JPS61278823A - 光ビ−ム合成装置 - Google Patents

光ビ−ム合成装置

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JPS61278823A
JPS61278823A JP60120498A JP12049885A JPS61278823A JP S61278823 A JPS61278823 A JP S61278823A JP 60120498 A JP60120498 A JP 60120498A JP 12049885 A JP12049885 A JP 12049885A JP S61278823 A JPS61278823 A JP S61278823A
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JP
Japan
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light beam
optical beam
optical
light
incident
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Pending
Application number
JP60120498A
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English (en)
Inventor
Satoshi Shinada
聡 品田
Masayuki Inoue
雅之 井上
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Hitachi Image Information Systems Inc
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Hitachi Video Engineering Co Ltd
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Publication date
Application filed by Hitachi Ltd, Hitachi Video Engineering Co Ltd filed Critical Hitachi Ltd
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Publication of JPS61278823A publication Critical patent/JPS61278823A/ja
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    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B7/00Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
    • G11B7/12Heads, e.g. forming of the optical beam spot or modulation of the optical beam
    • G11B7/135Means for guiding the beam from the source to the record carrier or from the record carrier to the detector
    • G11B7/1398Means for shaping the cross-section of the beam, e.g. into circular or elliptical cross-section
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/28Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 for polarising
    • G02B27/283Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 for polarising used for beam splitting or combining
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
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    • G11B7/135Means for guiding the beam from the source to the record carrier or from the record carrier to the detector
    • G11B7/1356Double or multiple prisms, i.e. having two or more prisms in cooperation
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    • G11B7/1395Beam splitters or combiners

