原子、
   ハロゲン原子、低級アルケニル基、低級シアノアルケニ
   ル基、低級アルキニル基、低級アルコキシル基またはシ
   アノ基を表わすか、または、）１０ゲン原子、水酸基あ
   るいはシアノ基で置換されていてもよい低級アルキル基
   を表わすか、または、一般式−ＣＨ２０Ｒ３、−αηＲ
   ３、−ＣＨ（ＯＲ３）２゜（１） あるいは−ＣＯＮＲ３Ｒ’　で示される置換基を表わす
   （ここで　Ｒ３は低級アルキル基、低級アルケニル基、
   低級アルキニル基または低級ハロアルキル基を表わす。 Ｒ４は水素原子または低級アルキル基を表わす。ｎは２
   ．３または４を表わす。）。 Ｚは水素原子、フッ素原子または一般式ＯＲ５で示され
   る置換基を表わす（ここで、ｋ６は低級アルケニル基ま
   たは低級アルキニル基を表わすか、または、ハロゲン原
   子、低級アルコキシル基あるいは低級シクロアルキル基
   で置換されていてもよい低級アルキル基を表わす。）。 ＡおよびＢは同一または相異なり、酸素原子、硫黄原子
   または一般式ＯＲ６−で示される置換基を表わす（ここ
   でＲ６は水素原子、低級アルキル基、低級シクロアルキ
   ル基、低級アルコキシアルキル基または低級ハロアルキ
   ル基を表わす。）。 Ｒ１およびＲ２は同一または相異なり、置（２） 換されていてもよい炭素数１〜８のアルキル基、炭素数
   ３〜８のアルケニル基、炭素数３〜８のアルキニル基、
   シクロアルキル基、シクロアルケニル基、低級ハロアル
   ケニル基、低、級ハロアルキニル基、シアノ基、置換さ
   れていてもよいフェニル基、ナフチル基、置換されてい
   てもよい複素環基または置換されていてもよいカルバモ
   イル基を表わすか、または一般式 ％式％ Ｌ　Ｒ？　で示される置換基を表わしくここで、■、お
   よびＭは同一または相異なり、酸素原子または硫黄原子
   を表わす。　Ｒ７は置換されていてもよい低級アルキル
   基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、シクロアル
   キル基、シクロアルケニル基、置換すれていてもよいフ
   ェニル基または置換されていてもよい複素環基を表わす
   。）、またｋ　とｋ　とにより置換されていてもよいア
   （３） ルキレン基または置換されていてもよいカルボニル基あ
   るいはフェニレン基を含むアルキレン基を表わす。〕 で示されるＮ−フェニルイミデート系化合物。 （２）　一般式 〔式中、ＸおよびＹは同一または相異なり、水素原子、
   ハロゲン原子、低級アルケニル基、１級シアノアルケニ
   ル基、低級アルキニル基、低級アルコキシル基またはシ
   アノ基を表わすか、または、ハロゲン原子、水酸基ある
   いはシアノ基で置換されていてもよい低級アルキル基を
   表わすか、または、一般式−ＣＨ２０Ｒ３、−Ｃ００Ｒ
   ３、−ＣＨ（ＯＲ３）２゜るいは−ＣＯＮＲ３Ｒ４で示
   される置換基を表わす（ここで、Ｒ３は低級アルキル基
   、低級（４） アルケニル基、低級アルキニル基または低級ハロアルキ
   ル基を表わす。Ｒ４は水素原子または低級アルキル基を
   表わす。ｎは２．３または４を表わす。）。 Ｚは水素原子、フッ素原子または一般式−０Ｒ５で示さ
   れる置換基を表わす（ここで、Ｒ６は低級アルケニル基
   または低級アルキニル基を表わすか、または、ハロゲン
   原子、低級アルコキシル基あるいは低級シクロアルキル
   基で置換されていてもよい低級アルキル基を表わす。）
   。 Ａは酸素原子、硫黄原子または一般式 ＮＲ６−で示される置換基を表わす（ここで、Ｒ６は水
   素原子、低級アルキル基、低級シクロアルキル基、低級
   アルコキシアルキル基または低級ハロアルキル基を表わ
   す。）。 Ｒ１およびに２は同一または相異なり、置換されていて
   もよい炭素数１〜８のアルキル基、炭素数３〜８のアル
   ケニル基、炭素数３〜８のアルキニル基、シクロアルキ
   ル（５） 基、シクロアルケニル基、低級ハロアルケニル基、低級
   ハロアルキニル基、シアノ基、置換されていてもよいフ
   ェニル基、ナフチル基、置換されていてもよい複素環基
   または置換されていてもよいカルバモイル基を表わすか
