JPS61272362A - 成形型の製作方法 - Google Patents
成形型の製作方法Info
- Publication number
- JPS61272362A JPS61272362A JP11402485A JP11402485A JPS61272362A JP S61272362 A JPS61272362 A JP S61272362A JP 11402485 A JP11402485 A JP 11402485A JP 11402485 A JP11402485 A JP 11402485A JP S61272362 A JPS61272362 A JP S61272362A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- tool
- molding tool
- nitrogen
- mold
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C33/00—Moulds or cores; Details thereof or accessories therefor
- B29C33/56—Coatings, e.g. enameled or galvanised; Releasing, lubricating or separating agents
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
- Solid-Phase Diffusion Into Metallic Material Surfaces (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
この発明はニッケル、アルミニウムまたは黄銅よりなる
成形型表面を窒化、酸化または炭化処理して耐久性向上
および型表面と被成形体との親和性を低減して被成形の
離型性の向上を実現した層形型の製作方法に関する。
成形型表面を窒化、酸化または炭化処理して耐久性向上
および型表面と被成形体との親和性を低減して被成形の
離型性の向上を実現した層形型の製作方法に関する。
晋またはビデオディスク用成形麿は表面形状が微Ｍ、ｆ
ｆ！な凹凸からなり、その製作法は複雑で市価であり、
またその′＃４我材質がニッケルメッキであることに由
来して耐久性が低く、ポリカーボネー）Ｉｆｔ脂やアク
リル１１腫の射出成形型では耐用＠度は約１００００シ
１ツトでありその耐久性向上が望まれている。また投射
形テレビジ胃ン用スクリーン既形型はアルミニウム合！
。
ｆ！な凹凸からなり、その製作法は複雑で市価であり、
またその′＃４我材質がニッケルメッキであることに由
来して耐久性が低く、ポリカーボネー）Ｉｆｔ脂やアク
リル１１腫の射出成形型では耐用＠度は約１００００シ
１ツトでありその耐久性向上が望まれている。また投射
形テレビジ胃ン用スクリーン既形型はアルミニウム合！
。
銅、ステンレス鋼などな切削してつくるが、製表面は微
細、稽密な凹凸からＴｘ ｒ）高価であるが、ポリカー
ボネート衛脂、アクリル樹脂の押出成形またはＭ樹力ｙ
Ｉ叡のプレス成形における討用隈直が低く、ここでも上
記したディスク成形型とＩＷｉ＠に耐久性の向上が望ま
れ℃いる。
細、稽密な凹凸からＴｘ ｒ）高価であるが、ポリカー
ボネート衛脂、アクリル樹脂の押出成形またはＭ樹力ｙ
Ｉ叡のプレス成形における討用隈直が低く、ここでも上
記したディスク成形型とＩＷｉ＠に耐久性の向上が望ま
れ℃いる。
上ＨＣシた状況に対応するために、％囲昭５８−８９３
１６号に見るよプにｉｌ！索雰囲気下で元系周期表第４
族、第５族または第６展の遷移性金属をスパッタして成
形製表面に該金属と′Ｍｉ索との化合物属を形成する１
氏または籍開昭５８−１５８０５７号に見るよ５にニッ
ケルメッキよりなる成形型表面にアルミニウムまた（ニ
クロムのＸ空蒸漕展を形成し、ｆｉＩ恢温腿３００℃で
５〜６時間加熱−焼鈍し、次いでアンモニアガス雰曲気
下において、温７ｉ ４００〜５００℃で５０ｆＩＦＰ
間加熱してアルミニウムまたはクロムの鼠化物狭を形成
する方法がとられている。
１６号に見るよプにｉｌ！索雰囲気下で元系周期表第４
族、第５族または第６展の遷移性金属をスパッタして成
形製表面に該金属と′Ｍｉ索との化合物属を形成する１
氏または籍開昭５８−１５８０５７号に見るよ５にニッ
