JPH06288972A - イオンセンサ及びイオン測定方法 - Google Patents
イオンセンサ及びイオン測定方法Info
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- JPH06288972A JPH06288972A JP5095478A JP9547893A JPH06288972A JP H06288972 A JPH06288972 A JP H06288972A JP 5095478 A JP5095478 A JP 5095478A JP 9547893 A JP9547893 A JP 9547893A JP H06288972 A JPH06288972 A JP H06288972A
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Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【目的】 本発明は、温度補償の問題に簡単な解決策を
与えるものでpH計の測定精度の向上したpH計の製作
に寄与するものである。また、本発明は、従来のISFE
Tを用いたpH計の測定精度を大幅に向上させ、0〜5
0℃の温度変化に対して±0.01〜±0.1pHを実現
しようとするもので、高精度のpH計をISFETを用
いて実現するのに大きく可能性を開くものである。 【構成】 分離された島状シリコン内にISFETとM
OSFETとダイオ−ドDをワンチップ化したデバイス
のそれぞれに定電流回路を接続し、定電圧電源からFE
Tのドレインとダイオ−ドに一定電圧を供給したソ−ス
フォロア回路で、ISFETとMOSFETのそれぞれ
のソ−ス電圧の差動出力と供にダイオ−ドなどの温度セ
ンサからの溶液温度のデ−タをA/Dコンバ−タを通し
てCPUにデ−タを送り計算することにより、参照電極
の電位とセンサ感度の温度による誤差を補償することに
よりpHの測定精度を向上させたことを特徴とするイオ
ンセンサの構成法。
与えるものでpH計の測定精度の向上したpH計の製作
に寄与するものである。また、本発明は、従来のISFE
Tを用いたpH計の測定精度を大幅に向上させ、0〜5
0℃の温度変化に対して±0.01〜±0.1pHを実現
しようとするもので、高精度のpH計をISFETを用
いて実現するのに大きく可能性を開くものである。 【構成】 分離された島状シリコン内にISFETとM
OSFETとダイオ−ドDをワンチップ化したデバイス
のそれぞれに定電流回路を接続し、定電圧電源からFE
Tのドレインとダイオ−ドに一定電圧を供給したソ−ス
フォロア回路で、ISFETとMOSFETのそれぞれ
のソ−ス電圧の差動出力と供にダイオ−ドなどの温度セ
ンサからの溶液温度のデ−タをA/Dコンバ−タを通し
てCPUにデ−タを送り計算することにより、参照電極
の電位とセンサ感度の温度による誤差を補償することに
よりpHの測定精度を向上させたことを特徴とするイオ
ンセンサの構成法。
Description
【0001】
【発明の属する分野の説明】本発明は半導体デバイスを
用いたイオンセンサ及びそのイオン測定方法に関するも
のである。
用いたイオンセンサ及びそのイオン測定方法に関するも
のである。
【0002】
【従来技術】イオン感応電界効果トランジスタ(以下I
SFET)の実用上の問題として、溶液の温度変化に対
して、ISFETが温度変化することにより、その出力
電圧が誤差を生じる事である。従来、この解決策とし
て、(1)ISFETのドレイン電流を温度変化のない
