JPS61276335A - 半導体集積回路装置 - Google Patents

半導体集積回路装置

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JPS61276335A
JPS61276335A JP60117869A JP11786985A JPS61276335A JP S61276335 A JPS61276335 A JP S61276335A JP 60117869 A JP60117869 A JP 60117869A JP 11786985 A JP11786985 A JP 11786985A JP S61276335 A JPS61276335 A JP S61276335A
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JP
Japan
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mos
integrated circuit
capacity
semiconductor integrated
capacitance
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Application number
JP60117869A
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English (en)
Inventor
Hideaki Koyama
英明 小山
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NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、半導体集積装置、特に静電容量の測定を可能
とした半導体装置に関する。
〔従来の技術〕
従来、半導体集積装置上に形成した、特にMOS形靜電
谷量の測定は、例えは、容量計のように、交流電圧を印
加した時の交流電流を測定して、インピーダンスと、印
加交流電圧の周波数から容量を求めていた。
〔発明が解決しようとする問題点〕
ところが、上述した従来の容量測定では、交流測定であ
るため、容量計から測定しようとする半導体基板上の静
電容量までに生じる分布容量が測定に誤差を与えたり、
測定に時間がかがシ半導体集積回路装置の製造過程にお
いて、静電容量のチェックは、手間がかかるという欠点
がある0〔問題点を解決するための手段〕 本発明の半導体集積回路装置によれば、MOS形静電容
量素子を有する半導体集積回路テア1上にMOS形静電
容量素子と同じ絶縁膜厚をもつ、容量チェック用のMO
S形電界効果トランジスタを有する半導体集積回路装置
を得る0 本発明は、上記欠点を解消して、MOB形靜電谷量を、
MOS形半導体のしきい値電圧を使って求めると供に、
直流測定であるため、半導体集積装置の他の直流測定と
同じに測定できるので製造過程における静電秤量のチェ
、りを大幅に簡略化できる半導体集積装置を提供するこ
とである0〔実施例〕 次に、本発明を半導体集積回路装置のMOa形静電容量
の測定に通用した一実施例につき、詳細に説明する。
第1図に示すように、半導体基板1に形成された半導体
集積回路装置の一部に絶縁膜2と電極3゜4で構成され
るNi o s形靜電答量と同じ、!lf!!碌g 2
 /をゲート絶縁膜として有し、反対導電型のンース。
ドレイン領域8.6と各電極5.6.7をする容量チェ
、り用のMOS形電界効果トランジスタを設ける。これ
は1つの半導体基板l上の全ての半導体集積回路装置の
一部に容量チェ、り用として作られる。容量チェック用
MOa形電界効果トランジスタの電極5,6.7を使っ
てしきい値電圧を測定できるようにする。次に、しきい
値電圧と容量の関係式から容量を知ることができるので
容量値を、しきい値電圧として規定して他の直流測定と
同時に測定を行なえば、容量値を含んだ選別が可能にな
る。このしきい導電1EVtを次式のように表わせる。
Vt = (1)ws −gL!!!−+ 216f−
ユ2Qi ”O”Q”No” %jCo     C。
ただし、Vt:Lきい値電圧 ΦMs:金輿とSiの仕事関数の差 =−0,31V df :8iの7zルを準位=−0,29VすH:8i
の比誘電率=11.8 Co:真空中の誘電率+&855X10’LtlllN
o  : :I−に:夕+V+kflkL= 2J3X
1G’−r3q :電荷量=1.6X10 ”C εi:絶縁膜の比誘電率(例えば8 i02の3.6) Co:絶縁膜の作るコンデンサの 静電容量co=fユ Q Q88二表面電荷密度 上記の式を整理して Vt= 0.6 (7,3X10”+3.14X10”
Qsa)・’3”;?となり、シきい値電圧VTは、静
電容量coと=対−の対応関係にある。
〔発明の効果〕
以上説明したように%本発明は、MOa形静電容量と同
じ絶縁膜厚を有するMOa形電界効果トランジスタを半
導体集積回路装置の一部に設けて、しきい値電圧を測定
することによシ、直流的に前記MOa形静電容量の容量
値を測定することができるので、半導体集積回路装置の
製造過程における直流測定と同時にかつ、半導体基板上
にある全ての半導体集積回路装置に対して容量検査を行
なうことができる効果がある。また、容量検量は直流的
に行なわれるので、寄生容量Kまどわされることなく、
正確な測定ができる0
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例による半導体集積回路装置の
主要部を示す断面図、第2図は第1図の半導体集積回路
装置を多数有する半導体基板の概略断面図である。 l・・・・・・−導電形半導体基板、2.2’・・・・
・・絶縁膜、3.4・・・・・・MOa形静電容量の電
極、5.6゜7・・・・・容量チェ、り用MOS形素子
の各電極、8゜9・・・・・・反対導電形ソース、ドレ
イン領域。 叉二シ

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 半導体基板上にMOS形静電容量素子を有する半導体集
    積回路装置に於いて、前記半導体基板の一部に前記MO
    S形静電容量素子の絶縁膜と同じ絶縁膜をゲート絶縁膜
    として有するMOS形電界効果トランジスタを有するこ
    とを特徴とした半導体集積回路装置。
JP60117869A 1985-05-31 1985-05-31 半導体集積回路装置 Pending JPS61276335A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019047010A (ja) * 2017-09-05 2019-03-22 三菱電機株式会社 半導体装置、電力変換装置ならびに半導体装置の駆動方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019047010A (ja) * 2017-09-05 2019-03-22 三菱電機株式会社 半導体装置、電力変換装置ならびに半導体装置の駆動方法

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