ケルメッキよりなる成形型表面にアルミニウムまた（ニ
クロムのＸ空蒸漕展を形成し、ｆｉＩ恢温腿３００℃で
５〜６時間加熱−焼鈍し、次いでアンモニアガス雰曲気
下において、温７ｉ ４００〜５００℃で５０ｆＩＦＰ
間加熱してアルミニウムまたはクロムの鼠化物狭を形成
する方法がとられている。
ここで特開昭５８−８９５１９号では、第５図に示す手
順によって成形微表面に灰層している。スパッタリング
粒子は他の真貨蒸着の蒸発粒子に比べて７１ｔｌ逮され
てい’１ｍ［通性が強（、図に見るよ５にスパッタ粒子
の飛来方向に対して水平面と無！１］［１とでは戟属比
か異な９泰直向襄厚よりも水平圓換厚の方が土＠的に大
きい。また実施ガにあるよ５に被換する成形型に貝蒐位
を加えるとスパッタ粒子の飛来が７１１１速されてＪｆ
ｊ！、ｍ速度は大きくなるが、同時に上記した水平面と
垂直画人々の層厚の相違が増丁。これは微細で楕缶な凹
凸面の形状や寸法の変動が増して法定形状。
順によって成形微表面に灰層している。スパッタリング
粒子は他の真貨蒸着の蒸発粒子に比べて７１ｔｌ逮され
てい’１ｍ［通性が強（、図に見るよ５にスパッタ粒子
の飛来方向に対して水平面と無！１］［１とでは戟属比
か異な９泰直向襄厚よりも水平圓換厚の方が土＠的に大
きい。また実施ガにあるよ５に被換する成形型に貝蒐位
を加えるとスパッタ粒子の飛来が７１１１速されてＪｆ
ｊ！、ｍ速度は大きくなるが、同時に上記した水平面と
垂直画人々の層厚の相違が増丁。これは微細で楕缶な凹
凸面の形状や寸法の変動が増して法定形状。
寸法の保持′４ｒ：擢しくする。また特開昭５８−１５
８０５７号では焼鈍処理でニッケルメッキ内のメッキに
白米して生じた円部応力ｔ−解いているが、誂ｌ１ｌｌ
ｌｌ温良よりも支に１００〜２００℃高温の輩化処塩は
アルミニウムまたはりａム換の形成Ｉ］ｉｏをばく蕗す
るこ乙になり、メッキ増のｍ鈍効果を上回る変形を促丁
。
８０５７号では焼鈍処理でニッケルメッキ内のメッキに
白米して生じた円部応力ｔ−解いているが、誂ｌ１ｌｌ
ｌｌ温良よりも支に１００〜２００℃高温の輩化処塩は
アルミニウムまたはりａム換の形成Ｉ］ｉｏをばく蕗す
るこ乙になり、メッキ増のｍ鈍効果を上回る変形を促丁
。
この発明では、上記した従来技術における絃昧ｌ＠を含
まない簡易な方法、ａちガスプラズマによる成形ｍ、衣
表面イオン化処理によって成形型を強固にする強靭化処
理の方法およびその処理によって得た強靭化底形ｍを提
供する。
まない簡易な方法、ａちガスプラズマによる成形ｍ、衣
表面イオン化処理によって成形型を強固にする強靭化処
理の方法およびその処理によって得た強靭化底形ｍを提
供する。
元ディスク成形のニッケルメッキ緘表面の硬さく Ｈｘ
ｒ ）は２００ｋｔｙ’ｍｒｎ”ｓ ｆｆ１ｉ＃ス／
！Ｊ ：／ａ形（Ｄアルミｓ−ラムｔｉｌＯ）表＠硬
さは１５０１ｍ２であり耐久性同上、また該象ＩＩ４面
はディスク、レンズを構成する１ｔＪｌｌｉｉとの何層
性が良（成形品の１１１ｋ思性を損ねていて、この改質
が必要となっている。
ｒ ）は２００ｋｔｙ’ｍｒｎ”ｓ ｆｆ１ｉ＃ス／
！Ｊ ：／ａ形（Ｄアルミｓ−ラムｔｉｌＯ）表＠硬
さは１５０１ｍ２であり耐久性同上、また該象ＩＩ４面
はディスク、レンズを構成する１ｔＪｌｌｉｉとの何層
性が良（成形品の１１１ｋ思性を損ねていて、この改質
が必要となっている。
この発明ではガスプラズマ下に成形微表面をばく庵する
ことによって、域捩圓から内部に向かって戯楕成金属の
イオン化された鳩を形属し漠靭化した成形ｍを優る。
ことによって、域捩圓から内部に向かって戯楕成金属の
イオン化された鳩を形属し漠靭化した成形ｍを優る。
ここでは先ず発明のｔＬ点を摘出して全容を示し、枕い
て’ＸＭ例によって具体的条件を示した。
て’ＸＭ例によって具体的条件を示した。
第１因には高周波励起ガスプラズマ処理装置の構成の要
点を儀式的に示している。ここで成形ｍｄＮえは、元デ
ィスク成形用のニッケルスタンバを基７ｒＲ珠持具７に
取付け、真空槽８を閉じ排気糸９を駆動して真空槽８円
圧力を５Ｘ１０−’Ｔｏｕｕ以下に減じる。そして流電
可変ｆｉ気弁１ｏを囲き次定のガス、例えはアンモニヤ
カスを所定圧力、例えば５ Ｘ １０−”Ｉ’ｏｕｕま
で通じ、ここで高周数１１Ｌ綜１１ｉ−励して高周数励
起コイル１２に電位ｔか１する。これによりて励起コイ
ル１２の電界内にあるアンモニヤガスは励起して１Ｊ１
！する。
