JPH0456289B2 - - Google Patents
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- JPH0456289B2 JPH0456289B2 JP59150962A JP15096284A JPH0456289B2 JP H0456289 B2 JPH0456289 B2 JP H0456289B2 JP 59150962 A JP59150962 A JP 59150962A JP 15096284 A JP15096284 A JP 15096284A JP H0456289 B2 JPH0456289 B2 JP H0456289B2
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- JP
- Japan
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- workpiece
- light source
- net belt
- ultraviolet
- ultraviolet light
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- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 23
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 22
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 2
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 238000009423 ventilation Methods 0.000 description 2
- 241000220317 Rosa Species 0.000 description 1
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- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J19/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
- B01J19/12—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electromagnetic waves
- B01J19/122—Incoherent waves
- B01J19/123—Ultraviolet light
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、紫外線照射装置に関するもので、さ
らに詳言すれば、紫外線の被照射物であるワーク
が不要に過剰加熱されることを防止することを目
的としたものである。
らに詳言すれば、紫外線の被照射物であるワーク
が不要に過剰加熱されることを防止することを目
的としたものである。
焼付け作業とか乾燥作業とかさらには表面処理
作業等の目的で、物品に紫外線を照射することが
従来から多種の物品に対して実施されている。
作業等の目的で、物品に紫外線を照射することが
従来から多種の物品に対して実施されている。
この物品に紫外線を照射するものとしては、ほ
とんど例外なしに、紫外線ランプを使用した紫外
線照射装置が使用されているのであるが、前記さ
れた各作業に必要なのは紫外線であつて、この紫
外線と一緒に発生する赤外線は不要なものとなつ
ている。
とんど例外なしに、紫外線ランプを使用した紫外
線照射装置が使用されているのであるが、前記さ
れた各作業に必要なのは紫外線であつて、この紫
外線と一緒に発生する赤外線は不要なものとなつ
ている。
この紫外線と一緒に発生する赤外線は、被照射
物であるワークの温度を上昇させてしまい、種々
の不都合をこのワークに障子させることになつて
いた。
物であるワークの温度を上昇させてしまい、種々
の不都合をこのワークに障子させることになつて
いた。
それゆえ、従来は、紫外線ランプと組合わさつ
て紫外線光源体を構成している反射鏡をコールド
ミラー構造として、紫外線ランプから照射される
光線の内、反射鏡で反射されてワークに照射され
る光線の中から赤外線を除去する手段がとられて
いた。
て紫外線光源体を構成している反射鏡をコールド
ミラー構造として、紫外線ランプから照射される
光線の内、反射鏡で反射されてワークに照射され
る光線の中から赤外線を除去する手段がとられて
いた。
〔発明が解決しようとする問題点〕
しかしながら、反射鏡をコールドミラーにして
も紫外線ランプから直接ワークに照射される直射
光中の赤外線の除去は全くできないので、紫外線
照射装置によつてワークに紫外線を照射している
最中に、この紫外線と一緒にワークに照射される
赤外線で上昇するワークの温度を充分に低減する
ことができなかつた。
も紫外線ランプから直接ワークに照射される直射
光中の赤外線の除去は全くできないので、紫外線
照射装置によつてワークに紫外線を照射している
最中に、この紫外線と一緒にワークに照射される
赤外線で上昇するワークの温度を充分に低減する
ことができなかつた。
このため、ワークに対する処理に悪影響が発生
したり、ワークそのものに悪影響を与える等の不
都合を生じることになつていた。
