JPS61275254A - N−ホルミルフエニルセリン誘導体およびその製法 - Google Patents

N−ホルミルフエニルセリン誘導体およびその製法

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JPS61275254A
JPS61275254A JP60116484A JP11648485A JPS61275254A JP S61275254 A JPS61275254 A JP S61275254A JP 60116484 A JP60116484 A JP 60116484A JP 11648485 A JP11648485 A JP 11648485A JP S61275254 A JPS61275254 A JP S61275254A
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threo
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竹沢 弘
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晋 中川
Ikuo Matsumoto
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  • Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明により提供される化合物CI)は医薬の分野で有
用な各種の薬理活性を有する化合物。
特にスレオ−3−(3,4−ジヒドロキシフェニル)セ
リン(以下スレオ−DOPSと称ス)を製造する際の合
成中間体として有用である。
従来の技術 スレオ−DOPSおよびその関連化合物は生体内の重要
な生理活性アミンであるカテコールアミン類の前駆体に
なり得るものとされ、またそれ自身循環器系あるいは中
枢神経系に対しである種の薬理作用を有することが知ら
れている(特開昭50−49252号、特開昭54−1
38537号、%開隔56−104815号公報)。ま
たDOP S誘導体を医薬として使用する場合、そのL
−光学活性体がより有用であることが知られている(特
開昭52−125630号、特開昭55−20’i’4
’7号公報)。
従来、スレオ−DOPSおよび近縁誘導体はベンズアル
デヒド類にグリシンを縮合させるErlenmyer法
により製造されてきた((3hem、 Ber。
第52巻1ツ34頁(1919) 、 J、 Am* 
Chem、 Soc。
第76巻1322頁(1954))。またそのL−光学
活性体はスレオ−DOPSのアミン基をベンジルオキシ
カルボニル基で保護した後光学分割し、ついで還元条件
下に該保護基を脱離することによって製造されてきた(
特開昭54−36233号公報)。
発明が解決しようとする問題点 前掲の従来のスレオ−DOPSの製造法について言えば
、高価な原料であるベンズアルデヒド類を過剰に使用す
る点、さらには該製造法によって得られる反応生成物が
スレオ体とエリスロ体との混合物になるためこれらを分
離しなければならない点など、工業的にスレオ体を効率
よくかつ安価に製造するためには、不適合な点があった
。加えて、L−スレオ−DOPSの製造に際しては、ア
ミノ基を保護し、光学分割後。
該アミン基金脱離しなければならないというような煩雑
な操作を必要とする点で、非効率的であった。
以上1本発明は公知の方法によるスレオ−Dops、そ
のL−光学活性体およびその関連化合物の製造法の問題
点を解決しうる。工業的知価値の高い合成中間体および
その製造法を提供するものである。
問題点を解決するための手段 本発明者らはかねてよりDOPSおよびその近縁誘導体
の簡便な製造法を検討していたが。
後記式CI)で表わされるN−ホルミル誘導体が対応す
るアルデヒドとイソシアノ酢酸エステルとの反応および
それに続く部分加水分解により。
高率で、しかも一義的にスレオ体のみとして得られるこ
とを発見した。さらに発明者らは化合物CI)が光学活
性アミンにより容易に光学分割され、しかも、該ホルミ
ル基が緩和な酸性条件下に容易に脱離されることから、
化合物CI)が光学活性スレオ−DOPSの有用な合成
中間体となることを見い出し1本発明を完成させた。
すなわち本発明は、一般式 (式中妃およびR2は同一または異なってもよイ低級ア
ルキル基、低級アルコキシアルキル基。