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 し発明の利用分野〕 本発明は、波長の異なる2つのyC源からの光ビームを
合成する機能を有する元ビーム合成装置に関する。
〔発明の背景〕
従来の波長の異なる2つの元ビームの合成装置としては
特開昭58−132214号公報に記載のように、偏光
ビームスプリンタ、4分の1波長板、波長選択性を有す
るば2−(バンドパスフィルタ)とから構成されていた
。この光ビーム合成装置は、一般に光学式情報記録装置
の光ピツクアップに使用するものであり一方の光で記録
し、同時に他方の光で記録された信号を読み出すもの、
一方の光で消去し、他方の光で記録再生するもの、一方
の光で熱的バイアスを与え、他方の元で記録再生を行な
うもの、などである。
一般(こ半導体レーザの出射する光ビームは、半導体レ
ーザの接合面に平行な方向と垂直な方向とでは強度分出
iが異なる楕円ビームである。このため合成された光ビ
ームを対物レンズによりディスクの情報記録面に集光し
た場合は、スポットが楕円形状となり、隣接トラックか
らのクロストークの増大または、情報信号の周波数特性
の低下などが起こった。この問題を解決するための光ビ
ーム整形を2つの光ビームそれぞれに行なう場合、光ビ
ーム合成装置に入射する2つの光束について、おのおの
独立にプリズム。
円筒レンズなどにより元ビームの合成を行なうためlこ
、光学系の構成が複雑になる。
〔発明の目的) 本発明の目的は上記した従来技術の欠点を除去し、簡単
な構成で波長の異なる2つの元ビームの合成、及び光ビ
ームの整形が可能な光ビーム合成装置を提供することで
ある。
〔発明の概要〕
上記した目的を達成するために、本発明においては、非
等方的な光ビームを等方的な光ビームに整形するだめの
2つの入射面と、また内部の光路中に、P偏光のみの透
過率が良い偏光面と、波長選択性のある反射面を有する
プリズムを構成するものである。
(発明の実施例J 以下、本発明による光ビーム合成装置の詳細を第1図に
示す実施例により説明する。第1光源(図示せず)から
出力された波長λ1の光ビーム1aを第1入射面2aに
斜めにP偏光で入射させ、屈折させるとと(こよって縦
横の比を整形された光ビーム1bになり、内部の反射面
2bへ入射する。反射面2bは多層コートを施すことに
よって、垂直入射では波長λ、・λ、の光を共に透過し
、入射角度によっては波長λ1の光の′みな透過する様
にしたものであり、波長λ寞の光ビーム1bは反射面2
bを透過し、反射面2Cに入射する。反射面2Cは、波
長λ、・れの光を巷に反射する構造になっている。光ビ
ーム1bは反射面2Cによって反射され、光ビーム1C
となる。光ビーム1cは反射面2bに垂直入射し、その
まま透過して偏光面2dへ向かう。偏光面2dは波長λ
、・λ倉の光を共にP偏光のみ透過し、S偏光を反射す
る構造になっている。光ビーム1Cは偏光面2dを透過
し、第1出射面2eから光ビーム1d、となって出射す
る。このとき光ビーム1d、は光ビーム1aに対して直
交している。
また、第2光源(図示せず)から出力された波長λ1の
光ビーム1eは光ビーム1aと平行であり、光ビーム1
aと同様に第2入射面2fに斜めにP偏光で入射させ、
屈折させることによって縦横の比を整形された光ビーム
1fになり、内部の反射面2bへ入射する。光ビーム1
fは反射面2bによって反射され光ビーム1gとなる。
このとき、反射面2bに対する光ビーム1fの入射角を
、反射面2bに対する光ビーム1bの入射角と一致させ
ておけば、光ビーム1gの光軸は光ビーム1bの光軸と
一致させることができ、第1光源の場合と同様にして第
1出射面2eから光ビーム1dlとなって出射する。光
ビーム1d1と光ビーム1d會は共−こディスク面(図
示せず)で反射し、再び第1出射面2eより入射し、偏
光面2dで反射して第2出射面2gから出射する。
この様な構成によれば2つの光ビームの整形と合成がで
き、かつ2つの光ビームが平行で、また出射光に対して
直交する構成にすることができる。
また、第2図に示す様に入射面2a・2f・2bの角度
を変化させれば、2つの光ビームが平行で、また出射光
に対して直交する構成のまま光ビームの整形倍率を変化
させることができる。
第6図は本発明による光ビーム合成装置を用いた光ヘッ
ドの一例である。半導体レーザ3aの配置は、光ビーム
4aが光ビーム合成装置2にP偏光で入射する様になっ
ている。この場合半導体レーザ3aから放射する光ビー
ム3aは2方向に広がりの大きい非等方的な光ビームで
ある。光ビーム3aはコリメートレンズ5alCよって
X方向に平行な光ビーム1aになり、光ビーム合成装置
2によってX方向に拡げられ、略円形な光ビームとなり
、光ビーム1 d、としてX方向に出射する。半導体レ
ーザ3bはX方向を軸として半導体レーザ3aに対して
90°回転した配置になっている。半導体レーザ3bか
ら放射した光ビーム4bはコリメートレンズ5bによっ
てX方向に平行な光ビーム11となる。
光ビーム11は光ビーム合成装置20入射面に対してS
偏光であり、X方向に広がりの大きい非等方的な光ビー
ムである。光ビーム11は、2分の1波長板6を通過し
て光ビーム合成装置20入射面に対してP偏光の光ビー
ム1eになる。光ビーム1eは光ビーム合成装置2によ
ってX方向に拡げられ更に非等方的な光ビームとなり、
光ビーム1 daとして、光ビーム1dlと同じ光軸を
辿り、X方向に出射する。このとき光ビーム1d*はy
方向に長い長円形である。光ビーム1 (Lと光ビーム
1d、は共に4分の1波長板7を通過し、対物レンズ8
により集光され、ディスク9上lこスポットを形成する
。このときディスク9上のスポットは、光ビーム1 d
、によるものが円形をしており、光ビーム1d、による
ものが2方向に長い長円スポットである。ディスク9か
らの反射光は再び対物レンズ8.4分の1波長板7を通
過し、光ビーム合成装置2へ戻り、偏光面2dで反射さ
れy方向の半導体レーザ3a・3bとは反射側に、光ビ
ーム1jとして出射する。光ピーラ1jは、波長選択性
のあるミラー10によって再び光ビーム1klと光ビー
ム1に、に分離される。光ビーム1 k、はレンズ11
aによって絞られて検出器12aで検出される。
また光ビーム1 kmはレンズ11 bによって絞られ
て検出器12bで検出される。
また、第4図に一方の光ビーム整形のみが必要な場合の
光ビーム合成装置の例を示す。
波長λ1の元ビーム1aは第1入射面2aに斜めにP偏
光で入射させ、屈折させることによって縦横の比を整形
された光ビーム1bになり、第2入射面を兼ねた反射面
2hへ入射する。反射面2hは、波長λ1の光ビームは
透過するが、波長λ、の光ビームは反射する構造になっ
ている。
光ビーム1bは反射面2gで反射され光ビーム1Cとな
り、偏光面2dへ向かう。偏光面2dは波長λ1・れの
光を共にP偏光のみ透過し、S偏光を反射する構造にな
っている。光ビーム1Cは偏光面を透過し、第1出射面
2eから光ビーム1dとなって出射する。また、波長2
章の光ビーム1hは第2入射面を兼ねた反射面2gに直
接入射させると透過して光ビーム1Cの光軸と一致させ
ることができ、2つの光ビームが合成されて、第1出射
面2eから光ビーム1dIと光ビーム1d宜となり出射
する。光ビーム1d1と光ビーム1d、は共にディスク
面(図示せず)で反射し、再び第1出射面2eより入射
し、偏光面2dで反射して第2出射面2gから出射する
〔発明の効果〕
以上説明したように、本発明によれば、ビーム整形の機
能を持つ2つの入射面と波長選択性のある反射面と偏光
面を一体化することにより、波長の異なる2つの光ビー
ムの整形及び合成が行ない、また、合成した光ビームの
出射光と反射光の分離を行なうことが一つの光学素子で
可能となる。
【図面の簡単な説明】
第1図・第2図は本発明の一実施例の光ビーム合成装置
の側面図、第3図は光ビーム合成装置を用いた光ヘッド
の構成図、また第4図は光ビーム合成装置のもう一つの
例を示す側面図である。 2a、2f・・・入射面、 2b・・・反射面、