したり、ワークそのものに悪影響を与える等の不
都合を生じることになつていた。
本発明は、上記した従来例における不都合を解
消すべく創案されたもので、紫外線ランプとワー
クとの間に、紫外線は通過させるが赤外線の通過
を阻止し、かつ常時冷却されている透明な石英ガ
ラスを配置して構成したものである。
消すべく創案されたもので、紫外線ランプとワー
クとの間に、紫外線は通過させるが赤外線の通過
を阻止し、かつ常時冷却されている透明な石英ガ
ラスを配置して構成したものである。
以下、本発明による紫外線照射装置を、その一
実施例を示す図面を参照しながら説明する。
実施例を示す図面を参照しながら説明する。
本発明による紫外線照射装置は、紫外線ランプ
2と反射鏡3とを有する紫外線光源体1と、この
紫外線光源体1の直下をワーク14を搭載して走
行通過するネツトベルト8と、紫外線光源体1の
直下に配置されネツトベルト8上に搭載されたワ
ーク14に対してバキユームにより吸引作用を及
ぼすバキユーム枠体6と、紫外線光源体1とネツ
トベルト8との間に配置され、表面に所定金属を
膜付けして紫外線光源体1からの照射光線中の赤
外線の内、0.8μ〜1.1μの近赤外線を膜付けされた
金属により反射し、4μ以上の波長のものを吸収
する透明な石英ガラス板9と、この石英ガラス板
9の表面に冷却空気を吹きつけると共にネツトベ
ルト8上のワーク14に対しても冷却空気を吹き
つける冷却機構10とから構成されている。
2と反射鏡3とを有する紫外線光源体1と、この
紫外線光源体1の直下をワーク14を搭載して走
行通過するネツトベルト8と、紫外線光源体1の
直下に配置されネツトベルト8上に搭載されたワ
ーク14に対してバキユームにより吸引作用を及
ぼすバキユーム枠体6と、紫外線光源体1とネツ
トベルト8との間に配置され、表面に所定金属を
膜付けして紫外線光源体1からの照射光線中の赤
外線の内、0.8μ〜1.1μの近赤外線を膜付けされた
金属により反射し、4μ以上の波長のものを吸収
する透明な石英ガラス板9と、この石英ガラス板
9の表面に冷却空気を吹きつけると共にネツトベ
ルト8上のワーク14に対しても冷却空気を吹き
つける冷却機構10とから構成されている。
すなわち、ワーク14に照射される紫外線光源
体1からの光線は、必ず石英ガラス板9を通過す
るようにし、この紫外線光源体1からの光線が石
英ガラス板9を通過する際に、石英ガラス板9に
よつて光線中に含まれている赤外線を反射および
吸収除去し、もつてワーク14に照射される光線
中に赤外線が含まれないようにしたのであり、ま
た赤外線を吸収して温度が上昇する石英ガラス板
9および除去しきれなかつた赤外線の照射によつ
て温度の上昇するワーク14を、冷気の吹きつけ
によつて冷却するのである。
体1からの光線は、必ず石英ガラス板9を通過す
るようにし、この紫外線光源体1からの光線が石
英ガラス板9を通過する際に、石英ガラス板9に
よつて光線中に含まれている赤外線を反射および
吸収除去し、もつてワーク14に照射される光線
中に赤外線が含まれないようにしたのであり、ま
た赤外線を吸収して温度が上昇する石英ガラス板
9および除去しきれなかつた赤外線の照射によつ
て温度の上昇するワーク14を、冷気の吹きつけ
によつて冷却するのである。
図示実施例の場合、紫外線光源体1は、光源枠
体4に紫外線ランプ2と反射鏡3とが組付けられ
ており、この光源枠体4には、排気ダクト5で示
す如く、紫外線ランプ2と反射鏡3とを冷却する
ための冷却通路が形成されている。
体4に紫外線ランプ2と反射鏡3とが組付けられ
ており、この光源枠体4には、排気ダクト5で示
す如く、紫外線ランプ2と反射鏡3とを冷却する
ための冷却通路が形成されている。
バキユーム枠体6は、平坦でかつ滑り易い上面
を有する箱体構造をしていて、この上面を形成す
る上壁に多数の通気孔を開孔形成すると共に、箱
体内を排気ダクト7により図示省略した適当なバ
キユーム装置に接続している。
を有する箱体構造をしていて、この上面を形成す
る上壁に多数の通気孔を開孔形成すると共に、箱
体内を排気ダクト7により図示省略した適当なバ
キユーム装置に接続している。
このバキユーム枠体6の上面上を高速で摺動移
動するネツトベルト8は、通気用の多数の孔を有
するベルト体であつて、この多数の孔を通して、
このネツトベルト8上に搭載されたワーク14に
対してバキユーム枠体6からのバキユーム力がワ
ーク14に作用するようになつている。
動するネツトベルト8は、通気用の多数の孔を有
するベルト体であつて、この多数の孔を通して、
このネツトベルト8上に搭載されたワーク14に
対してバキユーム枠体6からのバキユーム力がワ
ーク14に作用するようになつている。
紫外線光源体1とネツトベルト8との間に配置
された石英ガラス板9は、その表面に赤外線を反
射する特殊金属を膜付けして、紫外線光源体1か
らワーク14に向かつて照射される光線の中から
赤外線を反射および吸収除去するのであるが、図
示実施例の場合、この石英ガラス板9に冷却機構
10が組付け固定されている。
された石英ガラス板9は、その表面に赤外線を反
射する特殊金属を膜付けして、紫外線光源体1か
らワーク14に向かつて照射される光線の中から
赤外線を反射および吸収除去するのであるが、図
示実施例の場合、この石英ガラス板9に冷却機構
10が組付け固定されている。
この冷却機構10は、石英ガラス板9に開孔形
成された組付け孔に嵌め込み固定された給気筒体
11により構成されていて、この給気筒体11の
