JPS61281114A - 情報記録体用樹脂およびその製造方法 - Google Patents
情報記録体用樹脂およびその製造方法Info
- Publication number
- JPS61281114A JPS61281114A JP60275080A JP27508085A JPS61281114A JP S61281114 A JPS61281114 A JP S61281114A JP 60275080 A JP60275080 A JP 60275080A JP 27508085 A JP27508085 A JP 27508085A JP S61281114 A JPS61281114 A JP S61281114A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resin
- monomer
- information recording
- bis
- producing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は情報記録体用樹脂に関し、更に詳しくはビデオ
ディスク、コンパクトディスク、オーディオディスク、
コンピューター用情報ファイルディスク等の情報記録体
の基板用樹脂に関する。
ディスク、コンパクトディスク、オーディオディスク、
コンピューター用情報ファイルディスク等の情報記録体
の基板用樹脂に関する。
[従来の技術]
情報化社会の発展に伴ってビデオディスク、コンパクト
ディスク、オーディオディスク、コンピューター用情報
ファイルディスク等の情報記録体が開発され実用化され
ている。これらディスク類の基板には透明な樹脂が用い
られ、通常は射出成型または圧縮成型などによって形成
される。このような基板用の透明樹脂としては、ポリ塩
化ビニル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリメチルメタクリ
レート樹脂、ポリカーボネート樹脂等が使用できるが、
光線透過率、成型加工性、複屈折等の点で現状において
は、ポリメチルメタクリレート樹脂およびポリカーボネ
ート樹脂が最も好ましいものとして実用化されている。
ディスク、オーディオディスク、コンピューター用情報
ファイルディスク等の情報記録体が開発され実用化され
ている。これらディスク類の基板には透明な樹脂が用い
られ、通常は射出成型または圧縮成型などによって形成
される。このような基板用の透明樹脂としては、ポリ塩
化ビニル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリメチルメタクリ
レート樹脂、ポリカーボネート樹脂等が使用できるが、
光線透過率、成型加工性、複屈折等の点で現状において
は、ポリメチルメタクリレート樹脂およびポリカーボネ
ート樹脂が最も好ましいものとして実用化されている。
[発明が解決しようとする問題点]
ポリメチルメタクリレート樹脂およびポリカーボネート
樹脂はディスク基板としては今のところ最も好適な樹脂
であるが、下記に詳述するようにそれぞれに樹脂固有の
特性に起因する問題を内包しており、情報化社会の高度
化、普及化にともなって、当業界においてはより品質の
優れたディスク基板の提供が要望されている。
樹脂はディスク基板としては今のところ最も好適な樹脂
であるが、下記に詳述するようにそれぞれに樹脂固有の
特性に起因する問題を内包しており、情報化社会の高度
化、普及化にともなって、当業界においてはより品質の
優れたディスク基板の提供が要望されている。
すなわち、ポリメチルメタクリレート樹脂においては、
比較的吸水性が大きく、吸湿による寸法変化と、基板の
ソリ、あるいは乾燥と吸湿の長期繰り返しによるクラッ
クが発生し易いことがあり、使用が制約される分野もあ
る。例えば、オーディオディスクのようにディスク基板
の片面のみに情報標識を記録するものにあっては16表
面と裏面との表面積差が著しく、高湿度下においては傘
状に変形するソリ現象がみられ致命的な欠陥となる。
比較的吸水性が大きく、吸湿による寸法変化と、基板の
ソリ、あるいは乾燥と吸湿の長期繰り返しによるクラッ
クが発生し易いことがあり、使用が制約される分野もあ
る。例えば、オーディオディスクのようにディスク基板
の片面のみに情報標識を記録するものにあっては16表
面と裏面との表面積差が著しく、高湿度下においては傘
状に変形するソリ現象がみられ致命的な欠陥となる。
またポリメチルメタクリレート樹脂は100〜110℃
付近で著しい熱軟化の傾向があり、この特性は射出成型
や圧縮成型に際して配向の少ない基板が得られるという
メリットがめる反面、耐熱軟化性が必ずしも十分でない
という問題を内在している。
付近で著しい熱軟化の傾向があり、この特性は射出成型
や圧縮成型に際して配向の少ない基板が得られるという
メリットがめる反面、耐熱軟化性が必ずしも十分でない
という問題を内在している。
一方、ポリカーボネート樹脂においては耐熱軟化性がポ
リメチルメタクリレート樹脂より高い反面、射出成型や
圧縮成型に際して配向が起り易く複屈折が高くなる。複
屈折が高くなると再生する音質や画像に悪い影響を与え
るので、分子量を下げて成型時の溶融粘度を下げたり、
成型条件の制御技術によって配向性を抑え、また信号記
録部分をディスク中央部分だけ適用する等の工夫によっ
て使いこなしている。またポリメチルメタクリレート樹
脂に対して耐熱軟化性が高いとはいえ、140℃付近で
急激に熱軟化が見られるので耐熱軟化性に関しては本質
的に問題を内包していると言わざるを得ない。本発明は
、かかる従来技術の欠点に鑑み、吸水性、耐熱軟化性、
複屈折の面でともに優れた透明ディスク基板用樹脂を提
供することを目的とする。
リメチルメタクリレート樹脂より高い反面、射出成型や
圧縮成型に際して配向が起り易く複屈折が高くなる。複
屈折が高くなると再生する音質や画像に悪い影響を与え
るので、分子量を下げて成型時の溶融粘度を下げたり、
成型条件の制御技術によって配向性を抑え、また信号記
録部分をディスク中央部分だけ適用する等の工夫によっ
て使いこなしている。またポリメチルメタクリレート樹
脂に対して耐熱軟化性が高いとはいえ、140℃付近で
急激に熱軟化が見られるので耐熱軟化性に関しては本質
的に問題を内包していると言わざるを得ない。本発明は
、かかる従来技術の欠点に鑑み、吸水性、耐熱軟化性、
複屈折の面でともに優れた透明ディスク基板用樹脂を提
供することを目的とする。
[問題点を解決するための手段1
本発明者らは上記課題を解決する樹脂について鋭意研究
を重ねた結果、ディスク基板に好適な樹脂を見い出し本
発明に至った。すなわち、本発明による樹脂は、架橋構
造を有し、かつ、好ましくは繰返し単位として、芳@環
、シクロヘキサン環、複素環から選ばれた一種以上を含
有する重合体からなるが、かかる重合体はラジカル重合
可能な二重結合を一分子中に少なくとも2個以上有し、
かつ、好ましくは出発原料として、芳香環、シクロヘキ
サン環、複素環から運ばれた一種以上を含む単量体を注
型重合することによって得ることができる。
を重ねた結果、ディスク基板に好適な樹脂を見い出し本
発明に至った。すなわち、本発明による樹脂は、架橋構
造を有し、かつ、好ましくは繰返し単位として、芳@環
、シクロヘキサン環、複素環から選ばれた一種以上を含