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、第1・第2の入射面と、第1・第2の出射面と、波
    長選択性のある反射面と、その内部に偏光反射面を備え
    たことを特徴とする光ビーム合成装置。
JP60120498A 1985-06-05 1985-06-05 光ビ−ム合成装置 Pending JPS61278823A (ja)

Priority Applications (1)

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JP60120498A JPS61278823A (ja) 1985-06-05 1985-06-05 光ビ−ム合成装置

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JP60120498A JPS61278823A (ja) 1985-06-05 1985-06-05 光ビ−ム合成装置

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JPS61278823A true JPS61278823A (ja) 1986-12-09

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JP60120498A Pending JPS61278823A (ja) 1985-06-05 1985-06-05 光ビ−ム合成装置

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63317938A (ja) * 1987-06-22 1988-12-26 Hitachi Ltd 2レ−ザ光ヘッド
JPH06195743A (ja) * 1992-09-10 1994-07-15 Toshiba Corp 光学ヘッド装置
US6154433A (en) * 1992-09-10 2000-11-28 Kabushiki Kaisha Toshiba Light beam shaping device to change an anisotropic beam to an isotropic beam for reducing the size of an optical head

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS63317938A (ja) * 1987-06-22 1988-12-26 Hitachi Ltd 2レ−ザ光ヘッド
JPH06195743A (ja) * 1992-09-10 1994-07-15 Toshiba Corp 光学ヘッド装置
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