JPS61267245A - 真空中の移動台の駆動装置 - Google Patents
真空中の移動台の駆動装置Info
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- JPS61267245A JPS61267245A JP10766285A JP10766285A JPS61267245A JP S61267245 A JPS61267245 A JP S61267245A JP 10766285 A JP10766285 A JP 10766285A JP 10766285 A JP10766285 A JP 10766285A JP S61267245 A JPS61267245 A JP S61267245A
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- Japan
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- bellows
- driving
- stage
- moving table
- support
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/20—Means for supporting or positioning the objects or the material; Means for adjusting diaphragms or lenses associated with the support
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
- Fluid-Damping Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は移動台の駆動装置に関し、さらに詳しく言えば
、真空中の移動台をＸ−Ｙ軸方向に、あるいはＸ・Ｚ軸
方向に駆動する装置に関するものである。
、真空中の移動台をＸ−Ｙ軸方向に、あるいはＸ・Ｚ軸
方向に駆動する装置に関するものである。
半導体装置の製造に用いられる電子ビーム露光装置にお
いては、解像度の向上等の理由から真空中で露光する。
いては、解像度の向上等の理由から真空中で露光する。
このため露光すべき半導体ウェハを載置する移動台の位
置移動は真空状態の中で行われる。
置移動は真空状態の中で行われる。
第５図は従来例に係る真空中の移動台の駆動装置の側断
面図であり、真空チャンバ１内の移動台３は下部に設け
られたスライド部材１０により基台２の」二を、図面に
において左右に動くことかできる。
面図であり、真空チャンバ１内の移動台３は下部に設け
られたスライド部材１０により基台２の」二を、図面に
において左右に動くことかできる。
移動台を動かすときは、モータ５によりねじ６を所定の
方向に回転させる。ねじ６が回転するとポールねじ部４
が前進し、これに係合する駆動軸７が前進する。駆動軸
７が前進すると駆動用ベロー８は押されて縮まり、ベロ
ー８の内側から係合する駆動軸９も前進して移動台３が
前進する。
方向に回転させる。ねじ６が回転するとポールねじ部４
が前進し、これに係合する駆動軸７が前進する。駆動軸
７が前進すると駆動用ベロー８は押されて縮まり、ベロ
ー８の内側から係合する駆動軸９も前進して移動台３が
前進する。
一方、モーター５が反対方向に回転すると、同様のプロ
セスを経て移動台３が後退する。
セスを経て移動台３が後退する。
このときチャンバ１内はベロー８によって外側の大気か
ら隔離されているので、チャンバ１内の真空状態を保持
しながら移動台３の移動が可能と□ なる。
ら隔離されているので、チャンバ１内の真空状態を保持
しながら移動台３の移動が可能と□ なる。
ところでチャンバ１内が真空である限り、ベロー８には
外側から常に大気の圧力によって押されている。 この
ため移動台３の駆動力としてはこの大気の圧力を補正し
たものでなければならず、モーター５の駆動制御回路等
が複雑化する問題点があった。
外側から常に大気の圧力によって押されている。 この
ため移動台３の駆動力としてはこの大気の圧力を補正し
たものでなければならず、モーター５の駆動制御回路等
が複雑化する問題点があった。
また停電や操作の誤りによって突然電源が切れるとき、
この大気の圧力によってベロー８が急激に引き込まれて
移動台３がチャンバ１に激突し、装置の破損を招くなど
の問題点があった。
この大気の圧力によってベロー８が急激に引き込まれて
移動台３がチャンバ１に激突し、装置の破損を招くなど
の問題点があった。
本発明はかかる点に鑑みて創作されたものであり、簡単
な構成で操作性の良好な真空中の移動台の駆動装置の提
