JP3112599B2 - イオンセンサ及びイオン測定方法 - Google Patents

イオンセンサ及びイオン測定方法

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JP3112599B2 JP05095478A JP9547893A JP3112599B2 JP 3112599 B2 JP3112599 B2 JP 3112599B2 JP 05095478 A JP05095478 A JP 05095478A JP 9547893 A JP9547893 A JP 9547893A JP 3112599 B2 JP3112599 B2 JP 3112599B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する分野の説明】本発明は半導体デバイスを
用いたイオンセンサ及びそのイオン測定方法に関するも
のである。
【0002】
【従来技術】イオン感応電界効果トランジスタ(以下I
SFET)の実用上の問題として、溶液の温度変化に対
して、ISFETが温度変化することにより、その出力
電圧が誤差を生じる事である。従来、この解決策とし
て、(1)ISFETのドレイン電流を温度変化のない
ような適当な値に設定するIQ法と呼ばれ (2) る方法、(2)あらかじめ、ドレイン電流をある値に設
定して、そこでのFETの温度係数を製品分布から推定
してある値を決定し、これとダイオ−ドの正方向電圧降
下の温度係数などを用いる温度センサからのデ−タを用
いて、CPUに計算させて結果として温度補償する方法
などがとられていた。
【0003】
【従来技術の問題点】然し乍ら、上記の従来技術は個々
のFETの温度特性にバラツキがあるので(1)では温
度係数がゼロのドレイン電流を個々に測定しなければな
らず、また(2)のようなCPUを用いたISFETの
温度補償は、図1に示すような回路構成で、ISFET
と温度センサとを組み合わせあらかじめドレイン電流を
一定値に決定し、そこでのISFETの温度係数をその
生産分布から見積もった値をCPUにメモりさせ、上記
の温度センサの温度デ−タからすでにメモりされたそれ
ぞれの温度における温度特性曲線からCPUが計算し、
その出力電圧に温度の補正を行うように構成されてい
る。しかし、この方法ではISFETの特性は±0.5
mV/℃くらいのバラツキがあるので、±25℃の温度
変化で、ISFET間で±0.2pHも出力値が変化す
るので測定精度が低かった。したがって、このような方
法ではpH計として0〜50℃の範囲で±0.2pHを
越える精度のpH計を得るのは困難であった。
【0004】
【発明の目的】本発明は、上記の温度補償の問題に簡単
な解決策を与えるものでpH計の測定精度の向上したp
H計の製作に寄与するものである。また、本発明は、従
来のISFETを用いたpH計の測定精度を大幅に向上
させ、0〜50℃の温度変化に対して±0.01〜±0.
1pHを実現しようとするもので、高精度のpH計をI
SFETを用いて実現するのに大きく可能性を開くもの
である。
【0005】
【課題を解決するための本発明の手段】本発明は分離さ
れた島状シリコン内にISFETとMOSFETとダイ
オードをワンチップ化したデバイスのそれぞれに定電流
回路を接続し、定電圧電源からFETのドレインとダイ
オードに一定電圧を供給したソースフォロア回路で、I
SFETとMOSFETのそれぞれのソース電圧の差動
出力と共にダイオードなどの温度センサからの溶液温度
のデータをA/Dコンバータを通してCPUにデータを
送り計算することにより、参照電極の電位とセンサ感度
の温度による誤差を補償することによりpHの測定精度
を向上させたことを特徴とする。
【0006】
【実施例】図2は本発明の一実施例構造を示す断面図
で、1はP型シリコン基体、2はN型領域で前記P型シ
リコン基体1と共にPN接合Jにより分離された島状領
域I1、I2、I3を形成する。次に3、4は夫々島状領
域I1、I2に形成されたソ−ス領域及びドレイン領域で
夫々領域上にソ−ス電極S1、S2及びドレイン電極D
1、D2が形成され、又領域I1のゲ−ト酸化膜5上には
イオン感応膜ISが被着されてイオン感応電界効果トラ
ンジスタISFETを形成し、領域I2のゲ−ト酸化膜
5上には金属又はポリシリコンMを被着しメタルゲ−ト
(MOS)形電界効果トランジスタ(MOSFET)を
形成している。又島状領域I3にはP型拡数領域7及び
N型拡散領域8を設けて温度補償用素子としてのダイオ
−ドDを形成する。
【0007】図3は本発明のイオンセンサを利用したイ
オン測定法を示す回路図で図3では温度補償用ダイオー
ドを除いた例を示す。図3に示すように、同一寸法のI
SFETとMOSFETワンチップ上に配置し、ドレイ
ン電極共通とし、ISFETのソース電極、メタルゲー
トFETのソース電極、メタルゲートの電極の4つの電
極を外部に取りだし、ドレイン電圧、ドレイン電流一定
のソースフォロア回路構成とする。ここで基準電極は内
部液形の銀一塩化銀電極を使用している。この回路でI
SFETとMOSFETのソース電位VSはそれぞれ下
記の式で表される。Erefは参照電極電位で、Vt
1、Vt2はそれぞれFETのしきい値電圧である。I
SFETでは
【数1】又メタルゲート(MOS)では
【数2】但し、Rは気体定数、Tは絶対温度、Fはファ
ラデー定数である。ここで、βはFETの構造に関係す
るもので同一とし、また、両者のドレイン電流を同一
(IS1=IS2)とすると、ISFETとMOSFE
Tのソース電位の差は次式となる。
【数3】また、両者のしきい値電圧の差は一定とする
と、ISFETとMOSFETのソース電位の差の温度
依存性は次式となる。
【数4】
【0008】つまり、ISFETとMOSFETのソ−
ス電位の差動出力電圧の温度特性はpH感度と参照電極
の電位の温度依存性によることが解る。実際、ISFE
Tのソ−ス電位の温度による変化は±25℃で±50m
V〜±60mVも変化する。一方、MOSFETの方も
ア−ス電位に固定されていながら同様の変化をする。し
かし、両者の差はドレイン電流の全領域で温度変化が±
25℃の範囲で±12mVくらいになる。この変化は上
記で説明したように、ISFET単体で構成のときのp
H感度の温度依存性と参照電極の電位の温度依存性が合
わさったものである。以上の原理にもとづき個々のIS
FETの温度特性が違っていてもISFET/メタルゲ
−トFETのペア−をワンチップに配置することにより
温度特性の揃ったFETを作ることができるので、二つ
のFET側の温度変化による出力変化は1/5に再現性
良く低減できる。図4は上記構成で温度を25℃〜50
℃にステップ状に変化させたときの各FETとその差動
出力を比較したもので、温度に対し各センサはすばや (5) く応答している。
【0009】図5はPNPのダブルジャンクションによ
り分離された島状シリコン内にISFETとMOSFE
Tとダイオ−ドをワンチップ化しこのチップ内のISF
ET/MOSFETペアとダイオ−ドのそれぞれに定電
流回路を接続し、定電圧電源からFETのドレインとダ
イオ−ドに一定電圧を供給したソ−スフォロア回路とし
て、ISFETとMOSFETのそれぞれのソ−ス電圧
とダイオ−ドの順方向降下電圧をA/Dコンバ−タを通
してCPUにデ−タを送るように構成する。(3)、
(4)式に示すように、差動出力つまり感応膜の起電力
はpHに比例し、すなわち1pHあたりの発生起電力m
Vは表1に示すように、約0.2mV/℃の感度変化と
なる。
【表1】 一方、一例として、銀一塩化銀電極における電位の温度
依存性は表2のように約0.7mV/℃の値であり、マ
イナスの温度係数を持っている。
【表2】
【0010】一定の工程で製作された銀一塩化銀電極の
温度特性は良く揃ったものが出来るので、製作された銀
一塩化銀電極の代表的な温度特性を求めることにより正
確に参照電極の温度係数を予測できる。上記のこれらの
デ−タをCPUのROMに記憶しておく。ダイオ−ドの
順方向電圧降下の温度係数は約2.0mV/℃であるの
でその順方向電圧降下から温度センサとして利用できる
ので、ISFET/MOSFETペア−と同一チップ上
にあるダイオ−ドの順方向電圧降下をセンシングしてA
/Dコンバ−タを通してCPUに温度デ−タを入れてや
ることにより上記のpH感度の温度係数値である2.3
03RT/Fを決定し、さらに参照電極の温度係数のデ
−タがCPUのROMに入っているのでこれらのデ−タ
から高精度の温度補償ができる。この方法で±25℃の
温度変化に対して±0.01pH (6) のpH測定精度を実現できる。
【0011】
【発明の効果】本発明により、ワンチップで差動構成が
できるので、ペア−特性の良く揃ったFETが製作で
き、組立製作が簡単で、大幅なコスト低減が実現でき
る。また0〜50℃の間で、±0.2pHを上回る精度
を全ての製作されたpH計で実現できることは、測定精
度とその値の信頼性という点でも効果大である。本発明
により、ISFETによるpH測定が、ガラス電極並み
にできるので、従来より小形で安価にpHプロ−ブを製
作できその効果大である。将来この方法が大部分ガラス
電極から置き換えることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】従来の測定方法を示す回路図
【図2】本発明の一実施例構造を示す断面図
【図3】本発明の測定方法を示す構成例図
【図4】本発明による温度変化に対する出力変動を示す
特性図
【図5】本発明の他の測定方法を示す構成例図
【符号の説明】
ISFET イオン感応電界効果トランジスタ MOSFET メタルゲ−ト電界効果トランジスタ D 温度補償用ダイオ−ド I1、I2、I2 島状領域 1 シリコン基体
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G01N 27/414