ような適当な値に設定するIQ法と呼ばれ (2) る方法、(2)あらかじめ、ドレイン電流をある値に設
定して、そこでのFETの温度係数を製品分布から推定
してある値を決定し、これとダイオ−ドの正方向電圧降
下の温度係数などを用いる温度センサからのデ−タを用
いて、CPUに計算させて結果として温度補償する方法
などがとられていた。
SFET)の実用上の問題として、溶液の温度変化に対
して、ISFETが温度変化することにより、その出力
電圧が誤差を生じる事である。従来、この解決策とし
て、(1)ISFETのドレイン電流を温度変化のない
ような適当な値に設定するIQ法と呼ばれ (2) る方法、(2)あらかじめ、ドレイン電流をある値に設
定して、そこでのFETの温度係数を製品分布から推定
してある値を決定し、これとダイオ−ドの正方向電圧降
下の温度係数などを用いる温度センサからのデ−タを用
いて、CPUに計算させて結果として温度補償する方法
などがとられていた。
【0003】
【従来技術の問題点】然し乍ら、上記の従来技術は個々
のFETの温度特性にバラツキがあるので(1)では温
度係数がゼロのドレイン電流を個々に測定しなければな
らず、また(2)のようなCPUを用いたISFETの
温度補償は、図1に示すような回路構成で、ISFET
と温度センサとを組み合わせあらかじめドレイン電流を
一定値に決定し、そこでのISFETの温度係数をその
生産分布から見積もった値をCPUにメモりさせ、上記
の温度センサの温度デ−タからすでにメモりされたそれ
ぞれの温度における温度特性曲線からCPUが計算し、
その出力電圧に温度の補正を行うように構成されてい
る。しかし、この方法ではISFETの特性は±0.5
mV/℃くらいのバラツキがあるので、±25℃の温度
変化で、ISFET間で±0.2pHも出力値が変化す
るので測定精度が低かった。したがって、このような方
法ではpH計として0〜50℃の範囲で±0.2pHを
越える精度のpH計を得るのは困難であった。
のFETの温度特性にバラツキがあるので(1)では温
度係数がゼロのドレイン電流を個々に測定しなければな
らず、また(2)のようなCPUを用いたISFETの
温度補償は、図1に示すような回路構成で、ISFET
と温度センサとを組み合わせあらかじめドレイン電流を
一定値に決定し、そこでのISFETの温度係数をその
生産分布から見積もった値をCPUにメモりさせ、上記
の温度センサの温度デ−タからすでにメモりされたそれ
ぞれの温度における温度特性曲線からCPUが計算し、
その出力電圧に温度の補正を行うように構成されてい
る。しかし、この方法ではISFETの特性は±0.5
mV/℃くらいのバラツキがあるので、±25℃の温度
変化で、ISFET間で±0.2pHも出力値が変化す
るので測定精度が低かった。したがって、このような方
法ではpH計として0〜50℃の範囲で±0.2pHを
越える精度のpH計を得るのは困難であった。
【0004】
【発明の目的】本発明は、上記の温度補償の問題に簡単
な解決策を与えるものでpH計の測定精度の向上したp
H計の製作に寄与するものである。また、本発明は、従
来のISFETを用いたpH計の測定精度を大幅に向上
させ、0〜50℃の温度変化に対して±0.01〜±0.
1pHを実現しようとするもので、高精度のpH計をI
SFETを用いて実現するのに大きく可能性を開くもの
である。
な解決策を与えるものでpH計の測定精度の向上したp
H計の製作に寄与するものである。また、本発明は、従
来のISFETを用いたpH計の測定精度を大幅に向上
させ、0〜50℃の温度変化に対して±0.01〜±0.
