JPS6128445A - 紫外線照射装置 - Google Patents
紫外線照射装置Info
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- JPS6128445A JPS6128445A JP15096284A JP15096284A JPS6128445A JP S6128445 A JPS6128445 A JP S6128445A JP 15096284 A JP15096284 A JP 15096284A JP 15096284 A JP15096284 A JP 15096284A JP S6128445 A JPS6128445 A JP S6128445A
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- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 title abstract 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 25
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims abstract description 23
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 5
- 238000007664 blowing Methods 0.000 claims description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 abstract description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract 1
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- 238000009423 ventilation Methods 0.000 description 2
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J19/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
- B01J19/12—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electromagnetic waves
- B01J19/122—Incoherent waves
- B01J19/123—Ultraviolet light
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、紫外線照射装置に関するもので、さらに−詳
誉すれば、紫外線の被照射物であるワークが不要に過剰
加熱されることを防止することを目的としたものである
。
誉すれば、紫外線の被照射物であるワークが不要に過剰
加熱されることを防止することを目的としたものである
。
焼付作業とか乾燥作業とかさらには表面処理作業等の目
的で、物品に紫外線を照射することが従来から多種の物
品に対して実施されている。
的で、物品に紫外線を照射することが従来から多種の物
品に対して実施されている。
この物品に紫外線を照射するものとしては、はとんど例
外なしに、紫外線ランプを使用した紫外線照射装置が使
用されているのであるが、前記された各作業に必要なの
は紫外線であって、この紫外線と一緒に発生する赤外線
は不要なものとなっている。
外なしに、紫外線ランプを使用した紫外線照射装置が使
用されているのであるが、前記された各作業に必要なの
は紫外線であって、この紫外線と一緒に発生する赤外線
は不要なものとなっている。
この紫外線と一緒に発生する赤外線は５被照射物である
ワークの温度を上昇させてしまい１種々の不都合をこの
ワークに生じさせることになっていた。
ワークの温度を上昇させてしまい１種々の不都合をこの
ワークに生じさせることになっていた。
それゆえ、従来は、紫外線ランプと糺合わさって紫外線
光源体を構成している反射鏡をコールドミラー構造とし
て、紫外線ランプから照射される光線の内９反射鏡で反
射されてワークに照射される光線の中から赤外線を除去
する手段がとられていた。
光源体を構成している反射鏡をコールドミラー構造とし
て、紫外線ランプから照射される光線の内９反射鏡で反
射されてワークに照射される光線の中から赤外線を除去
する手段がとられていた。
しかしながら１反射鏡をコールドミラーにしても紫外線
ランプから直接ワークに照射される直射光中の赤外線の
除去は全く出来ないので、紫外線照射装置によってワー
クに紫外線を照射している最中に、この紫外線と一緒に
ワークに照射される赤外線で上昇するワークの温度を充
分に低減することができなかった。
ランプから直接ワークに照射される直射光中の赤外線の
除去は全く出来ないので、紫外線照射装置によってワー
クに紫外線を照射している最中に、この紫外線と一緒に
ワークに照射される赤外線で上昇するワークの温度を充
分に低減することができなかった。
このため、ワークに対する処理に悪影響が発生したり、
ワークそのものに悪影響を与える等の不都合を生じるこ
とになっていた。
ワークそのものに悪影響を与える等の不都合を生じるこ
とになっていた。
本発明は、上記した従来例における不都合を解消すべく
創案されたもので、紫外線ランプとワークとの間に、紫