有する重合体からなるが、かかる重合体はラジカル重合
可能な二重結合を一分子中に少なくとも2個以上有し、
かつ、好ましくは出発原料として、芳香環、シクロヘキ
サン環、複素環から運ばれた一種以上を含む単量体を注
型重合することによって得ることができる。
かかる単量体で芳香環を有する具体的な例としては、テ
レフタル酸ビスアリルエステル、テレフタル酸ビス(β
−メチルアリル)エステル、イソフタル酸ビスアリルエ
ステル、イソフタル酸ビス(β−メチルアリル)エステ
ル、トリメリット酸トリアリルエステル、トリメリット
酸トリ(β−メチルアリル)エステル、テレフタル酸ビ
ス(アリロキシカルボニルメチル ル酸ビス(β−メチルアリロキシカルボキシルメチル°
−ジカルボン酸アリルエステル ナフタリン−3,7−ジカルボン酸アリルエステル1、
1゛−ジメチルジフェニルメタン−ン酸アリルエステル
などの多価アリルエステル、1、3−ベンゼンビスアリ
ルカーボネート、1.3−ベンゼンビスβ−メチルアリ
ルカーボネート、1,4−ベンゼンビスアリルカーボネ
ート、1,4−ベンゼンビスβ−メチルアリルカーボネ
ート、1,5−ナフタレンビスアリルカーボネート、1
,5−ナフタレンビスβ−メチルアリルカーボネート、
1,6−ナフタレンピスアリルカーボネート、1.6−
ナフタレンビスβ−メチルアリルカーボネート、1,7
−ナフタレンビスアリルカーボネート、1.7−ナフタ
レンビスβ−メチルアリルカーボネート、2.6−ナフ
タレンピスアリルカーボネート、2,6−ナフタレンビ
スβ−メチルアリルカーボネート、2,7−ナフタレン
ピスアリルカーボネート、2.7−ナフタレンビスβ−
メチルアリルカーボネート 4、4−ジフェニルプロパンビスアリルカーボネート、
4,4゛−ジフェニルプロパンビスβ−メチルアリルカ
ーボネート、4,4−ジフェニルスルホンビスアリルカ
ーボネート ンビスβ−メチルアリルカーボネート 価アリルカーボネート、1.3−ビス(ヒドロキシエト
キシ)ベンゼンビスアリルカーボネート、1,3−ビス
(ヒドロキシエトキシ)ベンゼンビスβ−メチルアリル
カーボネート、1,4−ビス(ヒドロキシエトキシ)ベ
ンゼンビスアリルカーボネート、1。
レフタル酸ビスアリルエステル、テレフタル酸ビス(β
−メチルアリル)エステル、イソフタル酸ビスアリルエ
ステル、イソフタル酸ビス(β−メチルアリル)エステ
ル、トリメリット酸トリアリルエステル、トリメリット
酸トリ(β−メチルアリル)エステル、テレフタル酸ビ
ス(アリロキシカルボニルメチル ル酸ビス(β−メチルアリロキシカルボキシルメチル°
−ジカルボン酸アリルエステル ナフタリン−3,7−ジカルボン酸アリルエステル1、
1゛−ジメチルジフェニルメタン−ン酸アリルエステル
などの多価アリルエステル、1、3−ベンゼンビスアリ
ルカーボネート、1.3−ベンゼンビスβ−メチルアリ
ルカーボネート、1,4−ベンゼンビスアリルカーボネ
ート、1,4−ベンゼンビスβ−メチルアリルカーボネ
ート、1,5−ナフタレンビスアリルカーボネート、1
,5−ナフタレンビスβ−メチルアリルカーボネート、
1,6−ナフタレンピスアリルカーボネート、1.6−
ナフタレンビスβ−メチルアリルカーボネート、1,7
−ナフタレンビスアリルカーボネート、1.7−ナフタ
レンビスβ−メチルアリルカーボネート、2.6−ナフ
タレンピスアリルカーボネート、2,6−ナフタレンビ
スβ−メチルアリルカーボネート、2,7−ナフタレン
ピスアリルカーボネート、2.7−ナフタレンビスβ−
メチルアリルカーボネート 4、4−ジフェニルプロパンビスアリルカーボネート、
4,4゛−ジフェニルプロパンビスβ−メチルアリルカ
ーボネート、4,4−ジフェニルスルホンビスアリルカ
ーボネート ンビスβ−メチルアリルカーボネート 価アリルカーボネート、1.3−ビス(ヒドロキシエト
キシ)ベンゼンビスアリルカーボネート、1,3−ビス
(ヒドロキシエトキシ)ベンゼンビスβ−メチルアリル
カーボネート、1,4−ビス(ヒドロキシエトキシ)ベ
ンゼンビスアリルカーボネート、1。
4−ビス(ヒドロキシエトキシ)ベンゼンビスβ−メチ
ルアリルカーボネート、1,5−ビス(ヒドロキシエト
キシ〉ナフタレンビスアリルカーボネート、1、5−ビ
ス(ヒドロキシエトキシ)ナフタレンビスβ−メチルア
リルカーボネート、1,6−ビス(ヒドロキシエトキシ
)ナフタレンビスアリルカーボネート、1,6−ビス(
ヒドロキシエトキシ)ナフタレンビスβ−メチルアリル
カーボネート、1゜7−ビス(ヒドロキシエトキシ)ナ
フタレンビスアリルカーボネート、1.7−ビス(ヒド
ロキシエトキシ)ナフタレンビスβ−メチルアリルカー
ボネート、2,6−ビス(ヒドロキシエトキシ)ナフタ
レンビスアリルカーボネート、2,6−ビス(ヒドロキ
シエトキシ)ナフタレンビスβ−メチルアリルカーボネ
ート、2,7−ビス(ヒドロキシエトキシ)ナフタレン
ビスアリルカーボネート、2,7−ビス(ヒドロキシエ
トキシ)ナフタレンビスβ−メチルアリルカーボネート
、4,4°−ビス(ヒドロキシエトキシ)ジフェニルプ
ロパンビスアリルカーボネート、4,4°−ビス(ヒド
ロキシエトキシ)ジフェニルプロパンビスβ−メチルア
リルカ−ボネート4、4−ビス(ヒドロキシエトキシ)
ジフェニルスルホンビスアリルカーボネート、4,4°
−ビス(ヒドロキシエトキシ)ジフェニルスルホンビス
β−メチルアリルカーボネート、1,4−ジアクリロキ
シベンゼン、1,4−ジメタクリロキシベンゼン、1.
4−ジアクリロキシエトキシベンゼン、1.4−ジメタ
クリロキジェトキシベンゼン、1.5−ジアクリロキシ
ナフタレン、1.5−ジメタシクロキシナフタレン、1
、5−ビス(β−アクリロキシエトキシ)ナフタレン、
1,5−ビス(β−メタクリロキシエトキシ)ナフタレ
ン、2,2°−ビスアクリロキシごフェニル、2、2°
−ビスメタクリロキシビフェニル、2,2゛−ビス(β
−アクリロキシエトキシ)ビフェニル、2。
ルアリルカーボネート、1,5−ビス(ヒドロキシエト
キシ〉ナフタレンビスアリルカーボネート、1、5−ビ
ス(ヒドロキシエトキシ)ナフタレンビスβ−メチルア
リルカーボネート、1,6−ビス(ヒドロキシエトキシ
)ナフタレンビスアリルカーボネート、1,6−ビス(
ヒドロキシエトキシ)ナフタレンビスβ−メチルアリル
カーボネート、1゜7−ビス(ヒドロキシエトキシ)ナ
フタレンビスアリルカーボネート、1.7−ビス(ヒド
ロキシエトキシ)ナフタレンビスβ−メチルアリルカー
ボネート、2,6−ビス(ヒドロキシエトキシ)ナフタ
レンビスアリルカーボネート、2,6−ビス(ヒドロキ
シエトキシ)ナフタレンビスβ−メチルアリルカーボネ
ート、2,7−ビス(ヒドロキシエトキシ)ナフタレン
ビスアリルカーボネート、2,7−ビス(ヒドロキシエ
トキシ)ナフタレンビスβ−メチルアリルカーボネート
、4,4°−ビス(ヒドロキシエトキシ)ジフェニルプ
ロパンビスアリルカーボネート、4,4°−ビス(ヒド
ロキシエトキシ)ジフェニルプロパンビスβ−メチルア
リルカ−ボネート4、4−ビス(ヒドロキシエトキシ)
ジフェニルスルホンビスアリルカーボネート、4,4°
−ビス(ヒドロキシエトキシ)ジフェニルスルホンビス
β−メチルアリルカーボネート、1,4−ジアクリロキ
シベンゼン、1,4−ジメタクリロキシベンゼン、1.