1pHを実現しようとするもので、高精度のpH計をI
SFETを用いて実現するのに大きく可能性を開くもの
である。
【0005】
(3) 本発明は分離された島状シリコン内にISFETとMO
SFETとダイオ−ドをワンチップ化したデバイスのそ
れぞれに定電流回路を接続し、定電圧電源からFETの
ドレインとダイオ−ドに一定電圧を供給したソ−スフォ
ロア回路で、ISFETとMOSFETのそれぞれのソ
−ス電圧の差動出力と供にダイオ−ドなどの温度センサ
からの溶液温度のデ−タをA/Dコンバ−タを通してC
PUにデ−タを送り計算することにより、参照電極の電
位とセンサ感度の温度による誤差を補償することにより
pHの測定精度を向上させたことを特徴とする。
SFETとダイオ−ドをワンチップ化したデバイスのそ
れぞれに定電流回路を接続し、定電圧電源からFETの
ドレインとダイオ−ドに一定電圧を供給したソ−スフォ
ロア回路で、ISFETとMOSFETのそれぞれのソ
−ス電圧の差動出力と供にダイオ−ドなどの温度センサ
からの溶液温度のデ−タをA/Dコンバ−タを通してC
PUにデ−タを送り計算することにより、参照電極の電
位とセンサ感度の温度による誤差を補償することにより
pHの測定精度を向上させたことを特徴とする。
【0006】
【実施例】図2は本発明の一実施例構造を示す断面図
で、1はP型シリコン基体、2はN型領域で前記P型シ
リコン基体1と共にPN接合Jにより分離された島状領
域I1、I2、I3を形成する。次に3、4は夫々島状領
域I1、I2に形成されたソ−ス領域及びドレイン領域で
夫々領域上にソ−ス電極S1、S2及びドレイン電極D
1、D2が形成され、又領域I1のゲ−ト酸化膜5上には
イオン感応膜ISが被着されてイオン感応電界効果トラ
ンジスタISFETを形成し、領域I2のゲ−ト酸化膜
5上には金属又はポリシリコンMを被着しメタルゲ−ト
(MOS)形電界効果トランジスタ(MOSFET)を
形成している。又島状領域I3にはP型拡数領域7及び
N型拡散領域8を設けて温度補償用素子としてのダイオ
−ドDを形成する。
で、1はP型シリコン基体、2はN型領域で前記P型シ
リコン基体1と共にPN接合Jにより分離された島状領
域I1、I2、I3を形成する。次に3、4は夫々島状領
域I1、I2に形成されたソ−ス領域及びドレイン領域で
夫々領域上にソ−ス電極S1、S2及びドレイン電極D
1、D2が形成され、又領域I1のゲ−ト酸化膜5上には
イオン感応膜ISが被着されてイオン感応電界効果トラ
ンジスタISFETを形成し、領域I2のゲ−ト酸化膜
5上には金属又はポリシリコンMを被着しメタルゲ−ト
(MOS)形電界効果トランジスタ(MOSFET)を
形成している。又島状領域I3にはP型拡数領域7及び
N型拡散領域8を設けて温度補償用素子としてのダイオ
−ドDを形成する。
【0007】図3は本発明のイオンセンサを利用したイ
オン測定法を示す回路図で図3では温度補償用ダイオ−
ドを除いた例を示す。図3に示すように、同一寸法のI
SFETとMOSFETワンチップ上に配置し、ドレイ
ン電極共通とし、ISFETのソ−ス電極、メタルゲ−
トFETのソ−ス電極、メタルゲ−トの電極の4つの電
極を外部に取りだし、ドレイン電圧、ドレイン電流一定
のソ−スフォロア回路構成とする。ここで基準電極は内
部液形の銀一塩化銀電極を使用している。この回路でI
SFETと (4) MOSFETのソ−ス電位VSはそれぞれ下記の式で表
される。Erefは参照電極電位で、Vt1、Vt2はそれぞ
れFETのしきい値電圧である。ISFETでは
オン測定法を示す回路図で図3では温度補償用ダイオ−
ドを除いた例を示す。図3に示すように、同一寸法のI
SFETとMOSFETワンチップ上に配置し、ドレイ
ン電極共通とし、ISFETのソ−ス電極、メタルゲ−
トFETのソ−ス電極、メタルゲ−トの電極の4つの電
極を外部に取りだし、ドレイン電圧、ドレイン電流一定
のソ−スフォロア回路構成とする。ここで基準電極は内
部液形の銀一塩化銀電極を使用している。この回路でI
SFETと (4) MOSFETのソ−ス電位VSはそれぞれ下記の式で表
される。Erefは参照電極電位で、Vt1、Vt2はそれぞ
れFETのしきい値電圧である。ISFETでは
【数1】 又メタルゲ−ト(MO)では
【数2】 但し、Rは気体定数、Tは絶対温度、Fはファラデ−定
数である。ここで、βはFETの構造に関係するもので
同一とし、また、両者のドレイン電流を同一(IS1=I
S2)とすると、ISFETとMOSFETのソ−ス電位
の差は次式となる。
数である。ここで、βはFETの構造に関係するもので
