JPS61267711A - 光フアイバ - Google Patents
光フアイバInfo
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- JPS61267711A JPS61267711A JP60109634A JP10963485A JPS61267711A JP S61267711 A JPS61267711 A JP S61267711A JP 60109634 A JP60109634 A JP 60109634A JP 10963485 A JP10963485 A JP 10963485A JP S61267711 A JPS61267711 A JP S61267711A
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- JP
- Japan
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- optical fiber
- coating layer
- carbon
- polymer
- high polymer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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- Optical Fibers, Optical Fiber Cores, And Optical Fiber Bundles (AREA)
- Surface Treatment Of Glass Fibres Or Filaments (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
「技術分野」
本発明は、長寿命、低損失を実現しうる光ファイバの構
造に関する。
造に関する。
「従来の技術およびその問題点」
光ファイバとして通常用いられているものは、光フアイ
バ裸線上に、シリコーンなどの有機高分子化合物からな
る被覆層が設けられてなる有機コート光ファイバである
。
バ裸線上に、シリコーンなどの有機高分子化合物からな
る被覆層が設けられてなる有機コート光ファイバである
。
ところが、この有機コート光ファイバの被覆層は水素等
のガスの透過量が多く、被覆層を透過した水素によりＯ
Ｈ基による吸収が増大したり、被覆層の有機材料に起因
する水素により同様に吸収が増大したりして、光ファイ
バの伝送損失の増加を招く問題がある。
のガスの透過量が多く、被覆層を透過した水素によりＯ
Ｈ基による吸収が増大したり、被覆層の有機材料に起因
する水素により同様に吸収が増大したりして、光ファイ
バの伝送損失の増加を招く問題がある。
この問題に対処しうる光ファイバとして、光ファイバ裸
線にアルミニウム、インジウム、ニッケルなどの金属か
らなる被覆層を形成した金属コート光ファイバがある。
線にアルミニウム、インジウム、ニッケルなどの金属か
らなる被覆層を形成した金属コート光ファイバがある。
この金属コート光ファイバでは、金属被覆層によりガス
の透過が阻止されるので、上記問題に対処できる。
の透過が阻止されるので、上記問題に対処できる。
ところが、この金属コート光ファイバにあっては、硬質
の金属被覆層により覆われるので、マイクロベンディン
グによる伝送損失が大きい不都合がある。
の金属被覆層により覆われるので、マイクロベンディン
グによる伝送損失が大きい不都合がある。
このため、光フアイバ裸線上に結晶性のカーボンを被覆
することが提案されているが、このものにあっては、結
晶性カーボンの伸びが最大１％程度と光ファイバ裸線に
比べて小さいので、光ファイバに張力が加わるとファイ
バ裸線から被覆層が剥離する恐れがある。
することが提案されているが、このものにあっては、結
晶性カーボンの伸びが最大１％程度と光ファイバ裸線に
比べて小さいので、光ファイバに張力が加わるとファイ
バ裸線から被覆層が剥離する恐れがある。
「問題点を解決するための手段」
そこで、本発明にあっては、光フアイバ裸線上に高分子
状カーボンと有機高分子体との共重合体よりなる被覆層