4−ジアクリロキシエトキシベンゼン、1.4−ジメタ
クリロキジェトキシベンゼン、1.5−ジアクリロキシ
ナフタレン、1.5−ジメタシクロキシナフタレン、1
、5−ビス(β−アクリロキシエトキシ)ナフタレン、
1,5−ビス(β−メタクリロキシエトキシ)ナフタレ
ン、2,2°−ビスアクリロキシごフェニル、2、2°
−ビスメタクリロキシビフェニル、2,2゛−ビス(β
−アクリロキシエトキシ)ビフェニル、2。
2°−ビス(β−メタクリロキシエトキシ〉ビフェニル
、2,2−ビス(4−アクリロキシフェニル)プロパン
、2.2−ビス(4−メタクリロキシフェニル)プロパ
ン、2,2−ビス(4−アクリロキシエトキシフェニル
)プロパン、2,2−ビス(4−メタクリロキシエトキ
シフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−アクリロキ
シポリエトキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4
−メタクリロキシポリエトキシフェニル)プロパン、2
,2−ビス(4−アクリロキシエトキシフェニル)スル
ホン、2,2−ビス(メタクリロキシフェニル)スルホ
ン、2,2°−ビス(3−アクリロイル−2−ヒドロキ
シプロポキシ)ビフェニル、2,2°−ビス(3−メタ
クリロイル−2−ヒドロキシプロポキシ)ごフェニル、
2.2−ビス(3−アクリロイル−2−ヒドロキシプロ
ポキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3−メタク
リロイル−2−ヒドロキシプロポキシフェニル)プロパ
ンなどの多価(メタ)アクリレート、ジビニルベンゼン
、ジビニルナフタレンなどの多価ビニル化合物などがあ
る。これら化合物中の芳香環に核ハロゲン置換したもの
も適宜使用することもできる。
、2,2−ビス(4−アクリロキシフェニル)プロパン
、2.2−ビス(4−メタクリロキシフェニル)プロパ
ン、2,2−ビス(4−アクリロキシエトキシフェニル
)プロパン、2,2−ビス(4−メタクリロキシエトキ
シフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−アクリロキ
シポリエトキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4
−メタクリロキシポリエトキシフェニル)プロパン、2
,2−ビス(4−アクリロキシエトキシフェニル)スル
ホン、2,2−ビス(メタクリロキシフェニル)スルホ
ン、2,2°−ビス(3−アクリロイル−2−ヒドロキ
シプロポキシ)ビフェニル、2,2°−ビス(3−メタ
クリロイル−2−ヒドロキシプロポキシ)ごフェニル、
2.2−ビス(3−アクリロイル−2−ヒドロキシプロ
ポキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3−メタク
リロイル−2−ヒドロキシプロポキシフェニル)プロパ
ンなどの多価(メタ)アクリレート、ジビニルベンゼン
、ジビニルナフタレンなどの多価ビニル化合物などがあ
る。これら化合物中の芳香環に核ハロゲン置換したもの
も適宜使用することもできる。
かかる化合物として、1,4−ジメタクリロキシー2、
3,5.6−テトラブロモベンゼン、1,4−ジメタク
リロキシー2, 3, 5. 6−テトラクロロベンゼ
ン、ジ(2−アクリロキシエチル)テトラブロモフタレ
ート、1、5−ジアクリロキシー2.4,6.8ーテト
ラクロロナフタレン、1,5−ジアクリロキシー2.4
,6.8ーテトラブロモナフタレンが挙げられる。
3,5.6−テトラブロモベンゼン、1,4−ジメタク
リロキシー2, 3, 5. 6−テトラクロロベンゼ
ン、ジ(2−アクリロキシエチル)テトラブロモフタレ
ート、1、5−ジアクリロキシー2.4,6.8ーテト
ラクロロナフタレン、1,5−ジアクリロキシー2.4
,6.8ーテトラブロモナフタレンが挙げられる。
またシクロヘキサン環を有する具体例としては、シス−
1,2−ジビニルシクロヘキサン、トランス−1、2−
ジビニルシクロヘキサン、1,2.4−トリビニルシク
ロヘキサンなどがある。また複素環を有する具体例とし
ては、トリアリルシアヌレート、トリアリルインシアヌ
レート、ジアリルクロレンデート、ジ(β−メチルアリ
ル)クロレンデート、ジビニルピリジン、3.9−ジビ
ニル−2. 4, 8. 10−テトラオキサスピロ[
5,5]ウンデカンなどがめる。
1,2−ジビニルシクロヘキサン、トランス−1、2−
ジビニルシクロヘキサン、1,2.4−トリビニルシク
ロヘキサンなどがある。また複素環を有する具体例とし
ては、トリアリルシアヌレート、トリアリルインシアヌ
レート、ジアリルクロレンデート、ジ(β−メチルアリ
ル)クロレンデート、ジビニルピリジン、3.9−ジビ
ニル−2. 4, 8. 10−テトラオキサスピロ[
5,5]ウンデカンなどがめる。
これら単量体化合物は単独のみならず2種以上混合して
用いることも可能である。上記単量体化合物の中で特に
好ましいものとしてはジビニルベンゼン、ジアリルイソ
フタレート、1,3−ベンゼンビス(アリルカーボネー
ト)、シス−1、2−ジビニルシクロヘキサン、ジアリ
ルクロレンデート、2。
用いることも可能である。上記単量体化合物の中で特に
好ましいものとしてはジビニルベンゼン、ジアリルイソ
フタレート、1,3−ベンゼンビス(アリルカーボネー
ト)、シス−1、2−ジビニルシクロヘキサン、ジアリ
ルクロレンデート、2。
2−ビス(4−アクリロキシエトキシフェニル)プロパ
ン、2,2−ビス(4−メタクリロキシエトキシフェニ
ル)プロパン、2,2−ビス(4−アクリロキシエトキ
シ−3,5−ジブロモフェニル)プロパン、2.2−ビ
ス(4−メタクリロキシエトキシ−3,5−ジブロモフ
ェニル)プロパン、およびこれらの混合物である。
ン、2,2−ビス(4−メタクリロキシエトキシフェニ
ル)プロパン、2,2−ビス(4−アクリロキシエトキ
シ−3,5−ジブロモフェニル)プロパン、2.2−ビ
ス(4−メタクリロキシエトキシ−3,5−ジブロモフ
ェニル)プロパン、およびこれらの混合物である。
ラジカル重合可能な二重結合を分子内に1個有する単量
体でおっても分子内にーOH、−NGO、−COOHl
−N H2、エポキシ基等の官能基を含むものにあって
は、該官能基を介在した分子間結合によって得られた二
重結合を複数個含んだ単量体化合物を単独使用または前
記各種単量体と混合して用いることもできる。
体でおっても分子内にーOH、−NGO、−COOHl
−N H2、エポキシ基等の官能基を含むものにあって
は、該官能基を介在した分子間結合によって得られた二
重結合を複数個含んだ単量体化合物を単独使用または前
記各種単量体と混合して用いることもできる。
かかる単量化化合物としては、1−ビニル−4−ヒドロ
キシベンゼン2七ルをヘキサメチレンジイソシアネート
1モルと反応させた付加反応物、ビスフェノールAモノ
アクリレート2モルとキシリレンジイソシアネート1モ
ルと反応させた付加反応物、メタアクリルrli2モル
を2,2−ビス(4−グリシドキシフェニル)プロパン
1モルと反応させた付加反応物、4−ヒドロキシフェニ
ルメタクリレート1モルとグリシジルメタクリレート1
モルと反応した付加反応物、ビニル酢酸2モルとキシリ
レンジアミン1モルと反応した付加反応物、2−(4−
ヒドロキシエトキシフェニル) −2−(4−アクリロ
キシエトキシフェニル)プロパン2モルとへキサメチレ