アラルキル基もしくは両者が互いに連結してメチレン基
を示し R3は水素原子、低級アルキル基またはアラル
キル基を示す)で表わされる新規ナスレオ−N−ホルミ
ルフェニルセリン誘導体およびその製造法を提供するも
のである。
本発明化合物CI)について、さらに詳細に説明すれば
1式中の各記号の定義において低級という語は炭素数1
ないし5個の直鎖または分枝状の炭素鎖を意味する。し
たがって低級アルキル基とはメチル基、エチル基、ルー
グロビル基。
イングロビル基、ループチル基、イソブチル基などを、
また低級アルコキシアルキル基とはメトキシメチル基、
エトキシメチル基などを意味する。またアラルキル基と
は芳香環に任意の置換基を有していてもよいベンジル基
、フエネチル基もしくはナフチルメチル基などであ°る
本発明により提供される一般式〔I〕の化合物の具体例
を挙げれば以下のものがあげられる。
(1)スレオ−N−ホルミル−3−(、z 4−:/ベ
ンジルオキシフェニル)セリン (2)スレオ−N−ホルミル−3−(3,4−ジベンジ
ルオキシフェニル)セリン メチルエステル (3)スレオ−N−ホルミル−3−(3,4−ジベンジ
ルオキシフェニル)セリン エチルエステル (4)スレオ−N−ホルミル−3−(@4−ジベンジル
オキシフェニル)セリン ベンジルエステル (5)スレオ−N−ホルミル−3−(、z4−ジメトキ
シフェニル)セリン (6)スレオ−N−ホルミル−3−(54−ジメトキシ
フェニル)セリン メチルエステル(7)スレオ−N−
ホルミル−3−(3,4−ジメトキシフェニル)セリン
 エチルエステル(8)スレオ−N−ホルミル−3−(
54−ジメトキシメチルオキシフェニル)セリン (9)スレオ−N−ホルミル−3−(3,4−ジメトキ
シメチルオキシフェニル)セリン メチルエステル aリスレオ−N−ホルミル−3−(:44−ジメトキシ
メチルオキシフェニル)セリン エチルエステル 復υスレオーN−ホルミル−3−(3−メトキシ−4−
ベンジルオキシフェニル)セリン亀−スレオーN−ホル
ミル−3−(3−メトキシ−4−ベンジルオキシフェニ
ル)セリン メチルエステル 復jスレオーN−ホルミル−3−(3−メトキシ−4−
ベンジルオキ、ジフェニル)セリン エチルエステル α4スレオ−N−ホルミル−3−(3−メトキシ−4−
ベンジルオキシフェニル)センソ ベンジルエステル 舖スレオーN−ホルミル−3−(,1!、4−メチレン
ジオキシフェニル)セリン α0スレオ−N−ホルミル−3−(54−メチレンジオ
キシフェニル)セリン メチルエステル allスレオ−N−ホルミル−3−(@4−メチレンジ
オキシフェニル)セリン エチルエステル ただし9本発明はこれらの代表例により限定されるもの
ではない。また1式〔I〕で表わされる化合物は光学活
性体あるいは之セミ体として存在することができ9本発
明はこれら光学異性体の全てを包含する。
本発明によれば一般式CI)の化合物は次の方法により
製造される。すなわち、一般式(式中R1およびR2は
前記の意味を有する)で表わされるアルデヒドと一般式 %式% (式中Rは低級アルキル基またはアラルキル基を示す)
で表わされるインシアノ酢酸エステルとを塩基の存在下
に反応させ1次いで部分加水分解することにより式〔工
〕のN−ホルミル体が得られる。
本発明の第一工程の反応は9通常適当な溶媒中塩基の存
在下に実施され、その際使用される塩基としては水素化
ナトリウムなどの金属アルカリ、ナトリウムメトキシド
、ナトリウムエトキシドなどの金属アルコキシド、水酸
化ナトリウム、水酸化カリウムなどの水酸化アルカリ。
シアン化ナトリウム、シアン化カリウムなどのシアン化
アルカリ、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどの炭酸ア
ルカリあるいはトリエチルアミン、λ8−ジアザビシク
ロ(5,4,O)  ウンデセンなどの有機アミン類な
どを挙げることができる。また、溶媒としては例えばメ
タノール。
エタノールの如き低級アルカノール、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、ジメチルホルムアミド、ベンゼンなど
が適責使用される。反応温度および反応時間は特に限定
されないが、生成物の安定性などを考慮し、好ましくは
一2Orないし50C付近、05ないし20時間である
上記の反応で生成した縮合成績体は単離精製後または単
離精製せずに次工程の加水分解に供せられる。すなわち