を形成することにより上記問題の解決を図った。
状カーボンと有機高分子体との共重合体よりなる被覆層
を形成することにより上記問題の解決を図った。
「作用 」
このような構成の光ファイバにあっては、被覆層の高分
子状カーボンによって水素の透過が阻止されると共に、
被覆層をなす共重合体に含まれる水素が極めて少ないの
で、水素による光ファイバの伝送損失の増加が防止され
る。また、被覆層は、有機高分子体によって可撓性およ
び良好な伸びを有するものになるので、光ファイバ裸線
からの被覆層の剥離が防止される。
子状カーボンによって水素の透過が阻止されると共に、
被覆層をなす共重合体に含まれる水素が極めて少ないの
で、水素による光ファイバの伝送損失の増加が防止され
る。また、被覆層は、有機高分子体によって可撓性およ
び良好な伸びを有するものになるので、光ファイバ裸線
からの被覆層の剥離が防止される。
「実施例」
以下、図面を参照して本発明の詳細な説明する。
第１図および第２図喧、この発明の光ファイバの一実施
例を示すもので、図中符号ｌは石英ガラスなどからなる
光ファイバ裸線である。この光フアイバ裸線上には被覆
層２が形成されている。この被覆層２は、高分子状カー
ボンと有機高分子体との共重合体によって形成されたも
のである。この重合体は、通常の有機高分子体に比較し
て極端に水素原子の不足した組成を有しており、高度に
架橋構造が発達した炭素マトリックスから構成されてい
る。この重合体は、例えば第２図に示すように、結晶性
カーボン３・・・、アモルファスカーボン４・・・など
の高分子状カーボンの部分とハイドロカーボン５・・・
の部分がランダムに結合た構造を有していると思われる
。
例を示すもので、図中符号ｌは石英ガラスなどからなる
光ファイバ裸線である。この光フアイバ裸線上には被覆
層２が形成されている。この被覆層２は、高分子状カー
ボンと有機高分子体との共重合体によって形成されたも
のである。この重合体は、通常の有機高分子体に比較し
て極端に水素原子の不足した組成を有しており、高度に
架橋構造が発達した炭素マトリックスから構成されてい
る。この重合体は、例えば第２図に示すように、結晶性
カーボン３・・・、アモルファスカーボン４・・・など
の高分子状カーボンの部分とハイドロカーボン５・・・
の部分がランダムに結合た構造を有していると思われる
。
この被覆層２を形成する重合体としては、重合体を形成
する元素のうち、炭素（Ｃ）が原子比で６０〜９０％程
度含まれているものが好適に用いられる。Ｃが９０％を
越えると、被覆層２は伸びの少ないものになるので、光
ファイバ裸線ｌから剥離し易くなる。また、６０未満に
なると、被覆層２は水素の透過を充分阻止し得ないもの
になり、光ファイバの伝送損失の増加を防止し得ない。
する元素のうち、炭素（Ｃ）が原子比で６０〜９０％程
度含まれているものが好適に用いられる。Ｃが９０％を
越えると、被覆層２は伸びの少ないものになるので、光
ファイバ裸線ｌから剥離し易くなる。また、６０未満に
なると、被覆層２は水素の透過を充分阻止し得ないもの
になり、光ファイバの伝送損失の増加を防止し得ない。
このような重合体からなる被覆層２の厚さは、０．０５
〜１μ次程度に形成されることが望ましい。
〜１μ次程度に形成されることが望ましい。
０．０５未満では、被覆層としての機能が十分でなく、
１μ屑を越えても被覆層としての保護効果の増大がもは
や望めず、不経済である。 被覆層２をなす重合体とし
て最も好適なものとして、モノマーとしての有機ガスお
よびハロゲン化炭素をプラズマ重合させて得られる重合
体が挙げられるが、これに限らず種々のものを利用でき
る。プラズマ重合法によれば被覆層２を比較的低温で形
成できるので、被覆暁光ファイバ裸線１に与えるヒート
ショックが少ない点で望ましい。 上記有機ガスとして
は、メタン、エタン、プロパン等の飽和炭化水素、エチ
レン、プロピレン等の不飽和炭化水素などの他、アクリ
ル酸エステル、メタアクリル酸エステル、スチレン、ク
ロロベンゼン等の種々のガス化し得る有機化合物が用い
られる。また、上記ハロゲン化炭素としては、四フッ化
炭素（ＣＦ ４）、四塩化炭素（ＣＣ１２４）などが好