同一とし、また、両者のドレイン電流を同一(IS1=I
S2)とすると、ISFETとMOSFETのソ−ス電位
の差は次式となる。
【数3】 また、両者のしきい値電圧の差は一定とすると、ISF
ETとMOSFETのソ−ス電位の差の温度依存性は次
式となる。
ETとMOSFETのソ−ス電位の差の温度依存性は次
式となる。
【数4】
【0008】つまり、ISFETとMOSFETのソ−
ス電位の差動出力電圧の温度特性はpH感度と参照電極
の電位の温度依存性によることが解る。実際、ISFE
Tのソ−ス電位の温度による変化は±25℃で±50m
V〜±60mVも変化する。一方、MOSFETの方も
ア−ス電位に固定されていながら同様の変化をする。し
かし、両者の差はドレイン電流の全領域で温度変化が±
25℃の範囲で±12mVくらいになる。この変化は上
記で説明したように、ISFET単体で構成のときのp
H感度の温度依存性と参照電極の電位の温度依存性が合
わさったものである。以上の原理にもとづき個々のIS
FETの温度特性が違っていてもISFET/メタルゲ
−トFETのペア−をワンチップに配置することにより
温度特性の揃ったFETを作ることができるので、二つ
のFET側の温度変化による出力変化は1/5に再現性
良く低減できる。図4は上記構成で温度を25℃〜50
℃にステップ状に変化させたときの各FETとその差動
出力を比較したもので、温度に対し各センサはすばや (5) く応答している。
ス電位の差動出力電圧の温度特性はpH感度と参照電極
の電位の温度依存性によることが解る。実際、ISFE
Tのソ−ス電位の温度による変化は±25℃で±50m
V〜±60mVも変化する。一方、MOSFETの方も
ア−ス電位に固定されていながら同様の変化をする。し
かし、両者の差はドレイン電流の全領域で温度変化が±
25℃の範囲で±12mVくらいになる。この変化は上
記で説明したように、ISFET単体で構成のときのp
H感度の温度依存性と参照電極の電位の温度依存性が合
わさったものである。以上の原理にもとづき個々のIS
FETの温度特性が違っていてもISFET/メタルゲ
−トFETのペア−をワンチップに配置することにより
温度特性の揃ったFETを作ることができるので、二つ
のFET側の温度変化による出力変化は1/5に再現性
良く低減できる。図4は上記構成で温度を25℃〜50
℃にステップ状に変化させたときの各FETとその差動
出力を比較したもので、温度に対し各センサはすばや (5) く応答している。
【0009】図5はPNPのダブルジャンクションによ
り分離された島状シリコン内にISFETとMOSFE
Tとダイオ−ドをワンチップ化しこのチップ内のISF
ET/MOSFETペアとダイオ−ドのそれぞれに定電
流回路を接続し、定電圧電源からFETのドレインとダ
イオ−ドに一定電圧を供給したソ−スフォロア回路とし
て、ISFETとMOSFETのそれぞれのソ−ス電圧
とダイオ−ドの順方向降下電圧をA/Dコンバ−タを通
してCPUにデ−タを送るように構成する。(3)、
(4)式に示すように、差動出力つまり感応膜の起電力
はpHに比例し、すなわち1pHあたりの発生起電力m
Vは表1に示すように、約0.2mV/℃の感度変化と
なる。
り分離された島状シリコン内にISFETとMOSFE
Tとダイオ−ドをワンチップ化しこのチップ内のISF
ET/MOSFETペアとダイオ−ドのそれぞれに定電
流回路を接続し、定電圧電源からFETのドレインとダ
イオ−ドに一定電圧を供給したソ−スフォロア回路とし
て、ISFETとMOSFETのそれぞれのソ−ス電圧
とダイオ−ドの順方向降下電圧をA/Dコンバ−タを通
してCPUにデ−タを送るように構成する。(3)、
(4)式に示すように、差動出力つまり感応膜の起電力
はpHに比例し、すなわち1pHあたりの発生起電力m
Vは表1に示すように、約0.2mV/℃の感度変化と
なる。
【表1】 一方、一例として、銀一塩化銀電極における電位の温度
依存性は表2のように約0.7mV/℃の値であり、マ
イナスの温度係数を持っている。
依存性は表2のように約0.7mV/℃の値であり、マ
イナスの温度係数を持っている。
【表2】
【0010】一定の工程で製作された銀一塩化銀電極の
温度特性は良く揃ったものが出来るので、製作された銀
一塩化銀電極の代表的な温度特性を求めることにより正
確に参照電極の温度係数を予測できる。上記のこれらの
デ−タをCPUのROMに記憶しておく。ダイオ−ドの
順方向電圧降下の温度係数は約2.0mV/℃であるの
でその順方向電圧降下から温度センサとして利用できる