ンジイソシアネート1モルと反応させた付加反応物、2
−(4−ヒドロキシエトキシフェニル) −2−(4−
メタクリロキシエトキシフェニル)プロパン2モルをヘ
キサメチレンジイソシアネート1モルと反応させた付加
反応物、2−(4−ヒドロキシエトキシ−3,5−ジブ
ロモフェニル) −2−(4−アクリロキシエトキシ−
3,5−ジブロモフェニル)プロパン2モルとへキサメ
チレンジイソシアネート1モルと反応させた付加反応物
、2−(4−ヒドロキシエトキシ−3,5−ジブロモフ
ェニル) −2−(4−メタクリロキシエトキシ−3,
5−ジブロモフェニル)プロパン2モルをヘキサメチレ
ンジイソシアネート1モルと反応させた付加反応物など
が挙げられる。
キシベンゼン2七ルをヘキサメチレンジイソシアネート
1モルと反応させた付加反応物、ビスフェノールAモノ
アクリレート2モルとキシリレンジイソシアネート1モ
ルと反応させた付加反応物、メタアクリルrli2モル
を2,2−ビス(4−グリシドキシフェニル)プロパン
1モルと反応させた付加反応物、4−ヒドロキシフェニ
ルメタクリレート1モルとグリシジルメタクリレート1
モルと反応した付加反応物、ビニル酢酸2モルとキシリ
レンジアミン1モルと反応した付加反応物、2−(4−
ヒドロキシエトキシフェニル) −2−(4−アクリロ
キシエトキシフェニル)プロパン2モルとへキサメチレ
ンジイソシアネート1モルと反応させた付加反応物、2
−(4−ヒドロキシエトキシフェニル) −2−(4−
メタクリロキシエトキシフェニル)プロパン2モルをヘ
キサメチレンジイソシアネート1モルと反応させた付加
反応物、2−(4−ヒドロキシエトキシ−3,5−ジブ
ロモフェニル) −2−(4−アクリロキシエトキシ−
3,5−ジブロモフェニル)プロパン2モルとへキサメ
チレンジイソシアネート1モルと反応させた付加反応物
、2−(4−ヒドロキシエトキシ−3,5−ジブロモフ
ェニル) −2−(4−メタクリロキシエトキシ−3,
5−ジブロモフェニル)プロパン2モルをヘキサメチレ
ンジイソシアネート1モルと反応させた付加反応物など
が挙げられる。
上記化合物の中で特に好ましいものとしては、2−(4
−ヒドロキシエトキシフェニル) −2−(4−メタク
リロキシエトキシフェニル)プロパン2モルをヘキサメ
チレンジイソシアネート1モルと反応させた付加反応物
、2−(4−ヒドロキシエトキシ−3゜5−ジブロモフ
ェニル) −2−(4−メタクリロキシエトキシフェニ
ル)プロパン2モルをヘキサメチレンジイソシアネート
1モルと反応させた付加反応物がある。
−ヒドロキシエトキシフェニル) −2−(4−メタク
リロキシエトキシフェニル)プロパン2モルをヘキサメ
チレンジイソシアネート1モルと反応させた付加反応物
、2−(4−ヒドロキシエトキシ−3゜5−ジブロモフ
ェニル) −2−(4−メタクリロキシエトキシフェニ
ル)プロパン2モルをヘキサメチレンジイソシアネート
1モルと反応させた付加反応物がある。
樹脂中に芳香環、シクロヘキサン環、または複素環のよ
うな環状成分が含まれると、一般に複屈折が増加するの
が通例であるが、本発明の樹脂は、樹脂の構成成分にラ
ジカル重合可能な二重結合と一分子中に少なくとも2個
以上有する単量体を必須成分とすることから明らかなよ
うに、本質的に注型重合によって得るものであり、上記
環状成分を導入しても、射出成型や圧縮成型に比べて著
しく複屈折の小さい樹脂が得られるところに本発明の特
徴がある。
うな環状成分が含まれると、一般に複屈折が増加するの
が通例であるが、本発明の樹脂は、樹脂の構成成分にラ
ジカル重合可能な二重結合と一分子中に少なくとも2個
以上有する単量体を必須成分とすることから明らかなよ
うに、本質的に注型重合によって得るものであり、上記
環状成分を導入しても、射出成型や圧縮成型に比べて著
しく複屈折の小さい樹脂が得られるところに本発明の特
徴がある。
本発明におけるディスク基板用樹脂の吸水率は0.5%
以下でおることが必要でおる。寸法安定性を満足させる
ためである。この特性を更に顕著に発揮させるには、吸
水率は0.02〜0.2%程度がより好ましい。
以下でおることが必要でおる。寸法安定性を満足させる
ためである。この特性を更に顕著に発揮させるには、吸
水率は0.02〜0.2%程度がより好ましい。
吸水率を下げるには樹脂成分中に占める芳香環、シクロ
ヘキサン環、複素環の存在で顕著な効果があり、その割
合と共に吸水率が小さくなるのであるが、所望する吸水
率の程度に応じてラジカル重合可能な二重結合を有する
多価脂肪族単量体を添加することもできる。かかる単量
体としては、エチレングリコールビスアリルカーボネー
ト、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート、ト
リエチレングリコールビスアリルカーボネート、テトラ
エチレングリコールビスアリルカ−ボネートエヂレング
リコールジアクリレート、エチレングリコールジメタク
リレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ジエ
チレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリ
コールジアクリレート、トリエチレングリコールジメタ
クリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、
ネオペンチルグリコールジメタクリレートなどが使用で
きる。
ヘキサン環、複素環の存在で顕著な効果があり、その割
合と共に吸水率が小さくなるのであるが、所望する吸水
率の程度に応じてラジカル重合可能な二重結合を有する
多価脂肪族単量体を添加することもできる。かかる単量
体としては、エチレングリコールビスアリルカーボネー
ト、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート、ト
リエチレングリコールビスアリルカーボネート、テトラ
エチレングリコールビスアリルカ−ボネートエヂレング
リコールジアクリレート、エチレングリコールジメタク
リレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ジエ
チレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリ
コールジアクリレート、トリエチレングリコールジメタ
クリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、
ネオペンチルグリコールジメタクリレートなどが使用で
きる。
本発明におけるディスク基板用樹脂の耐熱軟化性は、1
50℃以上であることが好ましい。情報 。
50℃以上であることが好ましい。情報 。
記録の際にレーザー光などを受【プると高温に曝される
からでおる。
からでおる。
かかる耐熱軟化性を向上するには、樹脂成分中に占める
架橋の存在すなわち多官能単量体の存在で著しい効果が
あり、架橋密度と共に耐熱軟化性が向上するのであるが
、所望する耐熱軟化性の程度に応じてラジカル重合可能
な二重結合を有する一官能単量体を添加することもでき
る。かかる単量体としては、スチレン、ビニルトルエン
、ベンジルアクリレート、ベンジルメタクリレート、エ
チルアクリレート、エチルメタクリレート、α−ナノチ
ルアクリレート、α−ナフチルメタクリレート、β−ナ
フチルアクリレート、β−ナフチルメタクリレート、フ