外線は通過させるが赤外線の通過を阻止し、かつ常時冷
却されている透明な石英ガラスを配置して構成したもの
である。
創案されたもので、紫外線ランプとワークとの間に、紫
外線は通過させるが赤外線の通過を阻止し、かつ常時冷
却されている透明な石英ガラスを配置して構成したもの
である。
以下２本発明による紫外線照射装置を、その一実施例を
示す図面を参照しながら説明する。
示す図面を参照しながら説明する。
本発明による紫外線照射装置は、紫外線ランプ２と反射
鏡３とを有する紫外線光源体１と、この紫外線光源体１
の直下をワーク１４を登載して走行通過するネットベル
ト８と、前記紫外線光源体１の直下に配置され前記ネッ
トベルト８上に登載されたワーク１４に鉤してバキュー
ムにより吸引作用を及ぼすバキューム枠体６と、前記紫
外線光源体ｌとネットベルト８との間に配置され１表面
に所定金属を膜付けして前記紫外線光源体１からの照射
光線中の赤外線の内、０．８μ〜１．１μの近赤外線を
前記膜付けされた金属により反射し、４μ以上の波長の
ものを吸収する透明な石英ガラス板９と、この石英ガラ
ス板９の表面に冷却空気を吹きつけると共に、前記ネッ
トベルト８上のワーク１４に対しても冷却空気を吹きつ
ける冷却機構ｌＯとから構成されている。
鏡３とを有する紫外線光源体１と、この紫外線光源体１
の直下をワーク１４を登載して走行通過するネットベル
ト８と、前記紫外線光源体１の直下に配置され前記ネッ
トベルト８上に登載されたワーク１４に鉤してバキュー
ムにより吸引作用を及ぼすバキューム枠体６と、前記紫
外線光源体ｌとネットベルト８との間に配置され１表面
に所定金属を膜付けして前記紫外線光源体１からの照射
光線中の赤外線の内、０．８μ〜１．１μの近赤外線を
前記膜付けされた金属により反射し、４μ以上の波長の
ものを吸収する透明な石英ガラス板９と、この石英ガラ
ス板９の表面に冷却空気を吹きつけると共に、前記ネッ
トベルト８上のワーク１４に対しても冷却空気を吹きつ
ける冷却機構ｌＯとから構成されている。
すなわち、ワーク１４に照射される紫外線光源体１から
の光線は、必ず石英ガラス板９を通過するようにし、こ
の紫外線光源体１からの光線が石英ガラス板９を通過す
る際に９石英ガラス板９によって光線中に含まれている
赤外−を反射および吸収除去し、もってワーク１４に照
射される光線内に赤外線が含まれないようにしたのであ
り、また赤外線を吸収して温度が上昇する石英ガラス板
９および除去しきれなかった赤外線の照射によって温度
の上昇するワーク１４を、冷気の吹きつけによって冷却
するのである。
の光線は、必ず石英ガラス板９を通過するようにし、こ
の紫外線光源体１からの光線が石英ガラス板９を通過す
る際に９石英ガラス板９によって光線中に含まれている
赤外−を反射および吸収除去し、もってワーク１４に照
射される光線内に赤外線が含まれないようにしたのであ
り、また赤外線を吸収して温度が上昇する石英ガラス板
９および除去しきれなかった赤外線の照射によって温度
の上昇するワーク１４を、冷気の吹きつけによって冷却
するのである。
図示実施例の場合、紫外線光源体１は、光源枠体４に紫
外線ランプ２と反射鏡３とが組付けられており、この光
源枠体４には、排気ダクト５で示す如く、前記紫外線ラ
ンプ２と反射鏡３とを冷却するための冷却通路が形成さ
れている。
外線ランプ２と反射鏡３とが組付けられており、この光
源枠体４には、排気ダクト５で示す如く、前記紫外線ラ
ンプ２と反射鏡３とを冷却するための冷却通路が形成さ
れている。
バキューム枠体６は、平坦でかつ滑り易い上面を有する
箱体構造をしていて、この上面を形成する土壁に多数の
通気孔を開孔形成すると共に、前記箱体内を排気ダクト
７により図示省略した適当なバキューム装置に接続して
いる。
箱体構造をしていて、この上面を形成する土壁に多数の
通気孔を開孔形成すると共に、前記箱体内を排気ダクト
７により図示省略した適当なバキューム装置に接続して
いる。
このバキューム枠体６の上面上を高速で摺動移動するネ
ットベルト８は１通気用の多数の孔を有するベルト体で
あって、この多数の孔を通して。
ットベルト８は１通気用の多数の孔を有するベルト体で
あって、この多数の孔を通して。
このネットベルト８上に登載されたワーク１４に対して
バキューム枠体６からのバキューム力がワーク１４に作
用するようになっている。
バキューム枠体６からのバキューム力がワーク１４に作
用するようになっている。
紫外線光源体ｌとネットベルト８との間に配置された石
英ガラス板９は、その表面に赤外線を反射する特殊金属
を膜付けして、紫外線光源体１からワーク１４に向かっ
て照射される光線の中から赤外線を反射および吸収除去
するのでるが９図示実施例の場合、この石英ガラス板９
に冷却機構１０が組付は固定されている。
英ガラス板９は、その表面に赤外線を反射する特殊金属
を膜付けして、紫外線光源体１からワーク１４に向かっ
て照射される光線の中から赤外線を反射および吸収除去
するのでるが９図示実施例の場合、この石英ガラス板９
に冷却機構１０が組付は固定されている。
この冷却機構１０は１石英ガラス板９に開孔形成された
組付は孔に嵌め込み固定された給気筒体１１により構成
されていて、この給気筒体１１の筒壁には２石英ガラス
板９の表面に向かって排気口１２が開口形成されている
と共に２石英ガラス板９の直下を通過するネットベルト
８の上面に対して別の排気口１３が開口形成されている
。
組付は孔に嵌め込み固定された給気筒体１１により構成
されていて、この給気筒体１１の筒壁には２石英ガラス
板９の表面に向かって排気口１２が開口形成されている