   、または一般式 は−Ｌ　Ｒ７で示される置換基を表わす（ここで、Ｌお
   よびＭは同一または相異なり、酸素原子または硫黄原子
   を表わす。Ｒ７は置換されていてもよい低級アルキル基
   、低級アルケニル基、低級アルキニル基、シクロアルキ
   ル基、シクロアルケニル基、置換されていてもよいフェ
   ニル基または置換されていてもよい複素環基を表わす。 ）。 Ｑはハロゲン原子を表わす。〕 で示されるＮ−フェニルイミドイルモノハライドと、一
   般式 （６） ＨＢ−Ｒ 〔式中、Ｂは酸素原子、硫黄原子または一般式ＯＲ６−
   で示される置換基を表わす（ここで、ｋ　は水素原子、
   低級アルキル基、低級シクロアルキル基、低級アルコキ
   シアルキル基または低級ハロアルキル基を表オ）す。）
   。 Ｒ２は置換されていてもよい炭素数１〜８のアルキル基
   、炭素数３〜８のアルケニル基、炭素数３〜８のアルキ
   ニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、低級
   ハロアルケニル基、低級ハロアルキニル基、シアノ基、
   置換されていてもよいフェニル基、ナフチル基、置換さ
   れていてもよい複素環基または置換されていてもよいカ
   ルバモイル基を表わすか、または一般式 ％式％ −Ｌ−Ｒでポされる置換基を表わしくここで、Ｌおよび
   Ｍは同一または相異なり、酸（７） 素原子または硫黄原子を表わす。Ｒ“は置換されていて
   もよい低級アルキル基、低級７ＪＬ／ケニル基、低級ア
   ルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、
   置換すれていてもよいフェニル基または置換されていて
   もよい複素環基・を表わす。）。〕で示される化合物あ
   るいはその塩と反応させることを特徴とする一般式 〔式中、Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ａ、Ｂ、ＲおよびＲ２は前述と同
   じ意味を表オ〕す。〕 で示されるＮ−フェニルイミデート系化合物の製造法。 （３）　一般式 （８） 〔式中、ＸおよびＹは同一または相異なり、水素原子、
   ハロゲン原子、低級アルケニル基、低級シアノアルケニ
   ル基、低級アルキニル基、低級アルコキシル基またはシ
   アノ基を表わすか、または、ハロゲン原子、水酸基ある
   いはシアノ基で置換されていてもよい低級アルキル基を
   表オ）すか、または、一般式−ＣＨ３ＯＲ，３、−ＣＯ
   ＯＲ３、ＣＨ（ＯＲ３）２゜−Ｃ＜〉ＣＨ２）ｎ、　Ｃ
   ０Ｒ４−ＣＨ−Ｎ−０Ｒ４あるいは一〇〇ＮＲ３Ｒ’　
   で示される置換基を表わす（ここで、Ｒ３は低級アルキ
   ル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基または低級
   ハロアルキル基を表わす。Ｒ′は水素原子または低級ア
   ルキル基を表わす。 ｎは２．３または４を表わす。）。 Ｚは水素原子、フッ素原子または一般式ＯＲ５で示され
   る置換基を表わす（ここで、Ｒ１）は低級アルケニル基
   または低級アルキニル基を表わすか、または、ハロゲン
   原子、（９） 低級アルコキシル基あるいは低級シクロアルキル基で置
   換されていてもよい低級アルキル基を表わす。）。 Ｑはハロゲン原子を表わす。〕 で示されるＮ−フェニルイミドイルジクロライドと、一
   般式 ％式％ 〔式中、Ｒ１は置換されていてもよい炭素数１〜８のア
   ルキル基、炭素数３〜８のアルケニル基、炭素数３〜８
   のアルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル
   基、低級ハロアルケニル基、低級ハロアルキニル基、シ
   アノ基、置換されていてもよいフェニル基、ナフチル基
   、置換されていてもよい複素環基または置換されていて
   もよいカルバモイル基を表わすか、または一般式−Ｌ−
   Ｒでボされる置換基を表わす（ここ（１０） で、ＬおよびＭは同一または相異なり、酸素原子または
   硫黄原子を表わす。Ｒ７は置換されていてもよい低級ア
   ルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、シク