ェニルアクリレート、フェニルメタクリレートおよびそ
のハロゲンまたはアルキル置換体、フェニルアリルカー
ボネート、ベンジルアリルカーボネート、安息香酸アリ
ル、ナフタリンカルボン酸アリルおよびそのハロゲン置
換体などが使用でき、場合によってはアクリロニトリル
、酢酸ビニル、塩化ビニル、ヒドロキシエチルアクリレ
ートも使用できる。
架橋の存在すなわち多官能単量体の存在で著しい効果が
あり、架橋密度と共に耐熱軟化性が向上するのであるが
、所望する耐熱軟化性の程度に応じてラジカル重合可能
な二重結合を有する一官能単量体を添加することもでき
る。かかる単量体としては、スチレン、ビニルトルエン
、ベンジルアクリレート、ベンジルメタクリレート、エ
チルアクリレート、エチルメタクリレート、α−ナノチ
ルアクリレート、α−ナフチルメタクリレート、β−ナ
フチルアクリレート、β−ナフチルメタクリレート、フ
ェニルアクリレート、フェニルメタクリレートおよびそ
のハロゲンまたはアルキル置換体、フェニルアリルカー
ボネート、ベンジルアリルカーボネート、安息香酸アリ
ル、ナフタリンカルボン酸アリルおよびそのハロゲン置
換体などが使用でき、場合によってはアクリロニトリル
、酢酸ビニル、塩化ビニル、ヒドロキシエチルアクリレ
ートも使用できる。
共重合において、本発明で必須成分とする単量体と前記
多価脂肪族単量体、−官能単量体との組成比は、所望の
ディスク基板樹脂に要求される光学特性、機械的特性な
どにより異なるため一律には限定できないが、本発明で
必須成分とする単量体が1重量%以上、好ましくは5重
世%以上、さらに好ましくは10重足%以上となるよう
にするのが好ましい。1重」%以下では本発明における
ディスク基板樹脂の特徴である低吸水性、高い耐熱軟化
性は得られない。
多価脂肪族単量体、−官能単量体との組成比は、所望の
ディスク基板樹脂に要求される光学特性、機械的特性な
どにより異なるため一律には限定できないが、本発明で
必須成分とする単量体が1重量%以上、好ましくは5重
世%以上、さらに好ましくは10重足%以上となるよう
にするのが好ましい。1重」%以下では本発明における
ディスク基板樹脂の特徴である低吸水性、高い耐熱軟化
性は得られない。
本発明の樹脂は、前記したとおりの多官能単量体を必須
成分を用いることから明らかなように、本質的に注型重
合によって成型される。かかる重合によって得られる樹
脂は、射出成型、圧縮成型と異なり、静止状態で同化、
重合が完結するので、樹脂の配向性が著しく改善され、
複屈折の極めて小さいものが得られる特徴がある。
成分を用いることから明らかなように、本質的に注型重
合によって成型される。かかる重合によって得られる樹
脂は、射出成型、圧縮成型と異なり、静止状態で同化、
重合が完結するので、樹脂の配向性が著しく改善され、
複屈折の極めて小さいものが得られる特徴がある。
重合は公知のラジカル重合法、光重合法などが採用でき
る。すなわち前記単量体を単独、または前記の各種単量
体を混合した後、重合開始剤、例えば、ジイソプロピル
パーオキシジカーボネート、シミリスチルパーオキシジ
カーボネート、ターシャリ−ブチルパーオキシピバレー
ト、ラウロイルパーオキサイド、ターシャリ−ブチルパ
ーオキシイソブチレート、ターシャリ−ブチルパーオキ
シイソプロピルカーボネート、ジターシャリ−ブチルパ
ーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、アゾビスイ
ソブチロニトリル、アゾビスターシャリ−オクタンなど
を単量体100重量部に対し、0.01〜10重量部程
度を混合する。得られた混合物をあらかじめ用意したモ
ールドに注入し、徐々に加熱し、重合を完結せしめる。
る。すなわち前記単量体を単独、または前記の各種単量
体を混合した後、重合開始剤、例えば、ジイソプロピル
パーオキシジカーボネート、シミリスチルパーオキシジ
カーボネート、ターシャリ−ブチルパーオキシピバレー
ト、ラウロイルパーオキサイド、ターシャリ−ブチルパ
ーオキシイソブチレート、ターシャリ−ブチルパーオキ
シイソプロピルカーボネート、ジターシャリ−ブチルパ
ーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、アゾビスイ
ソブチロニトリル、アゾビスターシャリ−オクタンなど
を単量体100重量部に対し、0.01〜10重量部程
度を混合する。得られた混合物をあらかじめ用意したモ
ールドに注入し、徐々に加熱し、重合を完結せしめる。
この際、重合を途中で打ち切り、プレポリマの状態でモ
ールドから取り出して、改めてプレポリマと前記重合開
始剤とにより重合を完結せしめることもできる。
ールドから取り出して、改めてプレポリマと前記重合開
始剤とにより重合を完結せしめることもできる。
重合温度および重合時間は使用する単量体の種類、組成
比、および重合開始剤の選択により異なるため一律には
限定できないが、概ね40〜150℃で1〜100時間
かけて重合を完結するのが好ましい。
比、および重合開始剤の選択により異なるため一律には
限定できないが、概ね40〜150℃で1〜100時間
かけて重合を完結するのが好ましい。
また本発明の樹脂は光重合法を用いることもできる。す
なわち前記単量体を単独または前記の各種単量体を混合
した後、光増感剤、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメ
チルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾフェ
ノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピオフェノン
、ベンジルジメチルケタール、ベンゾインイソプロピル
エーテル、アセトフェノン、ジメトキシアセトフェノン
、1−クロロアントラキノン、1,4−ナフトキノンな
どを単量体100重量部に対し、0.01〜10重量部
混合して、紫外線灯、水銀灯などの照射により重合を行
なう。この場合、一部重合開始剤を併用することも可能
である。
なわち前記単量体を単独または前記の各種単量体を混合
した後、光増感剤、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメ
チルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾフェ
ノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピオフェノン
、ベンジルジメチルケタール、ベンゾインイソプロピル
エーテル、アセトフェノン、ジメトキシアセトフェノン
、1−クロロアントラキノン、1,4−ナフトキノンな
どを単量体100重量部に対し、0.01〜10重量部
混合して、紫外線灯、水銀灯などの照射により重合を行
なう。この場合、一部重合開始剤を併用することも可能
である。
本発明のディスク基板樹脂を成型するに当っては前述し
た必須成分の他に、さらに帯電防止剤、着色防止剤、表
面平滑剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤などの添加剤を配
合することによって実用性を高めることが可能である。
た必須成分の他に、さらに帯電防止剤、着色防止剤、表
面平滑剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤などの添加剤を配
合することによって実用性を高めることが可能である。