適に用いられる。
１μ屑を越えても被覆層としての保護効果の増大がもは
や望めず、不経済である。 被覆層２をなす重合体とし
て最も好適なものとして、モノマーとしての有機ガスお
よびハロゲン化炭素をプラズマ重合させて得られる重合
体が挙げられるが、これに限らず種々のものを利用でき
る。プラズマ重合法によれば被覆層２を比較的低温で形
成できるので、被覆暁光ファイバ裸線１に与えるヒート
ショックが少ない点で望ましい。 上記有機ガスとして
は、メタン、エタン、プロパン等の飽和炭化水素、エチ
レン、プロピレン等の不飽和炭化水素などの他、アクリ
ル酸エステル、メタアクリル酸エステル、スチレン、ク
ロロベンゼン等の種々のガス化し得る有機化合物が用い
られる。また、上記ハロゲン化炭素としては、四フッ化
炭素（ＣＦ ４）、四塩化炭素（ＣＣ１２４）などが好
適に用いられる。
次に、この発明の光ファイバを製造する方法の一例を説
明する。
明する。
第３図は、本発明の光ファイバを製造するのに好適な製
造装置の一例を示すものである。この製造装置は、概略
、紡糸炉部６と重合炉部７と差動排気装置８とから構成
されている。
造装置の一例を示すものである。この製造装置は、概略
、紡糸炉部６と重合炉部７と差動排気装置８とから構成
されている。
紡糸炉部６は、炉体９内にドーナツ状の抵抗発熱体ｌＯ
が収容されてなるもので、抵抗発熱体１０の中心には光
フアイバ母材１１が取り付けられている。この紡糸炉部
６の下部には、第１スリツト１３を介して重合炉部７の
炉体１４が接続されている。この第１スリツト１３には
、紡糸炉部６で紡糸された光ファイバ裸線ｌが下方の重
合炉部７に移送されるのに必要なだけの開口（光ファイ
バ裸線ｌの径が１００〜１６０μ肩程度の時、約１〜３
ｘｍ）が形成されており、紡糸炉部６と重合炉部７の
それぞれの雰囲気がここで実質的に仕切られ、互いに混
合しないようになっている。
が収容されてなるもので、抵抗発熱体１０の中心には光
フアイバ母材１１が取り付けられている。この紡糸炉部
６の下部には、第１スリツト１３を介して重合炉部７の
炉体１４が接続されている。この第１スリツト１３には
、紡糸炉部６で紡糸された光ファイバ裸線ｌが下方の重
合炉部７に移送されるのに必要なだけの開口（光ファイ
バ裸線ｌの径が１００〜１６０μ肩程度の時、約１〜３
ｘｍ）が形成されており、紡糸炉部６と重合炉部７の
それぞれの雰囲気がここで実質的に仕切られ、互いに混
合しないようになっている。
重合炉部７は、炉体１４内の上部にプラズマを発生させ
るための高周波コイル１５が収容され、炉体１４の下部
が重合室７ａとされた構造となっている。また、炉体１
４には原料ガス導入管１６および真空排気管１７が設け
られている。高周波コイル１５は、外部に設置された高
周波発振装置１８に接続されている。また、炉体１４の
下部には、第２スリツト１９を介して差動排気装置８が
接続されている。第２スリツト１９は、上記第１スリツ
ト１３と同様の構造であって、重合炉部７と差動排気装
置８との雰囲気を区分するものである。
るための高周波コイル１５が収容され、炉体１４の下部
が重合室７ａとされた構造となっている。また、炉体１
４には原料ガス導入管１６および真空排気管１７が設け
られている。高周波コイル１５は、外部に設置された高
周波発振装置１８に接続されている。また、炉体１４の
下部には、第２スリツト１９を介して差動排気装置８が
接続されている。第２スリツト１９は、上記第１スリツ
ト１３と同様の構造であって、重合炉部７と差動排気装
置８との雰囲気を区分するものである。
差動排気装置８は、真空排気管２０．２１１２２を有す
る３ケーの減圧室２３．２４．２５が連続して設けられ
たものである。これら減圧室２３．２４．２５間のそれ
ぞれの境壁部には光ファイバ裸線１が通るに必要なだけ
の開口（径１〜３ ａｇ）が形成されており、最下方の
減圧室２５は、この開口を経て大気に連通している。こ
れら減圧室２３．２４．２５により重合炉部７内を所望
の減圧雰囲気とすることが可能となる。
る３ケーの減圧室２３．２４．２５が連続して設けられ
たものである。これら減圧室２３．２４．２５間のそれ