   ロアルキル基、シクロアルケニル基、置換されていても
   よいフェニル基または置換されていてもよい複素環基を
   表わす。）。 Ａは酸素原子、硫黄原子または一般式 ＮＲ６−で示される置換基を表わす（ここで、Ｒ６は水
   素原子、低級アルキル基、低級シクロアルキル基、低級
   アルコキシアルキル基または低級ハロアルキル基を表わ
   ｔ）。〕で示される化合物あるいはその塩、および、一
   般式 〔式中、Ｒ２は置換されていてもよい炭素数１〜８のア
   ルキル基、炭素数３〜８のアルケニル基、炭素数３〜８
   のアルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル
   基、低級ハロアルケニル基、低級ハロアルキニル基、シ
   アノ基、置換されていてもよいフェニル基、ナフチル基
   、置換されていてもよい複素環基または置換されていて
   もよいカルバモイル基を表わすか、または一般式％式％ −Ｉ、Ｒ７で示される置換基を表わす（ここで、Ｌおよ
   びＭは同一または相異なり、酸素原子または硫黄原子を
   表わす。Ｒ７は置換されていてもよい低級アルキル基、
   低級アルケニル基、低級アルキニル基、シクロアルキル
   基、シクロアルケニル基、置換されていてもよいフェニ
   ル基または置換されていてもよい複素環基を表わす。）
   。 Ｂは酸素原子、硫黄原子または一般式 ＮＲ６−で示される置換基を表わす（ここでＲ６は水素
   原子、低級アルキル基、低級シクロアルキル基、低級ア
   ルコキシアルキル基または低級ハロアルキル基を表わ曵
   ）。〕で゛示される化合物あるいはその塩、または一般
   式 ％式％ で示される化合物あるいはその塩とを反応させることを
   特徴とする一般式 〔式中、Ｘ　、　Ｙ　、　Ｚ　、　Ａ　、　Ｂ　、　Ｒ
   １およびＲ２は前述と同じ意味を表す）し、またＲ１と
   ｋ　とにより置換されていてもよいアルキレ、ン基また
   は置換されていてもよいカルボニル基あるいはフェニレ
   ン基を含むアルキレン基を表わす。〕 で示されるＮ−フェニルイミデート系化合物の製造法。 （４）　一般式 （１３） 〔式中、ＸおよびＹは同一または相異なり、水素原子、
   ハロゲン原子、低級アルケニル基、低級シアノアルケニ
   ル基、低級アルキニル基、（ｊｌアルコキシル基または
   シアノ基を表わすか；または、ハロゲン原子、水酸基あ
   るいはシアノ基で置換されていてもよい低級アルキル基
   を表わすか、または、一般式−ＣＨ２０Ｒ３、−ＣＯＯ
   Ｒ３、−ＣＨ（ＯＲ３）２゜あるいは−ＣＯＮＲ３Ｒ４
   で示される置換基を表わす（ここで　Ｒ３は低級アルキ
   ル基、低級アルケニル基、低級アルケニル基、低級アル
   キニル基または低級ハロアルキル基を表わす。Ｒ４は水
   素原子または低級アル−キル基を表わす。ｎは２．３ま
   たは４を表わす。）。 （１４） Ｚは水素原子、フッ素原子または一般式−〇に５で示さ
   れる置換基を表わす（ここで、Ｒ６は低級アルケニル基
   または低級アルキニル基を表オ）すか、または、ハロゲ
   ン原子、低級アルコキシル基あるいは低級シクロアルキ
   ル基で置換されていてもよい低級アルキル基を表わす。 ）。 Ａは酸素原子、硫黄原子または一般式 ＮＲ６−で示される置換基を表わす（ここで、Ｒ６は水
   素原子、低級アルキル基、低級シクロアルキル基、低級
   アルコキシアルキル基または低級ハロアルキル基を表オ
   〕す。）。 Ｒ１は置換されていてもよい炭素数　１〜８のアルキル
   基、炭素数３〜８のアルケニル基、炭素数３〜８のアル
   キニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、低
   級ハロアルケニル基、低級ハロアルキニル基、シアノ基
   、置換されていてもよいフェニル基、ナフチル基、置換
   されていてもよい複素環基または置換されていてもよい
   カルバ（１５） モイル基を表わすか、または一般式 ％式％ Ｌ　Ｒ７で示される置換基を表わしくここで、Ｌおよび
   Ｍは同一または相異なり、酸素原子または硫黄原子を表