ので、ISFET/MOSFETペア−と同一チップ上
にあるダイオ−ドの順方向電圧降下をセンシングしてA
/Dコンバ−タを通してCPUに温度デ−タを入れてや
ることにより上記のpH感度の温度係数値である2.3
03RT/Fを決定し、さらに参照電極の温度係数のデ
−タがCPUのROMに入っているのでこれらのデ−タ
から高精度の温度補償ができる。この方法で±25℃の
温度変化に対して±0.01pH (6) のpH測定精度を実現できる。
温度特性は良く揃ったものが出来るので、製作された銀
一塩化銀電極の代表的な温度特性を求めることにより正
確に参照電極の温度係数を予測できる。上記のこれらの
デ−タをCPUのROMに記憶しておく。ダイオ−ドの
順方向電圧降下の温度係数は約2.0mV/℃であるの
でその順方向電圧降下から温度センサとして利用できる
ので、ISFET/MOSFETペア−と同一チップ上
にあるダイオ−ドの順方向電圧降下をセンシングしてA
/Dコンバ−タを通してCPUに温度デ−タを入れてや
ることにより上記のpH感度の温度係数値である2.3
03RT/Fを決定し、さらに参照電極の温度係数のデ
−タがCPUのROMに入っているのでこれらのデ−タ
から高精度の温度補償ができる。この方法で±25℃の
温度変化に対して±0.01pH (6) のpH測定精度を実現できる。
【0011】
【発明の効果】本発明により、ワンチップで差動構成が
できるので、ペア−特性の良く揃ったFETが製作で
き、組立製作が簡単で、大幅なコスト低減が実現でき
る。また0〜50℃の間で、±0.2pHを上回る精度
を全ての製作されたpH計で実現できることは、測定精
度とその値の信頼性という点でも効果大である。本発明
により、ISFETによるpH測定が、ガラス電極並み
にできるので、従来より小形で安価にpHプロ−ブを製
作できその効果大である。将来この方法が大部分ガラス
電極から置き換えることができる。
できるので、ペア−特性の良く揃ったFETが製作で
き、組立製作が簡単で、大幅なコスト低減が実現でき
る。また0〜50℃の間で、±0.2pHを上回る精度
を全ての製作されたpH計で実現できることは、測定精
度とその値の信頼性という点でも効果大である。本発明
により、ISFETによるpH測定が、ガラス電極並み
にできるので、従来より小形で安価にpHプロ−ブを製
作できその効果大である。将来この方法が大部分ガラス
電極から置き換えることができる。
【図1】従来の測定方法を示す回路図
【図2】本発明の一実施例構造を示す断面図
【図3】本発明の測定方法を示す構成例図
【図4】本発明による温度変化に対する出力変動を示す
特性図
特性図
【図5】本発明の他の測定方法を示す構成例図
ISFET イオン感応電界効果トランジスタ MOSFET メタルゲ−ト電界効果トランジスタ D 温度補償用ダイオ−ド I1、I2、I2 島状領域 1 シリコン基体
Claims (4)
- 【請求項1】 PN接合により夫々分離され島状シリコ
ン内においてゲ−ト絶縁膜上にイオン感応膜被着したイ
オン感応電界効果トランジスタ(ISFET)と、金属
もしくはポリシリコンを被着したMOS形電界効果トラ
ンジスタ(MOSFET)及び温度補償用素子を設けた
ことを特徴とするイオンセンサ。 - 【請求項2】 MOSFETのゲ−ト電極をア−ス電位
もしくは一定電位に接続したことを特徴とする特許請求
の範囲1項記載のイオンセンサ。 - 【請求項3】 ISFETとMOSFETのドレイン電
圧、及び、ドレイン電流をともに一定にするソ−スフォ
ロア回路構成とした差動回路構成で、基準電極として内
部液形の銀一塩化銀電極を使用、二つのFETソ−ス電
圧の差動出力を取り出すことを特徴とするイオン測定方
法。 - 【請求項4】 ISFET/MOSFETペアの差動出
力の温度変化を上記温度センサの温度デ−タを用いてC
PUにより計算することで温度変化による特性変動を補
償するようにしたことを特徴とするイオン測定方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP05095478A JP3112599B2 (ja) | 1993-03-30 | 1993-03-30 | イオンセンサ及びイオン測定方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP05095478A JP3112599B2 (ja) | 1993-03-30 | 1993-03-30 | イオンセンサ及びイオン測定方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06288972A true JPH06288972A (ja) | 1994-10-18 |