単離せずに加水分解を実施するには、前工程の反応液あ
るいは溶媒留去後の残留物を例えば水、含水メタノール
、含水エタノール、含水アセトンなどの適当な溶媒に混
和し、これに塩酸、硫酸などの鉱酸、あるいはギ酸、酢
酸などの有機酸を作用させる。また単離精製して加水分
解を行なう場合は、前工程の反応液から1例えば溶媒留
去後の抽出あるいは再結晶などの普通の分離手段により
、一般式(式中妃、几2および几は前記の意味を有する
)で表わされる2−オキサゾリン−4−カルボン酸エス
テル体を単離し、これを前記と同様な酸性条件下で加水
分解を行なえばよい。なお、加水分解反応の際、同時に
エステル部分の加水分解を行なうことができ、この場合
には9例えば縮合生成物に始めた含水溶媒中で水酸化ア
ルカリを作用させ9次いで酸によりオキサゾリン環を開
環させるなどの方法が取られる。
かくして生成した目的化合物CI)は1例えば濃縮、抽
出、カラムクロマト、再結晶等の通常の分離手段により
適宜取得される。
ところで本発明化合物CI)に見られるようなN−アシ
ル型フェニルセリン誘導体の加水分解によるアシル基の
除去は、そのもの自身あるいは生成物が脱離条件下に不
安定であるため困難とされており、このため、アミン基
の保護基としてアシル基を選択する場合には、還元条件
下に除去が可能なベンジルオキシカルボニル基などを選
ぶ必要があった。しかし上記反応により得られる式〔I
〕の化合物のホルミル基は塩酸。
硫酸等の鉱酸あるいはp−)ルエンスルホン酸。
トリフルオロメタンスルホン酸等の有機酸の存在下、加
水分解により容易に脱離可能である。
この反応は、一般に希薄な酸の存在下、0ないし50C
,lないし10時間という緩和な条件下に実施されるた
め、不安定な置換基等の存在にもかかわらず、目的のア
ミン体の収量は通常きわめて良好である。
また式〔I〕の化合物の中でR3=Hのカルボン酸は、
窒素がアシル化されたアミノ酸であるため、光学活性ア
ミンとジアステレオマーの塩を形成し、その結果、光学
分割の基質として利用することができる。本化合物を中
間体とする光学分割法は、目的のアミノ酸を一且アシル
化後光学分割し1次いで脱アシル化する従来法に比べて
非常に効率的であり、その後の脱アシル化が容易なこと
を考慮すれば光学活性スレオ−DOPSの経済的かつ工
業的製法を提供するものである。
作用 一般式〔■〕で表わされる適当なベンズアルデヒド誘導
体と、一般式(nI)で表わされるインシアノ酢酸エス
テルとを反応させ、ついで部分加水分解を施すことによ
り、一般式〔工〕で表わされる本発明の化合物のスレオ
体が特異的に高収率で得られる。さらに、この化合物の
光学分割およびホルミル基の脱離は容易におこなえるた
め、医薬として有用なスレオ−DOPSのL−光学活性
体が高収率で得られる。
実施例 以下に実施例および参考例を挙げ9本発明を具体的に説
明する。
実施例1 イソシアノ酢酸メチルエステル311gをベンゼンl 
OOmgに溶解し、5〜10Cで冷却攪拌下50チ水素
化ナトリウム030g1次いで5分後に3.4−ジベン
ジルオキシベンズアルデヒド1aogを加える。室温で
2時間攪拌後50%水素化ナトリウム024Iを追加し
、さらに3時間攪拌を続ける。
水冷後攪拌下に酢酸15rttlを滴下し9次いでメタ
ノール30rnlを加えて減圧下に溶媒を留去する。残
渣を含水メタノールから再結晶すると。
スレオ−N−ホルミル−3−(a4−ジベンジルオキシ
フェニル)セリンメチルエステル108g(収率7QO
%)mp150〜152cが得られる。
1590、127O NMRδ(d6−0M80 ) :359 (3H9s
 ) 、455 (L H、d −d 。
J=alHz、 2.8H2)、 a05 (LH。
b「+ ’ ) + a05 (4HI s ) 、 
a80−’220 (3H,m)、 ’237 (IO
H,s)。
792 (IH,S )、 a27(LH,d、 J=
aIHz) 上記で得られたスレオ−N−ホルミル−3−(a4−ジ
ベンジルオキシフェニル)セリンメチルエステル4oo
gをジオキサン4omlに懸濁し、室温攪拌下2N水酸
化ナトIJウム水溶液a Orulを加えて1時間半攪
拌を続ける。
反応終了後酢酸1ornlを加えて酸性、とし、減圧留
去後残渣を含水アセトンから再結晶すると。
スレオ−N−ホルミル−3−(zc−ジベンジルオキシ
フェニル)セリフ268g(収率74.2%)mp16
8〜1ツ0C(dec、)が得られる。