   わす。Ｒ７は置換されていてもよい低級アルキル基、低
   級アルケニル基、低級アルキニル基、シクロアルキル基
   、シクロアルケニル基、置換されていてもよいフェニル
   基または置換されていてもよい複素環基を表わす。）。 〕で示されるＮ−フェニルチオノカーバメート系化合物
   と、一般式 〔式中、Ｒ２は置換されていてもよい炭素数１〜８のア
   ルキル基、炭素数３〜８のアルケニル基、炭素数３〜８
   のアルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル
   基、低級ハロアルケニル基、低級ハロアルキル（１６） ル基、シアノ基、置換されていてもよいフェニル基、ナ
   フチル基、置換されていてもよい複素環基または置換さ
   れていてもよいカルバモイル基を表わすか、または一般
   式％式％ Ｌ−Ｒでボされる置換基を表わす（ここで、ＬおよびＭ
   は同一または相異なり、酸素原子または硫黄原子を表わ
   す。Ｒ７は置換されていてもよい低級アルキル基、低級
   アルケニル基、低級アルキニル基、シクロアルキル基、
   シクロアルケニル基、ａｍされていてもよいフェニル基
   または置換されでもよい複素環基を表わす。）。 Ｑはハロゲン原子を表わす。〕 で示されるハロゲン化物とを反応させることを特徴とす
   る一般式 〔式中、Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ａ、ＲおよびＲ２は前述と同じ意
   味を表わす。〕 で示されるＮ−フェニルイミデート系化合物の製造法。 （５）　一般式 〔式中、ＸおよびＹは同一または相異なり、水素原子、
   ハロゲン原子−低級アルケニル基、低級シアノアルケニ
   ル基、低級アルキニル基、低級アルコキシル基またはシ
   アノ基を表わすか、または、ハロゲン原子、水酸基ある
   いはシアノ基で置換されていてもよい低級アルキル基を
   表わすが、または、一般式−ＣＨ２０Ｒ３、−ＣＯＯＲ
   ３、−ＣＨ（ＯＲ３）２゜あるいは−〇〇ＮＲＲで示さ
   れる置換基を表わす（ここで　Ｒ３は低級アルキル基、
   （１８） 低級アルケニル基、低級アルキニル基または低級ハロア
   ルキル基を表わす。Ｒ４は水素原子または低級アルキル
   基を表オ）す。 ｎは２．３または４を表わす。）。 Ｚは水素原子、フッ素原子または一般式一〇Ｒ５で示さ
   れる置換基を表わす（ここで、Ｒ６は低級アルケニル基
   または低級アルキニル基を表わすか、または、ハロゲン
   原子、低級アルコキシル基あるいは低級シクロアルキル
   基で置換されていてもよい低級アルキル基を表わす。）
   。 ＡおよびＢは同一または相異なり、酸素原子、硫黄原子
   または一般式−ＮＲ６−で示される置換基を表わす（こ
   こで、Ｒ６は水素原子、低級アルキル基、低級シクロア
   ルキル基、低級アルコキシアルキル基または低級ハロア
   ルキル基を表わす。）。 Ｒ１およびＲ２は同一または相異なり、置換されていて
   もよい炭素数１〜８のアルキル基、炭素数３〜８のアル
   ケニル基、Ｊｉｌ（１９） 数３〜８のアルキニル基、シクロアルキル基、シクロア
   ルケニル基、低級ハロアルケニル基、低級ハロアルキニ
   ル基、シアノ基、置換されていてもよいフェニル基、ナ
   フチル基、置換されていてもよい複素環基または置換さ
   れていてもよいカルバモイル基を表オ）すか、または一
   般式 ％式％ （ −■・−Ｒ７で示される置換基を表わしくここで、Ｌお
   よびＭは同一または相異なり、酸素原子または硫黄原子
   を表わす。　Ｒ７は置換されていてもよい低級アルキル
   基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、シクロアル
   キル基、シクロアルケニル基、置換されていてもよいフ
   ェニル基または置換されていてもよい複素環基を表わす
   。）、またｋ　とｋ　とにより置換されていてもよいア
   ルキレン基または置換されていてもよいカルボニル基あ
   るいはフェニレン基を含むア（２０） ルキレン基を表わす。〕 で示されるＮ−フェニルイミデート系化合物を有効成分
   として含有することを特徴とする農園芸用殺菌剤。