ぞれの境壁部には光ファイバ裸線１が通るに必要なだけ
の開口（径１〜３ ａｇ）が形成されており、最下方の
減圧室２５は、この開口を経て大気に連通している。こ
れら減圧室２３．２４．２５により重合炉部７内を所望
の減圧雰囲気とすることが可能となる。
そして、これら紡糸炉部６、重合炉部７および差動排気
装置８の上下方向の中心軸線はすべて一致せしめられ、
紡糸炉部６で紡糸された光ファイバ裸線ｌはこの中心軸
線上を下方に走行し、第１スリツト１３、高周波コイル
１５の中心部、第２スリツト１９を通り、最下方の減圧
室２５の開口を経て外部に導出され、図示しない巻取リ
ールに巻き取られるようになっている。
装置８の上下方向の中心軸線はすべて一致せしめられ、
紡糸炉部６で紡糸された光ファイバ裸線ｌはこの中心軸
線上を下方に走行し、第１スリツト１３、高周波コイル
１５の中心部、第２スリツト１９を通り、最下方の減圧
室２５の開口を経て外部に導出され、図示しない巻取リ
ールに巻き取られるようになっている。
この装置を用いて光ファイバを製造するには、まず、紡
糸炉部６において抵抗発熱体ｌＯ１に通重し、光フアイ
バ母材１１を加熱し、常法により溶融紡糸し、光ファイ
バ裸線ｌを得る。この時、紡糸炉部６内はＡｒガスなど
の圧力０．１Ｔｏｒｒ程度の雰囲気とされる。光ファイ
バ裸線ｌは、ついで第１スリツト１３を通り、重合炉部
７に導入される。
糸炉部６において抵抗発熱体ｌＯ１に通重し、光フアイ
バ母材１１を加熱し、常法により溶融紡糸し、光ファイ
バ裸線ｌを得る。この時、紡糸炉部６内はＡｒガスなど
の圧力０．１Ｔｏｒｒ程度の雰囲気とされる。光ファイ
バ裸線ｌは、ついで第１スリツト１３を通り、重合炉部
７に導入される。
重合炉部７内には、有機ガスやハロゲン化炭素等の光フ
ァイバの被覆層２を形成する共重合体の原料の重合性モ
ノマーガスを、Ａｒ等のキャリヤーガスと共に原料ガス
導入管１６から送給する。
ァイバの被覆層２を形成する共重合体の原料の重合性モ
ノマーガスを、Ａｒ等のキャリヤーガスと共に原料ガス
導入管１６から送給する。
重合炉部７内の重合性モノマーガスの圧力は、０．０１
〜１０Ｔｏｒｒ程度に保たれる。
〜１０Ｔｏｒｒ程度に保たれる。
この重合炉部７内では高周波コイル１５からの高周波電
力により、プラズマが発生せしめられており、このプラ
ズマにより重合性モノマーガスが重合され、光ファイバ
裸線ｌ上に被覆層２を形成する。高周波コイル１５に印
加される電力は、３０〜ａ ｏ ｏ ｏｗ程度とされ、
その周波数は約１〜２０ＭＨｚとされる。
力により、プラズマが発生せしめられており、このプラ
ズマにより重合性モノマーガスが重合され、光ファイバ
裸線ｌ上に被覆層２を形成する。高周波コイル１５に印
加される電力は、３０〜ａ ｏ ｏ ｏｗ程度とされ、
その周波数は約１〜２０ＭＨｚとされる。
光ファイバ裸線ｌに形成される被覆層２の厚さは、モノ
マー裏皮、光ファイバ裸線１の走行速度などによって変
化する。
マー裏皮、光ファイバ裸線１の走行速度などによって変
化する。
このように重合炉部７で被覆層２が形成された光ファイ
バ裸線１は第２のスリット１９を通り、減圧室２３．２
４．２５を経て外部に導出され、巻取リールに巻き取ら
れる。
バ裸線１は第２のスリット１９を通り、減圧室２３．２
４．２５を経て外部に導出され、巻取リールに巻き取ら
れる。
「実験例１」
第３図に示した装置を用いて本発明の光ファイバを試作
し、その引張強度と、水素雰囲気中での伝送損失の変化
を調べた。
し、その引張強度と、水素雰囲気中での伝送損失の変化
を調べた。
製造装置の仕様を次に示す。
高周波発振装置１８・・・出力２０ＫＷ周波数３．４
ＭＨｚ 高周波コイル１５・・・コイル径１００１１巻き数１０
ターン 重合炉部７の重合室７ａ・・・内径８０ｘｍ全長８００
ｘｍ 重合炉部７に原料モノマーガスとしてＣＨ，とＣＦ４を
４＝１の比で導入し１、キャリヤーガスとしてＡｒガス
を導入し、３ＫＷの出力でプラズマを発生させた。重合
炉部７内の圧力は１１０１ｘＨであった。紡糸炉部６で
速度１ ｘ／ｎ＋ｉｎで紡糸された光ブアイバ裸線１を
この重合炉部７に導き、被覆層２を形成した。得られた