供を目的とする。
な構成で操作性の良好な真空中の移動台の駆動装置の提
供を目的とする。
第１図は本発明の原理構成を示す側断面図である。
■は真空チャンバであり、内部は真空に保たれている。
３は真空チャンバ１内の移動台でスライド部材１０を介
して基台２−Ｌを矢印方向に移動する。
して基台２−Ｌを矢印方向に移動する。
５はモーターであり、ねじ６を所定の方向に回転する。
４はポールねじ部で、ねじ６の回転によって前進または
後退する。８は伸縮自在の駆動用ベローであり、駆動軸
７を介してポールねじ部４に、また駆動軸ｌｌを介して
移動台３に係合している。
後退する。８は伸縮自在の駆動用ベローであり、駆動軸
７を介してポールねじ部４に、また駆動軸ｌｌを介して
移動台３に係合している。
１１は伸縮自在の支持用ベローであり、支持軸１２を介
して駆動用ベロー８の反対側から移動台３に係合してい
る。
して駆動用ベロー８の反対側から移動台３に係合してい
る。
駆動用ベロー８の端面には図上右側から大気の圧力が加
わっているが、支持用ベロー１２の端面にも図上左側か
ら大気の圧力が加わっており、端面の面積が同等ならば
移動台３に加わる左右からの圧力は互いに相殺される。
わっているが、支持用ベロー１２の端面にも図上左側か
ら大気の圧力が加わっており、端面の面積が同等ならば
移動台３に加わる左右からの圧力は互いに相殺される。
次に本発明の実施例について説明する。第２図は本発明
の実施例に係るｘＹステージの斜視図であり、第３図は
第２図のＸＹステージを矢印側から見た側断面図である
。ｌは基台２に固着する真空チャンバ、２０はＸステー
ジ、３１はＹステージである。
の実施例に係るｘＹステージの斜視図であり、第３図は
第２図のＸＹステージを矢印側から見た側断面図である
。ｌは基台２に固着する真空チャンバ、２０はＸステー
ジ、３１はＹステージである。
Ｘステージ２０の駆動部は、基台２に固着する駆動台１
５．モーター１３．モーター１３により回転制御される
ねじ１４．ねじ１４の回転方向に従って前進または後退
するポールねじ部１６゜ポールねじ部１６の前進により
ベロー１８を押圧し、後退によりベロー１８を引戻す駆
動軸１７゜真空チャンバ１内の真空状態を保持しながら
駆動軸１７により伸縮する駆動用ベロー１８および両端
がそれぞれベロー１８とＸステージ２０に係合している
駆動軸１９とによって構成されている。
５．モーター１３．モーター１３により回転制御される
ねじ１４．ねじ１４の回転方向に従って前進または後退
するポールねじ部１６゜ポールねじ部１６の前進により
ベロー１８を押圧し、後退によりベロー１８を引戻す駆
動軸１７゜真空チャンバ１内の真空状態を保持しながら
駆動軸１７により伸縮する駆動用ベロー１８および両端
がそれぞれベロー１８とＸステージ２０に係合している
駆動軸１９とによって構成されている。
また２１はＸステージ２０用のガイドレールで元金２に
固着している。
固着している。
２２は支持用ベローであり、支持軸２３を介してＸステ
ージ２０に係合し、これを支持している。なお支持用ベ
ロー２２の端面の面積は駆動用ベロー１８の端面の面積
と同等に形成している。
ージ２０に係合し、これを支持している。なお支持用ベ
ロー２２の端面の面積は駆動用ベロー１８の端面の面積
と同等に形成している。
同様にＹステージ３１の駆動部は、基台２に固着する駆
動台２６．モーター２４．モーター２４により回転制御
されるねじ２５．ねじ２５の回転方向に従って前進また
は後退するポールねじ部２７．ポールねじ部２７の前進
によりベロー２９を押圧し、後退によりベロー２９を引
戻す駆動軸２８．真空チャンバｌ内の真空状態を保持し
ながら駆動軸２８により伸縮する駆動用ベロー２９およ
び両端がそれぞれベロー２９とＹステージ３１に係合し
ている駆動軸３０とによって構成されている。
動台２６．モーター２４．モーター２４により回転制御
されるねじ２５．ねじ２５の回転方向に従って前進また
は後退するポールねじ部２７．ポールねじ部２７の前進
によりベロー２９を押圧し、後退によりベロー２９を引
戻す駆動軸２８．真空チャンバｌ内の真空状態を保持し
ながら駆動軸２８により伸縮する駆動用ベロー２９およ
び両端がそれぞれベロー２９とＹステージ３１に係合し
ている駆動軸３０とによって構成されている。
３８はＹステージ用のガイドレールで、Ｘステージ２０
に固着している。３２は支持用ベローであり、支持軸３
３を介してＹステージ３１に係合し、これを支持してい
る。なお支持用ベロー３２の端面の面積は駆動用ベロー
２９の端面の面積と同等に形成している。
に固着している。３２は支持用ベローであり、支持軸３
３を介してＹステージ３１に係合し、これを支持してい
る。なお支持用ベロー３２の端面の面積は駆動用ベロー