1535、1265.’1030゜ NMRδ(d6−DMSO) :4.54 (LH,d
、 d、 J=Q4Hz、 2.81(z)、 al 
(LH,m)、 alo (4H。
s )、 a9−j24 (3H,m)、 739 (
10H,S)、 q99(lH,s)、al9(LH,
d、 J−’24Hz) 実施例2 エタノール30mA!にイソシアノ酢酸エチルエステル
L13.pトQ 4− ジベンジルオキシベンズアルデ
ヒドS18.9を懸濁し、シアン化ナトリウムQO’7
gを加えて室温で5時間反応させる。
水冷攪拌下に酢酸10m1を滴下し1次いで1時間後に
水10I!llを加えて氷室に一夜放置する。
析出晶を戸数し、結晶を含水エタノールで洗浄後乾燥す
ると、スレオ−N−ホルミル−3−(3,4−ジベンジ
ルオキシフェニル)セリンエチルエステルa’86 g
(収率8aO%)mp156A−157Cが得られる。
1605、159O NMRδ(d6−DMSO) :L16 (3H,t、
 J=’/Hz)、 4.10(2H,q、 J:=7
H2)、 456 (LH。
d、 d、 J=41Hz、 85Hz)、 all(
4H,S ) 、 a80 (IH,d、 J=4Hz
)a9. ’23(3H,m)、 ’240 (IOH
s )、 aoo (LH,s )、 a82 (IH
,d。
J=a5Hz) 実施例3 a4−ジベンジルオキシベンズアルデヒドQ96Iとイ
ソシアノ酢酸エチルエステル034gをエタノール10
麻に懸濁し、譬この中にシアン化ナトリウム002gを
添加して室温で3時間攪拌する。
減圧下にエタノールを留去し、残漬を酢酸エチルだ溶解
後水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥する。乾燥剤を戸
別後減圧下に酢酸エチルを留去すると、5−(3,4−
ジベンジルオキシフx 二/J/ ) −4−エトキシ
カルボニル−2−オキサゾリンが淡黄色の油状物として
得られる。
26O NMRδ(CDCl2)  :L28 (3H,t、 
J=7H2)、 4.19(2H,q、 J=7Hz)
、個、4 (IH。
d、 d、 J=2.2Hz、 79H2)、 a30
(4H,S)、 a47 (lH,d、 J=’29H
2>、 a91 (LH,d、 J=2.2H2)。
a8−’!3 (3H,m)、 ’225(IOH,s
)上記で得られたオキサゾリン体をエタノール30mA
!に溶解し、酢酸5 rnlおよび水10tulを加え
て氷室に一夜放置する。
析出晶を戸数し、含水エタノールで洗浄後乾燥すると、
実施例2で得られた化合物114g(収率84.0 %
 ) mp 156〜157Cが得られる。
実施例4 イノシアノ酢酸エチルエステル250.!i’t’Jl
kベンゼン50I111に溶解し、氷冷攪拌下50チ水
素化ナトリウム021g、次いでへ4−ジメトキシメチ
ルオキシベンズアルデヒドaoogを加えて室温で4時
間攪拌する。
酢酸10!!tlおよびエタノール1Otrtlf加、
tて1時間攪拌後、溶媒を減圧留去し、残渣を含水エタ
ノールから再結晶すると、スレオ−N−ホルミル−3−
(3,4−ジメトキシメチルオキシフェニル)セリンエ
チルエステルa37!!(収率42.”/ % )mp
 136〜138Cが得られる。
KBr   −+ IRLl   にq   :3350−2825.17
25.1655゜ax 1515.1475.144O NMRδ(d6−DMSO) :Ll4 (3H,t、
 J=’20Hz)、 a35(6H,s)、 4.0
4 (2H,r、 J=’201−1z)、4.46 
(IH,d、d、J:49H2゜84Hz)、4.9’
7 (IH,d、J=X9Hz)。
a09 (4H,s)、a9−’21 (3)!、m)
?88(LH,s)、822(LH,d、J=84Hz
) 実施例5 ピペロナール135g、イソシアノ酢酸エチルエステル
′L13gおよびシアン化ナトリウムC106gfエタ
ノール15xJに加え、室温で3時間攪拌する。
反応後に攪拌下酢酸3 mlおよび水10dを加え氷室
に一夜放置すると結晶が析出する。
生成物を戸数し、エタノールで洗浄後乾燥すると、スレ
オ−N−ホルミル3−(54−メチレンジオキシフェニ
ル)セリンエチルエステル175g(収率69.2 %
 ) mp 136〜138 Cが得られる。
KBr   −1 1几 1/    c17!    :33B0,32
50,1730,1660゜aX 1500、1260.1010 3ONδ(d6−DMSO):Ll6(3H,t、J=