被覆層２をなす重合体の組成は、原子比で Ｃ：Ｈ：Ｆ＝１：０．１２：０．０１であった。
ＭＨｚ 高周波コイル１５・・・コイル径１００１１巻き数１０
ターン 重合炉部７の重合室７ａ・・・内径８０ｘｍ全長８００
ｘｍ 重合炉部７に原料モノマーガスとしてＣＨ，とＣＦ４を
４＝１の比で導入し１、キャリヤーガスとしてＡｒガス
を導入し、３ＫＷの出力でプラズマを発生させた。重合
炉部７内の圧力は１１０１ｘＨであった。紡糸炉部６で
速度１ ｘ／ｎ＋ｉｎで紡糸された光ブアイバ裸線１を
この重合炉部７に導き、被覆層２を形成した。得られた
被覆層２をなす重合体の組成は、原子比で Ｃ：Ｈ：Ｆ＝１：０．１２：０．０１であった。
被覆層２が形成された、光フアイバ裸線ｌ上にさらに紫
外線硬化型エポキシアクリレート樹脂を被覆した。
外線硬化型エポキシアクリレート樹脂を被覆した。
得られた光ファイバは、裸線１の外径が１２５μ１１被
覆層２の厚さが５００オングストローム、エポキシアク
リレート樹脂被覆外径が４２０μｌであった。
覆層２の厚さが５００オングストローム、エポキシアク
リレート樹脂被覆外径が４２０μｌであった。
この光ファイバの引張強度を測定したところ、平均３．
５ＧＰａであった。これに対して、光ファイバ裸線１に
イオンプラズマ重合で結晶性カーボンのみを被覆し被覆
層２とした点が異なる光ファイバの引張強度を調べたと
ころ、このものは平均１．５ＧＰａであり、本発明の光
ファイバが引張強度に優れていることが確認できた。
５ＧＰａであった。これに対して、光ファイバ裸線１に
イオンプラズマ重合で結晶性カーボンのみを被覆し被覆
層２とした点が異なる光ファイバの引張強度を調べたと
ころ、このものは平均１．５ＧＰａであり、本発明の光
ファイバが引張強度に優れていることが確認できた。
ついで、試作した本発明の光ファイバを１５０℃の水素
雰囲気下に放置して、波長１．３μ肩における伝送損失
の変化を調べたところ、１２０時間放置後も損失の増加
はみられず、本発明の光ファイバは水素が透過し難く、
寿命の長いものであることを確認できた。
雰囲気下に放置して、波長１．３μ肩における伝送損失
の変化を調べたところ、１２０時間放置後も損失の増加
はみられず、本発明の光ファイバは水素が透過し難く、
寿命の長いものであることを確認できた。
「実験例２」
実験例１と同様に、第３図に示した装置を用いて本発明
の光ファイバを試作し、その引張強度と、水素雰囲気中
での伝送損失の変化を調べた。
の光ファイバを試作し、その引張強度と、水素雰囲気中
での伝送損失の変化を調べた。
重合炉部７に原料モノマーガスとしてＣＨ，とＣＣＱ４
を４＝１の比で導入し１、キャリヤーガスとしてＡｒガ
スを導入し、２．８ ＫＷの出力でプラズマを発生させ
た。重合炉部７内の圧力はｌＯｘｘＨｇであった。紡糸
炉１部６で速度Ｉ Ｒ／ｗｉｎで紡糸された光ファイバ
裸線ｌをこの重合炉部７に導き、被覆層２を形成した。
を４＝１の比で導入し１、キャリヤーガスとしてＡｒガ
スを導入し、２．８ ＫＷの出力でプラズマを発生させ
た。重合炉部７内の圧力はｌＯｘｘＨｇであった。紡糸
炉１部６で速度Ｉ Ｒ／ｗｉｎで紡糸された光ファイバ
裸線ｌをこの重合炉部７に導き、被覆層２を形成した。
得られた被覆層２をなす重合体の組成は、原子比で
Ｃ：Ｈ：ＣＱ＝ １ ：０．６ ：０ 、ｏ １であり
有機物の多い組成となっていた。
有機物の多い組成となっていた。
被覆層２が形成された、光フアイバ裸線ｌ上にさらに紫
外線硬化型エポキシアクリレート樹脂を被覆した。
外線硬化型エポキシアクリレート樹脂を被覆した。
得られた光ファイバは、裸線ｌの外径が１２５μ友、被
覆層２の厚さが６００オングストローム、エポキシアク
リレート樹脂被覆外径が４２０μ次であった。
覆層２の厚さが６００オングストローム、エポキシアク
リレート樹脂被覆外径が４２０μ次であった。
この光ファイバの引張強度を測定したところ、平均４．
８ＧＰａであった。
８ＧＰａであった。
ついで、試作した本発明の光ファイバを１５０℃の水素
雰囲気下で、波長１．３μ！における伝送損失の変化を
調べたところ、１２０時間放置後も損失の増・加はみら
れなかった。
雰囲気下で、波長１．３μ！における伝送損失の変化を