２９の端面の面積と同等に形成している。
３４は駆動軸３０とＹステージ３１とを係合する部材で
あり、その機部はＹ軸側駆動のときＹステージ３１に固
着するガイドレール３５に係合してＹステージ３１をＸ
ステージ２０に固着するガイドレール３８」二を移動さ
せ、一方Ｘ軸駆動のとき部材３９の転勤によってＸ方向
の係合を解きＹステージ３１がＸステージ２０とともに
Ｘ方向に移動するのを許容するものである。
あり、その機部はＹ軸側駆動のときＹステージ３１に固
着するガイドレール３５に係合してＹステージ３１をＸ
ステージ２０に固着するガイドレール３８」二を移動さ
せ、一方Ｘ軸駆動のとき部材３９の転勤によってＸ方向
の係合を解きＹステージ３１がＸステージ２０とともに
Ｘ方向に移動するのを許容するものである。
３６は支持軸３３とＹステージ３１とを係合する部材で
あり、係合部材３４と同様の機部を有する。なお４０は
係合部材３６に取り付けられた転動部材である。
あり、係合部材３４と同様の機部を有する。なお４０は
係合部材３６に取り付けられた転動部材である。
次に実施例の動作を説明する。Ｘ軸駆動側のモーター１
３が所定の方向に回転を開始すると、ねじ１４が回転し
、ポールねじ部１６が前進する。ポールねじ部１６が前
進すると駆動用ベロー１８を圧縮しながら駆動軸１７．
１９が前進し、従ってＸステージ２０も前進して支持用
ベロー２２を圧縮する。このときＹステージ３１とＹ軸
側駆動部およびＹ軸側支持部とは、保合部材３４および
３６によって係合を解かれているので、Ｘステージ２０
とともにＹステージ３１もＸ方向に移動する。
３が所定の方向に回転を開始すると、ねじ１４が回転し
、ポールねじ部１６が前進する。ポールねじ部１６が前
進すると駆動用ベロー１８を圧縮しながら駆動軸１７．
１９が前進し、従ってＸステージ２０も前進して支持用
ベロー２２を圧縮する。このときＹステージ３１とＹ軸
側駆動部およびＹ軸側支持部とは、保合部材３４および
３６によって係合を解かれているので、Ｘステージ２０
とともにＹステージ３１もＸ方向に移動する。
モーター１３が逆の方向に回転すると、同様なプロセス
を経てＸステージ２０とＹステージ３１はＸ方向に後退
する。
を経てＸステージ２０とＹステージ３１はＸ方向に後退
する。
次にＹ軸駆動側のモーター２４が所定の方向に回転を開
始すると、ねじ２５が回転してポールねじ部２７が前進
する。ポールねじ部２７が前進すると駆動用ベロー２９
を圧縮しながら駆動軸２８．３８が前進する。Ｙステー
ジ３１はＸステージ２０上のガイドレール３８をスライ
ドするので、Ｙステージ３１のみがＹ方向に移動する。
始すると、ねじ２５が回転してポールねじ部２７が前進
する。ポールねじ部２７が前進すると駆動用ベロー２９
を圧縮しながら駆動軸２８．３８が前進する。Ｙステー
ジ３１はＸステージ２０上のガイドレール３８をスライ
ドするので、Ｙステージ３１のみがＹ方向に移動する。
このようにしてＹステージ３１Ｊ−の試料、たとえばウ
ェハーを所定の位置に設定できる。
ェハーを所定の位置に設定できる。
今、装置の駆動中に停電したとする。モーター１３によ
るＸステージ２０の位置をコントロールする駆動力は消
滅し、ベロー１８の端部を介して大気の圧力のみがＸス
テージ２０にかかる。しかし、実施例装置ではこの大気
の圧力と同等の力を反対側のベロー２２を介してステー
ジ２０にかけているから、Ｘステージ２０は安定した位
置に保たれ、チャンバー１激突することはない。
るＸステージ２０の位置をコントロールする駆動力は消
滅し、ベロー１８の端部を介して大気の圧力のみがＸス
テージ２０にかかる。しかし、実施例装置ではこの大気
の圧力と同等の力を反対側のベロー２２を介してステー
ジ２０にかけているから、Ｘステージ２０は安定した位
置に保たれ、チャンバー１激突することはない。
同様にＹ軸側にも支持用ベロー３２を設けているので、
停電時にもＹステージ３１は安定した位置状態にあり、
チャンバー１に激突して装置が破損することもない。
停電時にもＹステージ３１は安定した位置状態にあり、
チャンバー１に激突して装置が破損することもない。
またこのように、ベローを介してステージにかかる大気
の圧力を相互に相殺しているので、通常の動作において
も大気の圧力による力の補正をする必要がなくなり、従
ってモーターの駆動制御回路が簡単になる。
の圧力を相互に相殺しているので、通常の動作において
も大気の圧力による力の補正をする必要がなくなり、従
ってモーターの駆動制御回路が簡単になる。
第４図は本発明の別の実施例に係るｘ−Ｚステージの側
断面図である。図においてｘ＠Ｚステージ面は垂直であ
り、Ｚ軸は鉛直方向と一致している。Ｘ軸側の駆動部は
第２図と同様であり、同じ機爺の要素は同じ番号を付し