点を儀式的に示している。ここで成形ｍｄＮえは、元デ
ィスク成形用のニッケルスタンバを基７ｒＲ珠持具７に
取付け、真空槽８を閉じ排気糸９を駆動して真空槽８円
圧力を５Ｘ１０−’Ｔｏｕｕ以下に減じる。そして流電
可変ｆｉ気弁１ｏを囲き次定のガス、例えはアンモニヤ
カスを所定圧力、例えば５ Ｘ １０−”Ｉ’ｏｕｕま
で通じ、ここで高周数１１Ｌ綜１１ｉ−励して高周数励
起コイル１２に電位ｔか１する。これによりて励起コイ
ル１２の電界内にあるアンモニヤガスは励起して１Ｊ１
！する。
なＳここで麺仮刀Ω運用直流域諏１３を動作させて基板
にス（位を加える。これにより１碁板面はアン七エヤの
電離で性成した輩木、水木のイオン、活性種に叩かれて
基板表面から内部に向けて電木イオンの置ｉ！１．拡散
が堰み基仮檜成金属の輩化層が形成される。
にス（位を加える。これにより１碁板面はアン七エヤの
電離で性成した輩木、水木のイオン、活性種に叩かれて
基板表面から内部に向けて電木イオンの置ｉ！１．拡散
が堰み基仮檜成金属の輩化層が形成される。
なお、ここで着板面上に他物買による換の形成は燕（、
かつガスプラズマ下に基板表面がばく嬉されるので圓形
状や寸法の大小にかかわらずイオン、活性種の浸透、拡
散の速度は一足であり、浸透−拡散層は各部一様に形成
され表面あうさの増大、形状や寸法の変化は生じない。
かつガスプラズマ下に基板表面がばく嬉されるので圓形
状や寸法の大小にかかわらずイオン、活性種の浸透、拡
散の速度は一足であり、浸透−拡散層は各部一様に形成
され表面あうさの増大、形状や寸法の変化は生じない。
以下、夾ｇ？ｉｌ＜よって詳細な示す。
実施例を
第１図に示した！ｆ［Ｋよりて、元テ゛イスク成形用ニ
ッケルスタンバ６を基板保持具７に取付け、排気糸９′
１に駆動して真全捕８内圧力を２×１０−’ Ｉ’ｏｕ
ｕ Ｋ諷じ、ここに通気弁１０を軸て真空槽８円圧力が
５ Ｘ １０−”Ｔｏｙνになるまでアンモニヤガスｖ
ｍじ、そして高周波１ｇ＄１１の出力が５００ワツトで
尚周数励起コイル１２に電位を加えてアンモニヤガスを
励起してプラズマ化した。ここで１ｍ８コイル１２は直
径５ｍｍのステンレス鋼管を棉旋状に巻いたものであり
、裏旋径は２Ｑｃｍ、ピッチ±５ｃｍ 、巻数＝７＃全
局さ＝約２０Ｃ肩であり一コイル頂上と基板との間隔は
約５ｃｒｎであって基板面はカスの励起発光域の中にあ
った。
ッケルスタンバ６を基板保持具７に取付け、排気糸９′
１に駆動して真全捕８内圧力を２×１０−’ Ｉ’ｏｕ
ｕ Ｋ諷じ、ここに通気弁１０を軸て真空槽８円圧力が
５ Ｘ １０−”Ｔｏｙνになるまでアンモニヤガスｖ
ｍじ、そして高周波１ｇ＄１１の出力が５００ワツトで
尚周数励起コイル１２に電位を加えてアンモニヤガスを
励起してプラズマ化した。ここで１ｍ８コイル１２は直
径５ｍｍのステンレス鋼管を棉旋状に巻いたものであり
、裏旋径は２Ｑｃｍ、ピッチ±５ｃｍ 、巻数＝７＃全
局さ＝約２０Ｃ肩であり一コイル頂上と基板との間隔は
約５ｃｒｎであって基板面はカスの励起発光域の中にあ
った。
かくして８０分間保って基板面に鼠累な浸透、拡散した
。ここで得た基板の断面状況を顕微鏡拡大して第２図に
示した。窒素の浸透、拡散による硬化層の深さは表面か
ら内部に向けて約１μｍであった。また、表面硬さく
ｆｌｙ ）は１５６０ｋＩＩ１５Ｘかにまで硬化され、
基板圓温腿を１５０℃に保って、その面上に２５０℃で
溶かしたアクリル樹ＨＦＩ ｔ’ ＠下した時の接触角
は、ニッケルスタンノく面６０度であったものが、電化
層形底口では９０〜１００皮く減じていた。
。ここで得た基板の断面状況を顕微鏡拡大して第２図に
示した。窒素の浸透、拡散による硬化層の深さは表面か
ら内部に向けて約１μｍであった。また、表面硬さく
ｆｌｙ ）は１５６０ｋＩＩ１５Ｘかにまで硬化され、
基板圓温腿を１５０℃に保って、その面上に２５０℃で
溶かしたアクリル樹ＨＦＩ ｔ’ ＠下した時の接触角
は、ニッケルスタンノく面６０度であったものが、電化
層形底口では９０〜１００皮く減じていた。
実施例２
笑ｍ例１とｌ１ｔｌ操作、同条件で基板な投射形テレビ
ジ冒ン映像スクリーン成形虚とｌＷＩ材質のアルｉ二９
ム合金にかえ、この表口をアンモニヤガスプラズマ内Ｋ
１２０分間は（膳した。
ジ冒ン映像スクリーン成形虚とｌＷＩ材質のアルｉ二９
ム合金にかえ、この表口をアンモニヤガスプラズマ内Ｋ
１２０分間は（膳した。