JP3112599B2 JP3112599B2 (ja) | 2000-11-27 |
Family
ID=14138734
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP05095478A Expired - Fee Related JP3112599B2 (ja) | 1993-03-30 | 1993-03-30 | イオンセンサ及びイオン測定方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3112599B2 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2002001215A1 (fr) * | 2000-06-29 | 2002-01-03 | Yamatake Corporation | Dispositif a capteur integre et systeme de mesure mettant en oeuvre un tel dispositif |
KR100441663B1 (ko) * | 2001-08-11 | 2004-07-27 | 재단법인 포항산업과학연구원 | 온도센서를 구비한 수소이온농도 측정센서 및 그측정센서를 구비한 수소이온농도 측정장치 |
KR100742843B1 (ko) * | 2001-04-16 | 2007-07-25 | 주식회사 포스코 | 페하측정장치 및 방법 |
CN113049658A (zh) * | 2019-12-26 | 2021-06-29 | 天马日本株式会社 | 离子感测设备 |
US20220205948A1 (en) * | 2019-06-28 | 2022-06-30 | Globalfoundries Singapore Pte. Ltd. | Sensor devices |
-
1993
- 1993-03-30 JP JP05095478A patent/JP3112599B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2002001215A1 (fr) * | 2000-06-29 | 2002-01-03 | Yamatake Corporation | Dispositif a capteur integre et systeme de mesure mettant en oeuvre un tel dispositif |
JP2002014072A (ja) * | 2000-06-29 | 2002-01-18 | Yamatake Corp | 集積化センサ素子及びこれを用いた計測システム |
US6798184B2 (en) | 2000-06-29 | 2004-09-28 | Yamatake Corporation | Integrated sensor device and measuring system using the same |
KR100742843B1 (ko) * | 2001-04-16 | 2007-07-25 | 주식회사 포스코 | 페하측정장치 및 방법 |
KR100441663B1 (ko) * | 2001-08-11 | 2004-07-27 | 재단법인 포항산업과학연구원 | 온도센서를 구비한 수소이온농도 측정센서 및 그측정센서를 구비한 수소이온농도 측정장치 |
US20220205948A1 (en) * | 2019-06-28 | 2022-06-30 | Globalfoundries Singapore Pte. Ltd. | Sensor devices |
US11774402B2 (en) * | 2019-06-28 | 2023-10-03 | Globalfoundries Singapore Pte. Ltd. | Sensor devices |
CN113049658A (zh) * | 2019-12-26 | 2021-06-29 | 天马日本株式会社 | 离子感测设备 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP3112599B2 (ja) | 2000-11-27 |
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