ている。
断面図である。図においてｘ＠Ｚステージ面は垂直であ
り、Ｚ軸は鉛直方向と一致している。Ｘ軸側の駆動部は
第２図と同様であり、同じ機爺の要素は同じ番号を付し
ている。
図において、４１はＺ軸側のモーター、４２はねじ、４
３はＺ軸駆動部の基台である。また４４はポールねじ部
、４５と４７は駆動軸。
３はＺ軸駆動部の基台である。また４４はポールねじ部
、４５と４７は駆動軸。
４６は駆動用ベローであり、４８はＺステージ５０と駆
動軸４７との保合部材、４９はステージ５０に固着する
保合部材４８のガイドレールである。
動軸４７との保合部材、４９はステージ５０に固着する
保合部材４８のガイドレールである。
この実施例ではＺ軸側に支持用ベローを設けていない。
この場合には、Ｚ軸側駆動用ベロー４６の端面にかかっ
て上方へ押し上げる大気の圧力とｘＺステージ５０等の
下方へかかる重力とを均衡させている。均衡はベローの
端面の面積の調節や重量の調節により容易にできる。こ
のように本実施例では支持用ベローを設けることなく同
様の効果を得ることが可能となる。
て上方へ押し上げる大気の圧力とｘＺステージ５０等の
下方へかかる重力とを均衡させている。均衡はベローの
端面の面積の調節や重量の調節により容易にできる。こ
のように本実施例では支持用ベローを設けることなく同
様の効果を得ることが可能となる。
以上説明したように、本発明によれば駆動用ベローにか
かる大気の圧力を駆動電源状態のいかんにかかわらず相
殺する手段を設けているので、たとえ停電等の原因によ
り電源が切れたとしても、駆動用ベローが急激に引き込
まれてステージがチャンバーに激突することはない。
かる大気の圧力を駆動電源状態のいかんにかかわらず相
殺する手段を設けているので、たとえ停電等の原因によ
り電源が切れたとしても、駆動用ベローが急激に引き込
まれてステージがチャンバーに激突することはない。
従って安定した操作が可能であるとともに、装置の破損
の防止が可能となる。
の防止が可能となる。
第１図は本発明の原理構成を示す側断面図である。第２
図は本発明の実施例装置の斜視図であり、第３図は第２
図の側断面図である。第４図は本発明の別の実施例装置
の側断面図である。 第５図は従来例装置の側断面図である。 ■・・・真空チャンバ ３・・・移動台（ステージ） ４・・・ポールねじ部 ５・・・モーター ６・・・ねじ ７．９・・・駆動軸 ８・・・駆動用ベロー ｌＯ・・・スライド部材 １１・・・支持用ベロー １２・・・支持軸
図は本発明の実施例装置の斜視図であり、第３図は第２
図の側断面図である。第４図は本発明の別の実施例装置
の側断面図である。 第５図は従来例装置の側断面図である。 ■・・・真空チャンバ ３・・・移動台（ステージ） ４・・・ポールねじ部 ５・・・モーター ６・・・ねじ ７．９・・・駆動軸 ８・・・駆動用ベロー ｌＯ・・・スライド部材 １１・・・支持用ベロー １２・・・支持軸
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ［１］真空チャンバ（１）の外側に設けられ、該真空チ
ャンバ（１）に取り付けられた駆動用ベロー（１）を介
して真空チャンバ（Ｉ）内の移動台（３）を駆動する駆
動手段（４、５、６、７）と、前記駆動手段に接続され
た駆動用ベロー（８）とは反対の側から前記移動台（３
）を支持するように真空チャンバ（１）に取付けられた
支持用ベロー（１１）とを備えていることを特徴とする
真空中の移動台の駆動装置。 ［２］前記駆動手段による駆動方向と直交する方向に前
記移動台を駆動用ベローを介して駆動する駆動手段と、
該駆動用ベローとは反対の側から前記移動台を支持する
ように前記真空チャンバに取り付けられた支持用ベロー
とを備えていることを特徴とする特許請求の範囲第１項
記載の真空中の移動台の駆動装置。 ［３］前記移動台を鉛直方向に駆動用ベローを介して駆
動する駆動手段を備え、かつ該鉛直方向の駆動用ベロー
の端面は該端面を下方から押し上げてくる大気の圧力と
該ベローの端面にかかる移動台の下方への重力とが等し
くなるような大きさであることを特徴とする特許請求の
範囲第１項記載の真空中の移動台の駆動装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10766285A JPS61267245A (ja) | 1985-05-20 | 1985-05-20 | 真空中の移動台の駆動装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10766285A JPS61267245A (ja) | 1985-05-20 | 1985-05-20 | 真空中の移動台の駆動装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61267245A true JPS61267245A (ja) | 1986-11-26 |