調べたところ、１２０時間放置後も損失の増・加はみら
れなかった。
「実験例３」
実験例１と同様に、本発明の光ファイバを試作し、その
引張強度と、水素雰囲気中での伝送損失の変化を調べた
。
引張強度と、水素雰囲気中での伝送損失の変化を調べた
。
原料モノマーガスとしてＣＨ，とＣＣ（２４をｌＯ：１
の比で導入し１、キャリヤーガスとしてＡｒガスを導入
し、２０ＫＷの出力でプラズマを発生させた。重合炉部
７内の圧力はｌ１０１ｘＨであった。
の比で導入し１、キャリヤーガスとしてＡｒガスを導入
し、２０ＫＷの出力でプラズマを発生させた。重合炉部
７内の圧力はｌ１０１ｘＨであった。
紡糸炉部６で速度１ ｘ／ｍｉｎで紡糸された光ファイ
バ裸線ｌをこの重合炉部７に導き、被覆層２を形成した
。得られた被覆層２をなす重合体の組成は、原子比で Ｃ：Ｈ：Ｃｌ２＝１：１．２６：０．０１であった。
バ裸線ｌをこの重合炉部７に導き、被覆層２を形成した
。得られた被覆層２をなす重合体の組成は、原子比で Ｃ：Ｈ：Ｃｌ２＝１：１．２６：０．０１であった。
被覆層２が形成された、光フアイバ裸線ｌ上にさらに紫
外線硬化型エポキシアクリレート樹脂を被覆した。
外線硬化型エポキシアクリレート樹脂を被覆した。
得られた光ファイバは、裸線ｌの外径が１２５μｌ、被
覆層２の厚さが７００オングストローム、エポキシアク
リレート樹脂被覆外径が４２０μ肩であった。
覆層２の厚さが７００オングストローム、エポキシアク
リレート樹脂被覆外径が４２０μ肩であった。
この光ファイバの引張強度を測定したところ、平均４．
９０Ｐａであった。
９０Ｐａであった。
ついで、試作した本発明の光ファイバを１５０℃の水素
雰囲気下で、波長１．３μ鱈こおける伝送損失の変化を
調べたところ、１２０時間放置後１ 、２ ｄＢ／ｋｇ
の損失増加がみられた。
雰囲気下で、波長１．３μ鱈こおける伝送損失の変化を
調べたところ、１２０時間放置後１ 、２ ｄＢ／ｋｇ
の損失増加がみられた。
「発明の効果」
以上説明したように、本発明の光ファイバは、光ファイ
バ裸線上に形成された被覆層が高分子状ガーデンと有機
高分子体との共重合体よりなるものなので、被覆層は可
撓性と適度な伸縮性を有すると共に、水素含有量が少な
くかつ水素等の透過を阻止し得るものになる。従って゛
、本発明の光ファイバは、マイクロベンディング損失お
よび水素による伝送損失の増加が少なく、また張力が加
わっても被覆層が剥離することがない引張強度に優れた
ものとなる。よって本発明の光ファイバは低損失で長寿
命のものになる。
バ裸線上に形成された被覆層が高分子状ガーデンと有機
高分子体との共重合体よりなるものなので、被覆層は可
撓性と適度な伸縮性を有すると共に、水素含有量が少な
くかつ水素等の透過を阻止し得るものになる。従って゛
、本発明の光ファイバは、マイクロベンディング損失お
よび水素による伝送損失の増加が少なく、また張力が加
わっても被覆層が剥離することがない引張強度に優れた
ものとなる。よって本発明の光ファイバは低損失で長寿
命のものになる。
また、被覆層をなす重合体が、モノマーとしての有機ガ
スおよびハロゲン化炭素をプラズマ重合したものである
光ファイバにあっては、被覆層を低温で形成できるので
、被覆層を形成する際、光ファイバ裸線に与えるヒート
ショックが少なく、品質の優れた光ファイバとなる利点
がある。
スおよびハロゲン化炭素をプラズマ重合したものである
光ファイバにあっては、被覆層を低温で形成できるので
、被覆層を形成する際、光ファイバ裸線に与えるヒート
ショックが少なく、品質の優れた光ファイバとなる利点
がある。
第１図は本発明の光ファイバの一実率例を示す断面図、
第２図は本発明の光ファイバの被覆層をなす重合体の一
例を示す構造式、第３図は本発明の光ファイバの製造に
好適に用いられる装置の一例を示す概略構成図である。 １・・・・・・光ファイバ裸線、２・・・・・・被覆層
、３・・・・・・結晶性カーボン、４・・・・・・アモ
ルファスカーボン、５・・・・・・ハイドロカーボン。 第１図 ■ 第２図
第２図は本発明の光ファイバの被覆層をなす重合体の一
例を示す構造式、第３図は本発明の光ファイバの製造に