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】PN接合により夫々分離された複数の島状
    領域を備え、 該第1の島状領域に、ゲート絶縁膜上にイオン感応膜を
    被着したイオン感応電界効果トランジスタ(ISFE
    T)を設け、該第2の島状領域に、ゲート絶縁膜上に金
    属もしくはポリシリコンを被着したMOS電界効果トラ
    ンジスタ(MOSFET)を設け、また、該第3の島状
    領域に温度検出素子を設けると共に該ISFETと該M
    OSFETによりソースフォロア回路を構成し、且つ該
    MOSFETのゲート電極を基準電極と共にアース電位
    もしくは一定電位に接続したことを特徴とするイオンセ
    ンサ。
  2. 【請求項2】PN接合により、夫々分離された複数の島
    状領域を備え、該第1の島状領域に、ゲート絶縁膜上に
    イオン感応膜を被着したイオン感応電界効果トランジス
    タ(ISFET)を設け、該第2の島状領域に、ゲート
    絶縁膜上に金属もしくはポリシリコンを被着したMOS
    電界効果トランジスタ(MOSFET)を設け、また、
    該第3の島状領域に温度検出素子を設けると共に該IS
    FETと該MOSFETによりソースフォロア回路を構
    成し、且つ該MOSFETのゲート電極を内部液形の銀
    ―塩化銀電極と共にアース電位もしくは一定電位に接続
    し、該ISFETとMOSFETの夫々ソース電圧の差
    動出力を取り出すと共に、該ISFETとMOSFET
    の夫々ソース電位の差動出力の温度変化を温度検出デー
    タを用いてCPUにより計算する事で、温度変化による
    特性変動を補正するようにした事を特徴とするイオン測
    定方法。
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