| JPH0332178B2 JPH0332178B2 (ja) | 1991-05-10 |
Family
ID=14464833
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10766285A Granted JPS61267245A (ja) | 1985-05-20 | 1985-05-20 | 真空中の移動台の駆動装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61267245A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7198141B2 (en) | 2002-09-10 | 2007-04-03 | Canon Kabushiki Kaisha | Shock absorbing apparatus in a positioning apparatus |
| JP2009147288A (ja) * | 2008-05-19 | 2009-07-02 | Akim Kk | 真空内溶接処理装置 |
| JP2017126601A (ja) * | 2016-01-12 | 2017-07-20 | 日本精工株式会社 | テーブル装置、位置決め装置、フラットパネルディスプレイ製造装置、及び精密機械 |
| EP3404694A4 (en) * | 2015-11-20 | 2019-11-13 | Shimadzu Corporation | VACUUM TREATMENT DEVICE AND MASS ANALYSIS DEVICE |
| CN112392892A (zh) * | 2020-11-06 | 2021-02-23 | 中国科学院物理研究所 | 一种减振装置 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS52117573A (en) * | 1976-03-30 | 1977-10-03 | Toshiba Corp | Electronic beam exposure unit |
| JPS58102522A (ja) * | 1981-12-14 | 1983-06-18 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 試料移動装置 |
-
1985
- 1985-05-20 JP JP10766285A patent/JPS61267245A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS52117573A (en) * | 1976-03-30 | 1977-10-03 | Toshiba Corp | Electronic beam exposure unit |
| JPS58102522A (ja) * | 1981-12-14 | 1983-06-18 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 試料移動装置 |
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| EP3404694A4 (en) * | 2015-11-20 | 2019-11-13 | Shimadzu Corporation | VACUUM TREATMENT DEVICE AND MASS ANALYSIS DEVICE |
| US10643831B2 (en) | 2015-11-20 | 2020-05-05 | Shimadzu Corporation | Vacuum processing apparatus and mass spectrometer |
| JP2017126601A (ja) * | 2016-01-12 | 2017-07-20 | 日本精工株式会社 | テーブル装置、位置決め装置、フラットパネルディスプレイ製造装置、及び精密機械 |
| CN112392892A (zh) * | 2020-11-06 | 2021-02-23 | 中国科学院物理研究所 | 一种减振装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0332178B2 (ja) | 1991-05-10 |
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