輩１ｔＳ層の深さは約１２μ−１硬さは１１００ψ−寞
であり、また＊施例１と同条件でみた浴融アクリル樹脂
との接触角は１００度であり鼠化層形成前の＃’Ｊ ２
１５に減じていた。 、 実施例３ 実施例１と同操作、同条件で通気カス酸素にしてニッケ
ルメツ１１？面に酸素の浸透、拡散層を形成した。鈑化
屡の深さはαｆＪｐｍ 、硬さは１４００に＃−が、実
施例１と同条件による溶けたアクリル樹脂との接触角は
９０直であった。
であり、また＊施例１と同条件でみた浴融アクリル樹脂
との接触角は１００度であり鼠化層形成前の＃’Ｊ ２
１５に減じていた。 、 実施例３ 実施例１と同操作、同条件で通気カス酸素にしてニッケ
ルメツ１１？面に酸素の浸透、拡散層を形成した。鈑化
屡の深さはαｆＪｐｍ 、硬さは１４００に＃−が、実
施例１と同条件による溶けたアクリル樹脂との接触角は
９０直であった。
実施例４
実施例１と同操作、同条件で通気ガスを・アセチレンと
してニッケルメッキ１１１０Ｖｃ炭紮の浸透、拡散層を
形成した。炭化層の深さは約１７ｍ、硬さは１４５０ｋ
Ｉｖ′ｎＬが、浴融アクリル倒脂との接触角は１００度
であった。
してニッケルメッキ１１１０Ｖｃ炭紮の浸透、拡散層を
形成した。炭化層の深さは約１７ｍ、硬さは１４５０ｋ
Ｉｖ′ｎＬが、浴融アクリル倒脂との接触角は１００度
であった。
この発明では、ガスプラズマ下に、微Ｓ、ｎｔ缶な凹凸
を具えた成形ｍ圓をはく露し、成形戯画の形状、寸法の
指度を慣ねることなく、成形ａｌ１表面から？３部に向
けて臘累、戚累または炭素の浸透・拡散層を形成し、成
形ｍ表圓の硬さく’ｘｒ ） ｔ’ １０００いが以上
に向上して成形戯の強靭化により耐久性をあげ使用限度
′ｔ−３〜５倍にのばした。また、窯素、酸素または炭
素の浸透・拡散層の形成によりａｍ樹脂とのぬれ性が減
じ、成形鼠から佃腫泰板を引離丁ことが容易となり、履
ｍ時の基板の菱形抑制にも有力である。
を具えた成形ｍ圓をはく露し、成形戯画の形状、寸法の
指度を慣ねることなく、成形ａｌ１表面から？３部に向
けて臘累、戚累または炭素の浸透・拡散層を形成し、成
形ｍ表圓の硬さく’ｘｒ ） ｔ’ １０００いが以上
に向上して成形戯の強靭化により耐久性をあげ使用限度
′ｔ−３〜５倍にのばした。また、窯素、酸素または炭
素の浸透・拡散層の形成によりａｍ樹脂とのぬれ性が減
じ、成形鼠から佃腫泰板を引離丁ことが容易となり、履
ｍ時の基板の菱形抑制にも有力である。
鵜１凶は、この発明で使ったプラズマ錫塩装置の樽成の
要照を示した＠式図、第２図はアンモニヤプラズマ下で
処理して得たニッケルメッキスタンバの輩化鳥の浸透−
拡散状況り一例を示す＠微銚拡大写真である。第３＠Ｊ
は公知引用例における鼠化展形成の手職を示す訛れ系統
図である。 １・・・成形ｍ ５・・・＆１ｔＳ膜６・・・
基板（成形厭） ８・・・Ａｇ！、檜９・・・排気糸
１０・・・流瀘可に通気弁１１・・・烏局波電
源 １２・・・藁周改励匙コイル殆１図
要照を示した＠式図、第２図はアンモニヤプラズマ下で
処理して得たニッケルメッキスタンバの輩化鳥の浸透−
拡散状況り一例を示す＠微銚拡大写真である。第３＠Ｊ
は公知引用例における鼠化展形成の手職を示す訛れ系統
図である。 １・・・成形ｍ ５・・・＆１ｔＳ膜６・・・
基板（成形厭） ８・・・Ａｇ！、檜９・・・排気糸
１０・・・流瀘可に通気弁１１・・・烏局波電
源 １２・・・藁周改励匙コイル殆１図
Claims (1)
- 被成形体に転写する凹凸を表面に設けられてなる成形型
の製作方法であって、型表面をアンモニヤ、窒素または
酸素、炭化水素のガスプラズマ内にばく露して型表面か
ら内部に向けて窒素、酸素または炭素を浸透して型構成
金属の窒化層、酸化層または炭化層を形成してなること
を特徴とする成形型の製作方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11402485A JPS61272362A (ja) | 1985-05-29 | 1985-05-29 | 成形型の製作方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11402485A JPS61272362A (ja) | 1985-05-29 | 1985-05-29 | 成形型の製作方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61272362A true JPS61272362A (ja) | 1986-12-02 |