筒壁には、石英ガラス板9の表面に向かつて排気
口12が開口形成されていると共に、石英ガラス
板9の直下を通過するネツトベルト8の上面に対
して別の排気口13が開口形成されている。
成された組付け孔に嵌め込み固定された給気筒体
11により構成されていて、この給気筒体11の
筒壁には、石英ガラス板9の表面に向かつて排気
口12が開口形成されていると共に、石英ガラス
板9の直下を通過するネツトベルト8の上面に対
して別の排気口13が開口形成されている。
それゆえ、この冷却機構10の給気筒体11に
図示省略した冷却気源から冷却用空気を供給する
と、この冷却空気は各排気口12,13から排出
され、石英ガラス板9およびこの石英ガラス板9
の直下をネツトベルト8に搭載されて走行通過す
るワーク14に吹きつけられ、この石英ガラス板
9およびワーク14を冷却する。
図示省略した冷却気源から冷却用空気を供給する
と、この冷却空気は各排気口12,13から排出
され、石英ガラス板9およびこの石英ガラス板9
の直下をネツトベルト8に搭載されて走行通過す
るワーク14に吹きつけられ、この石英ガラス板
9およびワーク14を冷却する。
なお、従来と同様に、反射鏡3としてコールド
ミラーを使用して、この反射鏡3による反射光の
中から赤外線を除去するようにしても良いことは
言うまでもない。
ミラーを使用して、この反射鏡3による反射光の
中から赤外線を除去するようにしても良いことは
言うまでもない。
本発明による紫外線照射装置は、上記した如き
構成となつているので、ネツトベルト8に搭載さ
れて供給されてくるワーク14に対して、紫外線
光源体1から照射される光線の中から、石英ガラ
ス板9によつて赤外線を反射および吸収除去する
ので、ほぼ紫外線だけを照射することができる。
構成となつているので、ネツトベルト8に搭載さ
れて供給されてくるワーク14に対して、紫外線
光源体1から照射される光線の中から、石英ガラ
ス板9によつて赤外線を反射および吸収除去する
ので、ほぼ紫外線だけを照射することができる。
また、冷却機構10の給気筒体11から石英ガ
ラス板9に冷却空気が吹きつけられ、赤外線を吸
収することによる石英ガラス板9の温度の上昇を
防止して石英ガラス板9を冷却するので、この石
英ガラス板9が昇温することによる2次放熱でワ
ーク14が加熱されるのを防止することができ
る。
ラス板9に冷却空気が吹きつけられ、赤外線を吸
収することによる石英ガラス板9の温度の上昇を
防止して石英ガラス板9を冷却するので、この石
英ガラス板9が昇温することによる2次放熱でワ
ーク14が加熱されるのを防止することができ
る。
同様に、冷却機構10の給気筒体11からの冷
却空気の一部が、ネツトベルト8に搭載されて搬
送されてくるワーク14に直接吹きつけられるの
で、ワーク14を直接冷却することができる。
却空気の一部が、ネツトベルト8に搭載されて搬
送されてくるワーク14に直接吹きつけられるの
で、ワーク14を直接冷却することができる。
さらに、ネツトベルト8に搭載されて搬送され
るワーク14に直接吹きつけられる冷却空気は、
このワーク14を冷却するだけではなく、ワーク
14をネツトベルト8上に押し付ける作用をする
ので、バキユーム枠体6による吸引作用と相まつ
てワーク14をより強力にネツトベルト8上に保
持させることができるので、ワーク14をより高
速で搬送することができると共に、より安定した
搬送を得ることができる。
るワーク14に直接吹きつけられる冷却空気は、
このワーク14を冷却するだけではなく、ワーク
14をネツトベルト8上に押し付ける作用をする
ので、バキユーム枠体6による吸引作用と相まつ
てワーク14をより強力にネツトベルト8上に保
持させることができるので、ワーク14をより高
速で搬送することができると共に、より安定した
搬送を得ることができる。
またさらに、ネツトベルト8により搬送されて
いるワーク14と紫外線光源体1との間に石英ガ
ラス板9が配置されているので、予期せぬ原因に
よつてネツトベルト8によるワーク14の搬送異
常が発生して、ワーク14がネツトベルト8上か
ら舞い上がつたとしても、この舞い上がつたワー
ク14が紫外線ランプ2に直接接触して、ワーク
14が燒損したり、紫外線ランプ2が破損したり
する事故の発生を防止することができる。
いるワーク14と紫外線光源体1との間に石英ガ
ラス板9が配置されているので、予期せぬ原因に
よつてネツトベルト8によるワーク14の搬送異
常が発生して、ワーク14がネツトベルト8上か
ら舞い上がつたとしても、この舞い上がつたワー
ク14が紫外線ランプ2に直接接触して、ワーク
14が燒損したり、紫外線ランプ2が破損したり
する事故の発生を防止することができる。
以上の説明から明らかな如く、本発明による紫
外線照射装置は、ワークに照射される光線の中か
ら赤外線を除去するので、赤外線によるワークの
温度上昇を防止することができると共に、光線を
照射中のワークに冷却空気を吹きつけて直接冷却
するので、ワークを常に加熱することなく紫外線
照射処理することができ、またネツトベルトによ
るワークの搬送動作をより安定したものとするこ
とができ、さらにより高い安定生を得ることがで
きる等多くの優れた効果を発揮するものである。
外線照射装置は、ワークに照射される光線の中か
ら赤外線を除去するので、赤外線によるワークの
温度上昇を防止することができると共に、光線を
照射中のワークに冷却空気を吹きつけて直接冷却
するので、ワークを常に加熱することなく紫外線