例えば帯電防止剤としては、非イオン系界面活性剤、第
4級アンモニウム塩など、着色防止剤としては、トリフ
ェニルフォスフイン、トリフェニルアンチモン、トリフ
ェニル砒素など、表面平滑剤としては、シリコーン系化
合物、フッ素系界面活性剤、有機界面活性剤など、紫外
線吸収剤としては、2−(ヒドロキシ−5−メチルフェ
ニル)ベンゾトリアゾール、2−(ヒドロキシ−5−タ
ーシャリ−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−
(3°、5°−ジターシャリ−ブチル−2−ヒドロキシ
フェニル)−ベンゾトリアシー・ル、2−ヒドロキシ−
4−n−オクトキシベンゾフェノンなど、酸化防止剤と
しては、ヒンダードフェノール、ヒンダードアミンなど
を添加することが可能でおる。また本発明のディスク基
板用樹脂に透明性を損わない範囲で、染顔料を添加して
着色させることも可能である。これら添加剤は重合開始
前に単量体又は単量体混合物に単独あるいは併用して添
加してもよく、重合の途中でプレポリマに添加してもよ
い。
4級アンモニウム塩など、着色防止剤としては、トリフ
ェニルフォスフイン、トリフェニルアンチモン、トリフ
ェニル砒素など、表面平滑剤としては、シリコーン系化
合物、フッ素系界面活性剤、有機界面活性剤など、紫外
線吸収剤としては、2−(ヒドロキシ−5−メチルフェ
ニル)ベンゾトリアゾール、2−(ヒドロキシ−5−タ
ーシャリ−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−
(3°、5°−ジターシャリ−ブチル−2−ヒドロキシ
フェニル)−ベンゾトリアシー・ル、2−ヒドロキシ−
4−n−オクトキシベンゾフェノンなど、酸化防止剤と
しては、ヒンダードフェノール、ヒンダードアミンなど
を添加することが可能でおる。また本発明のディスク基
板用樹脂に透明性を損わない範囲で、染顔料を添加して
着色させることも可能である。これら添加剤は重合開始
前に単量体又は単量体混合物に単独あるいは併用して添
加してもよく、重合の途中でプレポリマに添加してもよ
い。
本発明の趣旨を明瞭にするために次に実施例を掲げるが
、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
なお実施例、比較例において、下記の試験法によって諸
物性を測定した。
物性を測定した。
(1)吸水率:ASTM−D570に従った。
試験片直径:5゜Q 8CmX厚さ0032cm浸漬条
件=23℃×24時間 (2) 耐熱軟化性:ASTM−D1525に基づ<
VICAT軟化テス1〜法に準じ、150’Cまで昇温
して針の進入量で判定する。判定基準は、A:針の進入
mo、1mm以下(良好)B:針の進入量0.1mmを
越え1.Qmmmm以下針の進入量1.0mmを越える
(不良)(3)複屈折二自動エリプソメータDMA−3
61を用い、He−Neレーザー光を用イS!n(ll
e Pathによって測定した。
件=23℃×24時間 (2) 耐熱軟化性:ASTM−D1525に基づ<
VICAT軟化テス1〜法に準じ、150’Cまで昇温
して針の進入量で判定する。判定基準は、A:針の進入
mo、1mm以下(良好)B:針の進入量0.1mmを
越え1.Qmmmm以下針の進入量1.0mmを越える
(不良)(3)複屈折二自動エリプソメータDMA−3
61を用い、He−Neレーザー光を用イS!n(ll
e Pathによって測定した。
実施例1
ジビニルベンゼン80重量%にメチルメタクリレート2
0重世%を加えて室温で混合溶解した。
0重世%を加えて室温で混合溶解した。
この混合液に重合開始剤としてジタージャリーブデルパ
ーオキサイドを0.1重量%添加し、よく混合した債、
空気等の溶存ガスを真空脱気して、ガラス板とポリエチ
レン製ガスケットよりなるモールド中に注入した。重合
は最初40℃からスタートし、110℃まで40時間か
けて徐々に昇温し重合を完結させた。得られた樹脂は無
色透明であり、吸水率0.05%、耐熱軟化性Aレベル
(VICAT熱軟化テストで150℃まで加熱しても針
の進入量001mm以下)と優れ、かつ複屈折△ndも
1.’5nmと茗しく小さいものであった。
ーオキサイドを0.1重量%添加し、よく混合した債、
空気等の溶存ガスを真空脱気して、ガラス板とポリエチ
レン製ガスケットよりなるモールド中に注入した。重合
は最初40℃からスタートし、110℃まで40時間か
けて徐々に昇温し重合を完結させた。得られた樹脂は無
色透明であり、吸水率0.05%、耐熱軟化性Aレベル
(VICAT熱軟化テストで150℃まで加熱しても針
の進入量001mm以下)と優れ、かつ複屈折△ndも
1.’5nmと茗しく小さいものであった。
結果を表1に示す。
実施例2
ジビニルベンゼン20重量%、メチルメタクリレート8
011%に代えた以外はすべて実施例1に準じて配合液
を調製し注型重合を行なった。得られた結果を表1に示
す。
011%に代えた以外はすべて実施例1に準じて配合液
を調製し注型重合を行なった。得られた結果を表1に示
す。
実施例3
ジアリルイソフタレート80重量%に、エチレングリコ
ールジアクリレート20手ffi%を添加し50’Cで
溶解した。この混合液に重合開始剤として、シミリスチ
ルパーオキシジカーボネートを0゜5重世%を添加し、
よく混合、真空脱気を施した後、実施例1と同様な方法
で注型重合を行なった。
ールジアクリレート20手ffi%を添加し50’Cで
溶解した。この混合液に重合開始剤として、シミリスチ
ルパーオキシジカーボネートを0゜5重世%を添加し、
よく混合、真空脱気を施した後、実施例1と同様な方法
で注型重合を行なった。
得られた結果を表1に示す。
実施例4
実施例1のジビニルベンゼンに代えて、1,3−ベンゼ
ンビスアリルカーボネートを使用する以外はすべて実施
例1に準じて配合液を調製し、注型重合を行なった。得
られた結果を表1に示す。
ンビスアリルカーボネートを使用する以外はすべて実施
例1に準じて配合液を調製し、注型重合を行なった。得
られた結果を表1に示す。
実施例5
実施例1のジビニルベンゼンに代えて、シス−1,2−
ジビニルシクロヘキサンを使用する以外はすべて実施例
1に準じて配合液を調製し、注型重合を行なった。得ら
れた結果を表1に示す。
ジビニルシクロヘキサンを使用する以外はすべて実施例
1に準じて配合液を調製し、注型重合を行なった。得ら
れた結果を表1に示す。
実施例6
実施例2のジビニルベンゼンに代えて、ジアリルク日し
ンデートを使用する以外はすべて実施例2に準じて配合
液を調製し、注型重合を行なった。
ンデートを使用する以外はすべて実施例2に準じて配合
液を調製し、注型重合を行なった。
得られた結果を表1に示す。
実施例7
2.2−ビス(4−メタクリロキシエトキシフェニル)
プロパン60重量部を、スチレン40重量%に溶解させ
た。この混合液に重合開始剤としてアゾビスイソブチロ
ニトリルを0.1重量部添加し、よく混合した債、空気
等の溶存ガスを真空脱気して、セルキャスト重合を行な
った。セルキャスト重合は、200X200mm、厚さ
5mmの2枚のガラス板表面に離型剤を塗布した後、弗
素ポリマ系チューブのガスケットを用い、2枚のガラス
板の距離が1゜2II1mになるようにセルを組み立て
、このセル内に上記組成の七ツマー混合物を注入した。
プロパン60重量部を、スチレン40重量%に溶解させ
た。この混合液に重合開始剤としてアゾビスイソブチロ
ニトリルを0.1重量部添加し、よく混合した債、空気