Family
ID=14627131
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11402485A Pending JPS61272362A (ja) | 1985-05-29 | 1985-05-29 | 成形型の製作方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61272362A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02212106A (ja) * | 1989-02-13 | 1990-08-23 | Ibiden Co Ltd | プラスチック成形用型 |
| US5112025A (en) * | 1990-02-22 | 1992-05-12 | Tdk Corporation | Molds having wear resistant release coatings |
| EP1332856A1 (en) * | 2002-01-31 | 2003-08-06 | Novartis AG | Process for treating moulds or mould halves for the production of ophthalmic lenses |
| WO2005110698A3 (en) * | 2004-05-14 | 2006-03-02 | Teer Coatings Ltd | Coating with hard wear and non-stick characteristics |
| US7059335B2 (en) | 2002-01-31 | 2006-06-13 | Novartis Ag | Process for treating moulds or mould halves for the production of ophthalmic lenses |
| JP2013234370A (ja) * | 2012-05-10 | 2013-11-21 | Yamanashi Prefecture | 鉄鋼のプラズマ窒化方法およびプラズマ窒化処理された鉄鋼 |
| US8668834B2 (en) | 2009-10-06 | 2014-03-11 | International Business Machines Corporations | Protecting a mold having a substantially planar surface provided with a plurality of mold cavities |
| JP2019065329A (ja) * | 2017-09-29 | 2019-04-25 | 学校法人 芝浦工業大学 | 光学素子成形用型材 |
-
1985
- 1985-05-29 JP JP11402485A patent/JPS61272362A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02212106A (ja) * | 1989-02-13 | 1990-08-23 | Ibiden Co Ltd | プラスチック成形用型 |
| US5112025A (en) * | 1990-02-22 | 1992-05-12 | Tdk Corporation | Molds having wear resistant release coatings |
| EP1332856A1 (en) * | 2002-01-31 | 2003-08-06 | Novartis AG | Process for treating moulds or mould halves for the production of ophthalmic lenses |
| US7059335B2 (en) | 2002-01-31 | 2006-06-13 | Novartis Ag | Process for treating moulds or mould halves for the production of ophthalmic lenses |