と共に２石英ガラス板９の直下を通過するネットベルト
８の上面に対して別の排気口１３が開口形成されている
。
それゆえ、この冷却機構１０の給気筒体１１に図示省略
した冷却気源から冷却用空気を供給すると。
した冷却気源から冷却用空気を供給すると。
この冷却空気は各排気口１２．１３から排出され９石英
ガラス板９およびこの石英ガラス板９の直下をネットベ
ルト８に登載されて走行通過するワーク１４を吹きつけ
ちれ、この石英ガラス板９およびワーク１４を冷却する
。
ガラス板９およびこの石英ガラス板９の直下をネットベ
ルト８に登載されて走行通過するワーク１４を吹きつけ
ちれ、この石英ガラス板９およびワーク１４を冷却する
。
なお、従来と同様に１反射鏡３としてコールドミラーを
使用して、この反射鏡３による反射光の中から赤外線を
除去するようにしても良いことは言うまでもない。
使用して、この反射鏡３による反射光の中から赤外線を
除去するようにしても良いことは言うまでもない。
本発明による紫外線照射装置は上記の如き構成となって
いるので、ネットベルト８に登載されて供給されてくる
ワーク１４に対して、紫外線光源体ｌから照射される光
線の内から１石英ガラス板９によって赤外線を反射およ
び吸収除去して、はぼ紫外線だけを照射することができ
る。
いるので、ネットベルト８に登載されて供給されてくる
ワーク１４に対して、紫外線光源体ｌから照射される光
線の内から１石英ガラス板９によって赤外線を反射およ
び吸収除去して、はぼ紫外線だけを照射することができ
る。
また、冷却機構１０の給気筒体１１から石英ガラス板９
に冷却空気が吹きつけられるので、赤外線を吸収するこ
とによる石英ガラス板９の温度の上昇を防止して２石英
ガラス板９を冷却するので、この石英ガラス板９が昇温
することによる２次放熱でワーク１４が加熱されるのを
防止することができる。
に冷却空気が吹きつけられるので、赤外線を吸収するこ
とによる石英ガラス板９の温度の上昇を防止して２石英
ガラス板９を冷却するので、この石英ガラス板９が昇温
することによる２次放熱でワーク１４が加熱されるのを
防止することができる。
同様に、冷却機構１０の給気筒体１１からの冷却空気の
一部が、ネットベルト８に登載されて搬送されてくるワ
ーク１４に直接吹きつけられるので、ワーク１４を直接
に冷却することができる。
一部が、ネットベルト８に登載されて搬送されてくるワ
ーク１４に直接吹きつけられるので、ワーク１４を直接
に冷却することができる。
さらに、ネットベルト８に登載されて搬送されるワーク
１４に直接吹きつけられる冷却空気は、このワーク１４
を冷却するだけではなく、ワーク１４をネットベルト８
上に押し付ける作用をするので。
１４に直接吹きつけられる冷却空気は、このワーク１４
を冷却するだけではなく、ワーク１４をネットベルト８
上に押し付ける作用をするので。
バキューム枠体６による吸引作用と相成ってワーク１４
をより強力にネットベルト８上に保持させることができ
るので、ワーク１４をより高速で搬送することができる
と共に、より安定した搬送を得ることができる。
をより強力にネットベルト８上に保持させることができ
るので、ワーク１４をより高速で搬送することができる
と共に、より安定した搬送を得ることができる。
またさらに、ネットベルト８により搬送されているワー
ク１４と紫外線光源体ｌとの間に石英ガラス板９が配置
されているので、予期せぬ原因によってネットベルト８
によるワーク１４の搬送異常が発生して、ワーク１４が
ネットベルト８上から舞い上がったとしても、この舞い
上がったワーク１４が紫外線ランプ２に直接接触してワ
ーク１４が焼損したり、紫外線ランプ２が破損したりす
る自己の発生を防止することができる。
ク１４と紫外線光源体ｌとの間に石英ガラス板９が配置
されているので、予期せぬ原因によってネットベルト８
によるワーク１４の搬送異常が発生して、ワーク１４が
ネットベルト８上から舞い上がったとしても、この舞い
上がったワーク１４が紫外線ランプ２に直接接触してワ
ーク１４が焼損したり、紫外線ランプ２が破損したりす
る自己の発生を防止することができる。
以上の説明から明らかな如く１本発明による紫外線照射
装置は、ワークに照射される光線の中から赤外線を除去
するので、赤外線によるワークの温度上昇を防止するこ
とができると共に、光線を照射中のワークに冷却空気を
吹きつけて直接冷却するので、ワークを常に加熱するこ
となく紫外線照射処理することができ、またネットベル
トによるワークの搬送動作をより安定したものとするこ
とができ、さらにより高い安定性を得ることができる等
多くの優れた効果を発揮するものである。
装置は、ワークに照射される光線の中から赤外線を除去
するので、赤外線によるワークの温度上昇を防止するこ
とができると共に、光線を照射中のワークに冷却空気を
吹きつけて直接冷却するので、ワークを常に加熱するこ
となく紫外線照射処理することができ、またネットベル
トによるワークの搬送動作をより安定したものとするこ
とができ、さらにより高い安定性を得ることができる等
多くの優れた効果を発揮するものである。
図面は本発明による紫外線照射装置のかく構成部分の配
置を示す縦断面図である。 符号の説明 １；紫外線光源体、２；紫外線ランプ、３；反射鏡、４
；光源枠体、５；排気ダクト、６；バキューム枠体、７
；排気ダクト ８；ネットベルト。 ９；石英ガラス板、１０；冷却機構、１１；給気筒体。 １２．１３；排気口、１４；ワーク。
置を示す縦断面図である。 符号の説明 １；紫外線光源体、２；紫外線ランプ、３；反射鏡、４