好適に用いられる装置の一例を示す概略構成図である。 １・・・・・・光ファイバ裸線、２・・・・・・被覆層
、３・・・・・・結晶性カーボン、４・・・・・・アモ
ルファスカーボン、５・・・・・・ハイドロカーボン。 第１図 ■ 第２図
Claims (2)
- （１）光ファイバ裸線上に高分子状カーボンと有機高分
子体との共重合体よりなる被覆層が形成されてなる光フ
ァイバ。 - （２）上記重合体が、モノマーとしての有機ガスおよび
ハロゲン化炭素をプラズマ重合させたものであることを
特徴とする特許請求の範囲第１項記載の光ファイバ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60109634A JPH0646251B2 (ja) | 1985-05-22 | 1985-05-22 | 光フアイバ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60109634A JPH0646251B2 (ja) | 1985-05-22 | 1985-05-22 | 光フアイバ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61267711A true JPS61267711A (ja) | 1986-11-27 |
| JPH0646251B2 JPH0646251B2 (ja) | 1994-06-15 |
Family
ID=14515249
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60109634A Expired - Lifetime JPH0646251B2 (ja) | 1985-05-22 | 1985-05-22 | 光フアイバ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0646251B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0227308A (ja) * | 1988-07-18 | 1990-01-30 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 光ファイバ及びその製造方法 |
| JPH0235404A (ja) * | 1988-07-26 | 1990-02-06 | Fujikura Ltd | 光ファイバ |
| JPH02233536A (ja) * | 1989-03-06 | 1990-09-17 | Hitachi Cable Ltd | 光ファイバの製造法 |
| JPH02282209A (ja) * | 1989-04-24 | 1990-11-19 | Fujikura Ltd | 光ファイバ |
-
1985
- 1985-05-22 JP JP60109634A patent/JPH0646251B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0227308A (ja) * | 1988-07-18 | 1990-01-30 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 光ファイバ及びその製造方法 |
| JPH0235404A (ja) * | 1988-07-26 | 1990-02-06 | Fujikura Ltd | 光ファイバ |
| JPH02233536A (ja) * | 1989-03-06 | 1990-09-17 | Hitachi Cable Ltd | 光ファイバの製造法 |
| JPH02282209A (ja) * | 1989-04-24 | 1990-11-19 | Fujikura Ltd | 光ファイバ |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0646251B2 (ja) | 1994-06-15 |
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