照射処理することができ、またネツトベルトによ
るワークの搬送動作をより安定したものとするこ
とができ、さらにより高い安定生を得ることがで
きる等多くの優れた効果を発揮するものである。
図面は、本発明による紫外線照射装置の一実施
例を示す、各構成部分の配置を示す縦断面図であ
る。 符号の説明、1;紫外線光源体、2;紫外線ラ
ンプ、3;反射鏡、4;光源枠体、5;排気ダク
ト、6;バキユーム枠体、7;排気ダクト、8;
ネツトベルト、9;石英ガラス板、10;冷却機
構、11;給気筒体、12;排気口、13;排気
口、14;ワーク。
例を示す、各構成部分の配置を示す縦断面図であ
る。 符号の説明、1;紫外線光源体、2;紫外線ラ
ンプ、3;反射鏡、4;光源枠体、5;排気ダク
ト、6;バキユーム枠体、7;排気ダクト、8;
ネツトベルト、9;石英ガラス板、10;冷却機
構、11;給気筒体、12;排気口、13;排気
口、14;ワーク。
Claims (1)
- 1 紫外線ランプと反射鏡とを有する紫外線光源
体と、該紫外線光源体の直下をワークを搭載して
走行通過するネツトベルトと、前記紫外線光源体
の直下に配置され前記ネツトベルト上に搭載され
たワークに対してバキユームにより吸引作用を及
ぼすバキユーム枠体と、前記紫外線光源体とネツ
トベルトとの間に配置され、表面に所定金属を膜
付けして前記紫外線光源体からの照射光線中の赤
外線の内、0.8μ〜1.1μの近赤外線を前記膜付けさ
れた金属により反射し、4μ以上の波長のものを
吸収する透明な石英ガラス板と、該石英ガラス板
表面に冷却空気を吹きつけると共に、前記ネツト
ベルト上のワークに対しても冷却空気を吹きつけ
る冷却機構とから成る紫外線照射装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15096284A JPS6128445A (ja) | 1984-07-20 | 1984-07-20 | 紫外線照射装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15096284A JPS6128445A (ja) | 1984-07-20 | 1984-07-20 | 紫外線照射装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6128445A JPS6128445A (ja) | 1986-02-08 |
JPH0456289B2 true JPH0456289B2 (ja) | 1992-09-08 |
Family
ID=15508237
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15096284A Granted JPS6128445A (ja) | 1984-07-20 | 1984-07-20 | 紫外線照射装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6128445A (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4780287A (en) * | 1984-07-03 | 1988-10-25 | Ultrox International | Decomposition of volatile organic halogenated compounds contained in gases |
US4941957A (en) * | 1986-10-22 | 1990-07-17 | Ultrox International | Decomposition of volatile ogranic halogenated compounds contained in gases and aqueous solutions |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4945254U (ja) * | 1972-07-25 | 1974-04-20 | ||
JPS5814813A (ja) * | 1981-07-20 | 1983-01-27 | Akira Ito | 紫外線硬化装置の冷却装置 |
JPS599918A (ja) * | 1982-07-09 | 1984-01-19 | Hitachi Ltd | 反射投影露光装置のウエハレベリング方法 |
-
1984
- 1984-07-20 JP JP15096284A patent/JPS6128445A/ja active Granted
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4945254U (ja) * | 1972-07-25 | 1974-04-20 | ||
JPS5814813A (ja) * | 1981-07-20 | 1983-01-27 | Akira Ito | 紫外線硬化装置の冷却装置 |
JPS599918A (ja) * | 1982-07-09 | 1984-01-19 | Hitachi Ltd | 反射投影露光装置のウエハレベリング方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6128445A (ja) | 1986-02-08 |
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