；光源枠体、５；排気ダクト、６；バキューム枠体、７
；排気ダクト ８；ネットベルト。 ９；石英ガラス板、１０；冷却機構、１１；給気筒体。 １２．１３；排気口、１４；ワーク。
Claims (1)
- 紫外線ランプと反射鏡とを有する紫外線光源体と、該紫
外線光源体の直下をワークを登載して走行通過するネッ
トベルトと、前記紫外線光源体の直下に配置され前記ネ
ットベルト上に登載されたワークに対してバキュームに
より吸引作用を及ぼすバキューム枠体と、前記紫外線光
源体とネットベルトとの間に配置され、表面に所定金属
を膜付けして前記紫外線光源体からの照射光線中の赤外
線の内、０．８μ〜１．１μの近赤外線を前記膜付けさ
れた金属により反射し、４μ以上の波長のものを吸収す
る透明な石英ガラス板と、該石英ガラス板の表面に冷却
空気を吹きつけると共に、前記ネットベルト上のワーク
に対しても冷却空気を吹きつける冷却機構とから成る紫
外線照射装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15096284A JPS6128445A (ja) | 1984-07-20 | 1984-07-20 | 紫外線照射装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15096284A JPS6128445A (ja) | 1984-07-20 | 1984-07-20 | 紫外線照射装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6128445A true JPS6128445A (ja) | 1986-02-08 |
| JPH0456289B2 JPH0456289B2 (ja) | 1992-09-08 |
Family
ID=15508237
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15096284A Granted JPS6128445A (ja) | 1984-07-20 | 1984-07-20 | 紫外線照射装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6128445A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4780287A (en) * | 1984-07-03 | 1988-10-25 | Ultrox International | Decomposition of volatile organic halogenated compounds contained in gases |
| US4941957A (en) * | 1986-10-22 | 1990-07-17 | Ultrox International | Decomposition of volatile ogranic halogenated compounds contained in gases and aqueous solutions |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4945254U (ja) * | 1972-07-25 | 1974-04-20 | ||
| JPS5814813A (ja) * | 1981-07-20 | 1983-01-27 | Akira Ito | 紫外線硬化装置の冷却装置 |
| JPS599918A (ja) * | 1982-07-09 | 1984-01-19 | Hitachi Ltd | 反射投影露光装置のウエハレベリング方法 |
-
1984
- 1984-07-20 JP JP15096284A patent/JPS6128445A/ja active Granted
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4945254U (ja) * | 1972-07-25 | 1974-04-20 | ||
| JPS5814813A (ja) * | 1981-07-20 | 1983-01-27 | Akira Ito | 紫外線硬化装置の冷却装置 |
| JPS599918A (ja) * | 1982-07-09 | 1984-01-19 | Hitachi Ltd | 反射投影露光装置のウエハレベリング方法 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4780287A (en) * | 1984-07-03 | 1988-10-25 | Ultrox International | Decomposition of volatile organic halogenated compounds contained in gases |
| US4941957A (en) * | 1986-10-22 | 1990-07-17 | Ultrox International | Decomposition of volatile ogranic halogenated compounds contained in gases and aqueous solutions |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0456289B2 (ja) | 1992-09-08 |
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