’20H2)、411(2H,t、J=’20H2)、
450(LH。
d、d、J=lOHz、X0Hz)、a03(LH,t
、J=、aO)lz)、aso(LH。
d、 J==aOHz) 、 a95 (21(、s 
)。
a80(2H,s)、a94(IH,s)。
796 (IH,S)、a29(LH,d、J=lOH
z) 上記エステル体α54Iをジオキサン8 mlに加え、
室温撹拌下に2N水酸化ナトリウムLlrttlを滴下
後3時間攪拌を続け、る。
反応終了後酢酸1 mlを加えて酸性とし、減圧濃縮後
残渣を含水アセトンから再結晶すると。
スレオ−N−ホルミル−3−(314−メチレンジオキ
シフェニル)セリンa3zj;l  (収率6as%)
 mp  187〜189 C(dec、 )が得られ
る。
KBr   −1 ■几 v    cm    :3560,325+0
.2975,1660゜ax 1620.1400.1265 NMRδ(d6−DMSO) :4.29 (’ll−
1,d、 d、’J=10Hz、 X0Hz)、4.9
9 (LH,d、J=40Hz)。
a95(2H,s)、a76 (2H,s)。
a89 (LH,s)、 ’235 (IH,br、s
)。
76’7(LH,d、J=lOHz)、796(LH,
s) 実施例6 実施例1の44−ジベンジルオキシベンズアルデヒドに
代えて4−ベンジルオキシ−3−メトキシベンズアルデ
ヒド242gを用い、他は実施例1と同様に処理すると
、スレオ−N−ホルミル−3−(4−ベンジルオキシ−
3−メトキシフェニル)セリンメチルエステル2.37
g(収率6ao%)mp 130〜132Cが得られる
IHvKBrc;’  :3360.3240. l−
735,1660゜ax 1500、1255 NM几 δ(d 6−DMSO)”:!−60 (3H
、s ) l ’!−77(3H、s ) 。
435 (LH,d、 d、 J=QOHz、 aOH
z)。
alo (LH,m)、 a04 (2H,s )。
a95 (2H,S)、 706 (IH,S)。
ツ36 (5H,s )、 ’291 (IH,s)。
a23 (LH,d、 J=9.0I4Z )参考例1 実施例1で得られたスレオ−N−ホルミル−3−(Q4
−ジベンジルオキシフェニル)セリンメチルエステル5
00gをジオキサン50Jと2N水酸化ナトリウム水溶
液7 mlに懸濁し。
水冷下1時間攪拌する。
反応液に3N塩酸50m1を加えて50Cの水浴上3時
間加熱し9次いで減圧下に溶媒を留去する。残渣を熱エ
タノール50tnlで2回抽出し。
抽出物を活性炭で処理後、1日チ塩化水素−エタノール
20m1を加えて一夜氷室に放置する。
析出晶t F取し、結晶をエタノールで洗浄後乾燥する
と、スレオ−3−(314−ジベンジルオキシフェニル
)セリン塩酸塩386g(収率’782%) mp 1
56〜158 C(dec、 )が得られる。
参考例2 実施例1で得られたスレオ−N−ホルミル−3−(3,
4−ジベンジルオキシフェニル)セリンメチルエステル
400gをジオキサン4omlと3N塩酸40ゴの混液
に溶解し、40Cの水浴上10時間加温する。
減圧下に溶液を留去し、残渣を含水メタノールから再結
晶すると、スレオ−3−(3,4−ジベンジルオキシフ
ェニル)セリンメチルエステル塩酸塩xs5g(収率9
49チ)mp14Bへ151 C(dec、 )が得ら
れる。
参考例3 実施例3で得られたスレオ−N−ホルミル−3−(3,
4−ジベンジルオキシフェニル)セリン2.logをエ
タノール80R1に加熱溶解し。
この中にエタノール8dに溶解したt−工7ニドリン0
48gを加えて氷室に一夜放置する。
析出品ヲ戸数し、エタノールで洗浄後乾燥すると、t−
スレオ−N−ホルミル−3−(44−ジベンジルオキシ
フェニル)セリンのt−エフェドリン塩L26 i 、
mp 152〜155C(dec、)が得られる。
上記で得られたエフェドリン塩を30倍量の酢酸エチル
に懸濁し、水冷下に10倍量の2N塩酸を加えて液が透
明になるまで攪拌する。
酢酸エチル層を分取し、水洗後無水硫酸ナトリウムで乾
燥する。減圧下に溶媒を留去し、残渣をルーへキサンか
ら再結晶すると、t−スレオ−N−ホルミル−3−(@
4−ジベンジルオキシフェニル)セリンQ83.9(収
13Q5%)キサン、0=LO)が得られる。
KBr   −1 1Rνcm   :3300−2900. l’760