等の溶存ガスを真空脱気して、セルキャスト重合を行な
った。セルキャスト重合は、200X200mm、厚さ
5mmの2枚のガラス板表面に離型剤を塗布した後、弗
素ポリマ系チューブのガスケットを用い、2枚のガラス
板の距離が1゜2II1mになるようにセルを組み立て
、このセル内に上記組成の七ツマー混合物を注入した。
重合は最初60℃からスタートし110℃まで40時間
かけて徐々に昇温し重合を完結させた。得られた樹脂は
無色透明でおり、吸水率、耐熱軟化性レベル(Aレベル
)は共に優れ、かつ複屈折△ndもQ、3nmと著しく
小さいものであった。結果を表1に示す。
かけて徐々に昇温し重合を完結させた。得られた樹脂は
無色透明でおり、吸水率、耐熱軟化性レベル(Aレベル
)は共に優れ、かつ複屈折△ndもQ、3nmと著しく
小さいものであった。結果を表1に示す。
実施例8
ジビニルベンゼン20重量%、スチレン10重量%、お
よび2,2−ビス(4−アクリロキシエトキシ−3,5
−ジブロムフェニル)プロパン70重量%を加えて50
’Cで溶解した。この混合物に重合開始剤としてジター
シャリ−ブチルパーオキサイドを0.1重量%添加し、
よく混合し、真空脱気を施した後、実施例7と同様な方
法で注型゛重合を行なった。得られた結果は表1に示す
とおりであり、低吸水性、耐熱性、低複屈折に優れたも
のであつた。また透明性にも優れていた。
よび2,2−ビス(4−アクリロキシエトキシ−3,5
−ジブロムフェニル)プロパン70重量%を加えて50
’Cで溶解した。この混合物に重合開始剤としてジター
シャリ−ブチルパーオキサイドを0.1重量%添加し、
よく混合し、真空脱気を施した後、実施例7と同様な方
法で注型゛重合を行なった。得られた結果は表1に示す
とおりであり、低吸水性、耐熱性、低複屈折に優れたも
のであつた。また透明性にも優れていた。
実施例9
2−(4−アクリロキシエトキシ−3,5−ジブロモフ
ェニル)−2−(4−ヒドロキシエトキシ−3,5−ジ
ブロモフェニル)プロパン53.1重量部、ヘキサメチ
レンジイソシアネート6、9am部、ジビニルベンゼン
40.0M量部の混合物に、NC0−OH反応触媒とし
てジラウリル酸ジーn−ブヂル錫’+ooppmを加え
、50℃、2時間加熱後、室温まで冷却し、重合開始剤
として、ターシャリ−ブチルパーオキシイソブチレート
0.1重量部を添加した。この混合物を真空脱気した後
、実施例7と同様な方法で注型重合を行なった。得られ
た結果は表1に示すとおりであり、低吸水性、耐熱性、
低複屈折に優れたものであった。また透明性にも優れて
いた。
ェニル)−2−(4−ヒドロキシエトキシ−3,5−ジ
ブロモフェニル)プロパン53.1重量部、ヘキサメチ
レンジイソシアネート6、9am部、ジビニルベンゼン
40.0M量部の混合物に、NC0−OH反応触媒とし
てジラウリル酸ジーn−ブヂル錫’+ooppmを加え
、50℃、2時間加熱後、室温まで冷却し、重合開始剤
として、ターシャリ−ブチルパーオキシイソブチレート
0.1重量部を添加した。この混合物を真空脱気した後
、実施例7と同様な方法で注型重合を行なった。得られ
た結果は表1に示すとおりであり、低吸水性、耐熱性、
低複屈折に優れたものであった。また透明性にも優れて
いた。
比較例1
スチレン80重量%に、メチルメタクリレート20重量
%を加え室温で混合溶解し、この混合液に重合開始剤と
してアゾビスイソブチロニド9015重量%添加し、よ
く混合、真空脱気を施した俊、実施例1と同様な方法で
注型重合を行なった。得られた結果を表1に示す。
%を加え室温で混合溶解し、この混合液に重合開始剤と
してアゾビスイソブチロニド9015重量%添加し、よ
く混合、真空脱気を施した俊、実施例1と同様な方法で
注型重合を行なった。得られた結果を表1に示す。
比較例2
トリエチレングリコールジメタクリレート70重量%に
、ネオペンチルグリコールジメタクリレート30重量%
を加え室温で溶解した。この混合液に重合開始剤として
ジターシャリ−ブチルパーオキサイドを0.1重量%添
加し、よく混合、真空脱気を施した俊、実施例1と同様
な方法で注型重合を行なった。得られた結果を表1に示
す。
、ネオペンチルグリコールジメタクリレート30重量%
を加え室温で溶解した。この混合液に重合開始剤として
ジターシャリ−ブチルパーオキサイドを0.1重量%添
加し、よく混合、真空脱気を施した俊、実施例1と同様
な方法で注型重合を行なった。得られた結果を表1に示
す。
比較例3
攪拌機および冷却コンデンサーを備えた242セパラブ
ルフラスコにスチレン400(11、メチルメタクリレ
ート100CI、純水700Clおよび分散剤としてポ
リビニルアルコール12gを加えた混合液を投入した。
ルフラスコにスチレン400(11、メチルメタクリレ
ート100CI、純水700Clおよび分散剤としてポ
リビニルアルコール12gを加えた混合液を投入した。
この混合液に7ゾビスイソブチロニトリル2.59を添
加溶解させ、攪拌しながら60℃で4時間、80℃で2
時間、98℃で3時間重合させた。得られたポリマを水
洗、脱水した後70℃で乾燥した。その後180’Cで
賦型、ペレット化した後、シリンダ一温度210’C,
金型温度60℃で射出成型し、直径12cm、厚さ2m
mの円板を得た。このものの評価結果を表1に示す。
加溶解させ、攪拌しながら60℃で4時間、80℃で2
時間、98℃で3時間重合させた。得られたポリマを水
洗、脱水した後70℃で乾燥した。その後180’Cで
賦型、ペレット化した後、シリンダ一温度210’C,
金型温度60℃で射出成型し、直径12cm、厚さ2m
mの円板を得た。このものの評価結果を表1に示す。
略号
DVB ニジビニルベンゼン
MMA :メチルメタクリレート
DAIPニジ7リルイソフタレート
IGA:エチレングリコールジアクリレートBBAC:
1,3−ベンゼンビスアリルカーボネート OVC:シスー1.2−ジビニルシクロヘキサンDAC
Q:ジアリルクロレンデート BMEPP:2.2−ビス(4−メタクリロキシエトキ
シフェニル)プロパン ST;スチレン BAEBr2 PP :2,2−ビス(4−アク’Jロ
ーtシー3,5−ジブロムフェニル)プロパンAEBr
2HEBrz PP :2−(4−アクリロキシエトキ
シ−3,5−ジブロモフェニル−2−(4−ヒドロキシ
エトキシ−3,5−ジブロモフェニル)プロパン HMDI:へキサメチレンジイソシアネート3GMA
: トリエチレングリコールジメタクリレート NPG:ネオペンチルグリコールジメタクリレート [発明の効果] 本発明は次の効果を奏する。
1,3−ベンゼンビスアリルカーボネート OVC:シスー1.2−ジビニルシクロヘキサンDAC
Q:ジアリルクロレンデート BMEPP:2.2−ビス(4−メタクリロキシエトキ
シフェニル)プロパン ST;スチレン BAEBr2 PP :2,2−ビス(4−アク’Jロ
ーtシー3,5−ジブロムフェニル)プロパンAEBr
2HEBrz PP :2−(4−アクリロキシエトキ
シ−3,5−ジブロモフェニル−2−(4−ヒドロキシ
エトキシ−3,5−ジブロモフェニル)プロパン HMDI:へキサメチレンジイソシアネート3GMA
: トリエチレングリコールジメタクリレート NPG:ネオペンチルグリコールジメタクリレート [発明の効果] 本発明は次の効果を奏する。
本発明の樹脂は、架橋構造を有し、かつ繰返し単位とし
て芳香環、シクロヘキサン環、複素環から選ばれた一種
以上を含有する重合体を必須成分とするため、吸水率が