| WO2005110698A3 (en) * | 2004-05-14 | 2006-03-02 | Teer Coatings Ltd | Coating with hard wear and non-stick characteristics |
| US8668834B2 (en) | 2009-10-06 | 2014-03-11 | International Business Machines Corporations | Protecting a mold having a substantially planar surface provided with a plurality of mold cavities |
| JP2013234370A (ja) * | 2012-05-10 | 2013-11-21 | Yamanashi Prefecture | 鉄鋼のプラズマ窒化方法およびプラズマ窒化処理された鉄鋼 |
| JP2019065329A (ja) * | 2017-09-29 | 2019-04-25 | 学校法人 芝浦工業大学 | 光学素子成形用型材 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS61272362A (ja) | 成形型の製作方法 | |
| US3749658A (en) | Method of fabricating transparent conductors | |
| JPH0234737A (ja) | 耐食、耐熱性アルミニウム基合金薄膜とその製造法 | |
| CN110670029A (zh) | 一种铝合金表面高硬耐磨TiN/TiAlSiN复合涂层及其制备方法 | |
| US2637896A (en) | Manganese alloy coating on ferrous base and method of preparation | |
| JPS61295371A (ja) | 窒化アルミニウム層を有するアルミニウム材の製法 | |
| EP0510766B1 (de) | Verfahren zur Herstellung eines Glühkathodenelements | |
| JPH0561502B2 (ja) | ||
| JPS6222314A (ja) | 薄膜製造方法 | |
| US4120080A (en) | Method of manufacturing grid electrodes for electron tubes | |
| EP0365687B1 (en) | Steel sheet having dense ceramic coating with excellent adhesion,smoothness and corrosion resistance and process for its production | |
| Hibi et al. | High‐Resolution Replicas and Their Application | |
| JP3116093B1 (ja) | ＴｉＯ単結晶薄膜の製造方法 | |
| JPS6059537A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| CN115635094A (zh) | 一种改善沉积态高熵合金高温抗氧化性能的热处理方法 | |
| JPS59136415A (ja) | 高透磁率合金膜の製造方法 | |
| EP0397729A1 (en) | Ion-nitrided cermet tip and method for producing the same | |
| JPS59104111A (ja) | 酸化鉄磁性薄膜の製造方法 | |
| JPS62283258A (ja) | ピストンリング | |
| JPH11106987A (ja) | 抗菌性を有する線材の製造方法 | |
| JPS59121629A (ja) | 高透磁率合金膜の製造方法 | |
| JPS6047335A (ja) | 酸化物陰極構体の製造方法 | |
| JPS5918541A (ja) | 電子放射陰極の製造方法 | |
| Par | III-Vacuum Processing Techniques-III | |
| JPH0913164A (ja) | 穴の内面を耐摩耗性にする方法およびこの方法を利用したノズルの先端チップの製造方法 |