.1625゜r”+ax 1535、1450.13B0.1250゜14O NM几 δ(d6−DMSO):4.52 (IH,d
、d、J=9.5Hz、aOHz)。
505 (IH,m)、 alo (4H,s )。
a9−75 (3H,m)、 739 (IOH,S)
’i!9B (LH,s )、 a19 (LH,d。
J=Q5Hz) 上記のt−ホルミル体152gをジオキサンr 5 m
7!と3N塩酸15mA!Ic懸濁し、40Cで3時間
加温攪拌する。
溶媒を減圧留去し、残渣を熱エタノール15m1で2回
抽出後、抽出液を合わせ活性炭処理する。
活性炭をP去後、P液をLoadまで濃縮し、35チ塩
酸15m1を添加して氷室に一夜放置する。
析出晶を戸数し、含水エタノールで洗浄後乾燥すると、
d−3−(54−ジベンジルオキシフェニル)セリン塩
酸塩L 359 (収率s 7%)mp 146=14
8 C(dec、 ) (α)D=+55 (0=LO
Et−OHII )が得られる。
上記のd−アミノ酸α88gをジオキサン10rttl
と水5 mlの混液に溶解し、水冷攪拌下戻酸水素ナト
リウムを加えてpHx5に調整する。
沈殿する遊離アミノ酸を戸数し、乾燥後酢酸1OIrL
l!とメタノール10WLlの混液に溶かし。
5%Pd−0α1gの存在下常圧で3時間接触還元する
触媒をF別後、溶媒を減圧留去し、残渣を含水メタノー
ルから再結晶すると、d−スレオ−3−(5*−ジヒド
ロキシフェニル)セリン030g(収率81 % ) 
mp 230〜232C(dec、)参考例4 を−エフェドリンに代えてd−エフェドリンを使用し、
他は参考例3と同様な処理を行なうと、t−スレオ−3
−(S4−ジヒドロキシフエニル)セリンmp 22’
7〜229C(dec−)  (α〕D−421°((
3=LO、IN HCt)が得られる。
参考例5 実施例6で得られたスレオ−N−ホルミル−3−(4−
ベンジルオキシ−3−メトキシフェニル)セリンメチル
エステル2.15gをジオキサン25tnlに懸濁し、
水冷攪拌下2N水酸化ナトリウム水溶液:5zrnlを
加えて45分間攪拌すると透明な溶液が得られる。この
液に3N塩酸z8rnlを加えて50Cの水浴上3時間
加温し。
次いで反応液を減圧下に〜10rrtlまで濃縮後。
濃縮液を活性炭処理する。2N水酸化ナトリウムでpH
4,5に調整後、析出晶を戸数し、水およびメタノール
で洗浄後乾燥すると、スレオ−3−(4−ベンジルオキ
シ−3−メトキシフェニル)セリンL51,9’(収率
7Q5%)mp160〜162Cが得られる。
発明の効果 本発明の合成中間体を経由する製造法により医薬として
有用なL−スレオ−DOPSおよびそれらの近縁誘導体
を・、工業的に安価で、かつ大量に製造できるので1本
発明は、L−スレオ−DOPS類の医薬としての利用面
で多大なる貢献をなすものである。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼〔 I 〕 (式中R^1およびR^2は同一または異なつてもよい
    低級アルキル基、低級アルコキシアルキル基、アラルキ
    ル基もしくは両者が互いに連結してメチレン基を示し、
    R^3は水素原子、低級アルキル基またはアラルキル基
    を示す)で表わされるスレオ−N−ホルミルフェニルセ
    リン誘導体。
  2. (2)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼〔II〕 (式中R^1およびR^2は同一または異なつてもよい
    低級アルキル基、低級アルコキシアルキル基、アラルキ
    ル基もしくは両者が互いに連結してメチレン基を示す)
    で表わされるアルデヒドと、一般式 CN−CH_2−COOR〔III〕 (式中Rは低級アルキル基またはアラルキル基を示す)
    で表わされるイソシアノ酢酸エステルとを塩基の存在下
    に反応させ、ついで部分加水分解することを特徴とする
    一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼〔 I 〕 (式中R^1およびR^2は前記の意味を有し、R^3
    は水素原子、低級アルキル基またはアラルキル基を示す
    )で表わされるスレオ−N−ホルミルフェニルセリン誘
    導体の製法。
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