低くて寸法安定性が良く、かつ耐熱性も良いので情報記
録体として安定な使用ができる。本発明に係わる樹脂は
本質的に注型重合によって得るものでおり、複屈折の小
さなディスク基板用樹脂が得られる。これにより配向性
が極めて低く、情報記録体として好ましい物性とするこ
とができる。
て芳香環、シクロヘキサン環、複素環から選ばれた一種
以上を含有する重合体を必須成分とするため、吸水率が
低くて寸法安定性が良く、かつ耐熱性も良いので情報記
録体として安定な使用ができる。本発明に係わる樹脂は
本質的に注型重合によって得るものでおり、複屈折の小
さなディスク基板用樹脂が得られる。これにより配向性
が極めて低く、情報記録体として好ましい物性とするこ
とができる。
Claims (16)
- (1)架橋構造を有する重合体からなることを特徴とす
る情報記録体用樹脂。 - (2)重合体が繰返し単位として芳香環、シクロヘキサ
ン環、複素環から選ばれた一種以上を含有することを特
徴とする特許請求の範囲第(1)項記載の情報記録体用
樹脂。 - (3)重合体の吸水率が0.5%以下であることを特徴
とする特許請求の範囲第(1)項記載の情報記録体用樹
脂。 - (4)重合体の耐熱軟化性が150℃以上であることを
特徴とする特許請求の範囲第(1)項記載の情報記録体
用樹脂。 - (5)樹脂の複屈折が、4.0nm以下であることを特
徴とする特許請求の範囲第(1)項記載の情報記録体用
樹脂。 - (6)重合可能な二重結合を一分子中に少なくとも2個
以上有する単量体を含む単量体混合物またはそのプレポ
リマを型に仕込み、該型中で重合させることを特徴とす
る情報記録体用樹脂の製造方法。 - (7)単量体混合物が重合可能な二重結合を一分子中に
1個含む他の単量体を含有することを特徴とする特許請
求の範囲第(6)項記載の情報記録体用樹脂の製造方法
。 - (8)単量体混合物が、芳香環、シクロヘキサン環、複
素環から選ばれた少なくとも一種以上を含む単量体を含
有することを特徴とする特許請求の範囲第(6)項記載
の情報記録体用樹脂の製造方法。 - (9)単量体混合物が、ジビニルベンゼン、ジアリルイ
ソフタレート、1、3−ベンゼンビスアリルカーボネー
トから選ばれた少なくとも1種以上を含むことを特徴と
する特許請求の範囲第(6)項記載の情報記録体用樹脂
の製造方法。 - (10)芳香環を有する単量体が下記一般式 I で示さ
れるジアクリレートおよび/またはジメタアクリレート
であることを特徴とする特許請求の範囲第(6)項記載
の情報記録体用樹脂の製造方法。 ▲数式、化学式、表等があります▼ I (ただし、RはHまたはCH_3、XはCl、Brまた
はF、nは0から4、mは0から6、Aは▲数式、化学
式、表等があります▼または−SO_2−を表わす。) - (11)シクロヘキサン環を有する単量体がシス−1、
2−ジビニル−シクロヘキサンであることを特徴とする
特許請求の範囲第(6)項記載の情報記録体用樹脂の製
造方法。 - (12)複素環を有する単量体が、ジアリルクロレンデ
ートであることを特徴とする特許請求の範囲第(6)項
記載の情報記録体用樹脂の製造方法。 - (13)単量体が下記一般式IIで示されるイソシアネー
ト変性モノマであることを特徴とする特許請求の範囲第
(6)項記載の情報記録体用樹脂の製造方法。 ▲数式、化学式、表等があります▼II ただし、R_1、R_2は各々、CH_3またはH、X
はCl、BrまたはF、Zは多官能イソシアネートの残
基、 Aは▲数式、化学式、表等があります▼または−SO_
2−、mおよびnは各々0から4までの整数であって、
かつmとnの和は0から4までの整数値、pは0から4
までの整数、qは2から3までの整数を表わす。) - (14)重合可能な二重結合を一分子中に1個含む他の
単量体が、芳香環含有単量体、脂環族単量体、または脂
肪族単量体であることを特徴とする特許請求の範囲第(
7)項記載の情報記録体用樹脂。 - (15)単量体混合物が、重合可能な二重結合を一分子
中に少なくとも2個以上有する単量体を少なくとも5重
量%含み、および、重合可能な二重結合を一分子中に1
個含む他の単量体を95重量%を越えないで含むことを
特徴とする特許請求の範囲第(6)項記載の情報記録体
用樹脂の製造方法。 - (16)情報記録体が情報記録ディスクであることを特
徴とする特許請求の範囲第(7)項記載の情報記録体用
樹脂。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26291184 | 1984-12-14 | ||
JP59-262911 | 1984-12-14 | ||
JP59-262912 | 1984-12-14 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61281114A true JPS61281114A (ja) | 1986-12-11 |
Family
ID=17382317
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60275080A Pending JPS61281114A (ja) | 1984-12-14 | 1985-12-09 | 情報記録体用樹脂およびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61281114A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6313145A (ja) * | 1986-03-07 | 1988-01-20 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 書込み/消去型光デイスク |
WO2002052550A1 (fr) * | 2000-12-26 | 2002-07-04 | Teijin-Bayer Polytec Limited | Substrats pour disques durs et disques durs |
JP2012512269A (ja) * | 2008-12-15 | 2012-05-31 | チェイル インダストリーズ インコーポレイテッド | 人造大理石用マーブルチップ、その製造方法及びこれを含む人造大理石 |
-
1985
- 1985-12-09 JP JP60275080A patent/JPS61281114A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6313145A (ja) * | 1986-03-07 | 1988-01-20 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 書込み/消去型光デイスク |
WO2002052550A1 (fr) * | 2000-12-26 | 2002-07-04 | Teijin-Bayer Polytec Limited | Substrats pour disques durs et disques durs |
JP2012512269A (ja) * | 2008-12-15 | 2012-05-31 | チェイル インダストリーズ インコーポレイテッド | 人造大理石用マーブルチップ、その製造方法及びこれを含む人造大理石 |
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