JPH0293139A - 減圧装置 - Google Patents
減圧装置Info
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- JPH0293139A JPH0293139A JP63246314A JP24631488A JPH0293139A JP H0293139 A JPH0293139 A JP H0293139A JP 63246314 A JP63246314 A JP 63246314A JP 24631488 A JP24631488 A JP 24631488A JP H0293139 A JPH0293139 A JP H0293139A
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- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/707—Chucks, e.g. chucking or un-chucking operations or structural details
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- G—PHYSICS
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- G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は真空雰囲気を持つ容器内で精密作業を行う。特
に半導体製造装置に関するものである。
に半導体製造装置に関するものである。
従来の真空容器内で作業を行う半導体製造装置を第３図
に示す。
に示す。
１は装置全体を真空雰囲気に保つ真空チャンバー、１１
は真空排気ボート、２１はロータ式Ｘ線源、２２はＸ線
源支持フレーム、２３はＸ線、２４は微細パターンの描
かれたＸ線マスク、２５はＸ線マクス支持フレーム、２
はウェハ、３はウェハ移送台、７はウェハ移送台を支持
するメインフレーム、２６は真空チャンバー１とメイン
フレーム７を締結する脚、１０は装置除振のための除振
ユニット、以上のように構成されている。しかしながら
、この様な上記従来例では、真空チャンバー１内の装置
の調整は大気中で行い、その後に真空排気ボート１１か
ら排気していた。しかし、排気時には、チャンバー壁に
は、大気との差圧による大きな力がかかり、チャンバー
壁がその力により変形を受けてしまう。更に、大気圧の
変動によってもチャンバー壁は影響を受は変動している
。又、チャンバー壁と、メインフレーム７は、複数個の
締結脚を介して、固定されているので、チャンバー壁の
変形はメインフレーム７に外力として働き、その結果メ
インフレーム７の変形につながる。メインフレーム７は
装置の基準定盤であり、ウェハ移送台３の位置決めのた
めの測定系（不図示）及びマスク支持フレーム２５など
が配置されており、メインフレームの変形は、すなわち
露光性能の低下を引き起すといった欠点がありた。
は真空排気ボート、２１はロータ式Ｘ線源、２２はＸ線
源支持フレーム、２３はＸ線、２４は微細パターンの描
かれたＸ線マスク、２５はＸ線マクス支持フレーム、２
はウェハ、３はウェハ移送台、７はウェハ移送台を支持
するメインフレーム、２６は真空チャンバー１とメイン
フレーム７を締結する脚、１０は装置除振のための除振
ユニット、以上のように構成されている。しかしながら
、この様な上記従来例では、真空チャンバー１内の装置
の調整は大気中で行い、その後に真空排気ボート１１か
ら排気していた。しかし、排気時には、チャンバー壁に
は、大気との差圧による大きな力がかかり、チャンバー
壁がその力により変形を受けてしまう。更に、大気圧の
変動によってもチャンバー壁は影響を受は変動している
。又、チャンバー壁と、メインフレーム７は、複数個の
締結脚を介して、固定されているので、チャンバー壁の
変形はメインフレーム７に外力として働き、その結果メ
インフレーム７の変形につながる。メインフレーム７は
装置の基準定盤であり、ウェハ移送台３の位置決めのた
めの測定系（不図示）及びマスク支持フレーム２５など
が配置されており、メインフレームの変形は、すなわち
露光性能の低下を引き起すといった欠点がありた。
そして、上記従来例の欠点を軽減するために、チャンバ
ー壁を厚くして変形を押える、若しくは、メインフレー
ム７の剛性を高めることで、メインフレーム７自体の変
形を小さく押えるなどの方法が考えられていた。
ー壁を厚くして変形を押える、若しくは、メインフレー
ム７の剛性を高めることで、メインフレーム７自体の変
形を小さく押えるなどの方法が考えられていた。
しかし、この様な方法であると、装置の大型化、重量化
、及び高価になるという欠点があった。
、及び高価になるという欠点があった。
本発明によれば、その様な問題点を解決するために、真
空容器と該真空容器に支持機構を介して支持される支持
体とを有する装置に於いて、前記支持機構は、前記支持
体を前記真空容器に対して、２点以上の支持点で支持し
、該支持点のうち少なくとも１点に、変動吸収機構を持
たせている。詳細については実施例において述べる。
空容器と該真空容器に支持機構を介して支持される支持
体とを有する装置に於いて、前記支持機構は、前記支持
体を前記真空容器に対して、２点以上の支持点で支持し
、該支持点のうち少なくとも１点に、変動吸収機構を持
たせている。詳細については実施例において述べる。
［実施例］
第１図、第２図は、本発明の特徴を最もよく表わす正面
図と側面図で、第１．２図に於て、１は露光雰囲気を減
圧に保つための真空チャンバー２はウェハ、３はウェハ
移送用Ｘステージ、４はＸ軸ガイドバー、５はウェハ移
送用Ｙステージ、６はＹ軸ガイドバー、７はｘ、Ｙステ
ージを支えるメインフレーム、８は球面座、９は同様の
グランシング用球面座、１０は除振ユニット、１１は真
空排気用ボート、１２はｘ、Ｙステージ位置決め用レー
ザー光源、１３はレーザー光、１４゜１５１９はハーフ
ミラ−１１６はＸステージ用参照ミラー、１７はＸステ
ージ用干渉計のディテクター、１８はスフヤーミラー、
２０はＹステージ用参照ミラー、２１はＹステージ用干
渉計のディテクターである。
図と側面図で、第１．２図に於て、１は露光雰囲気を減
圧に保つための真空チャンバー２はウェハ、３はウェハ
移送用Ｘステージ、４はＸ軸ガイドバー、５はウェハ移
送用Ｙステージ、６はＹ軸ガイドバー、７はｘ、Ｙステ
ージを支えるメインフレーム、８は球面座、９は同様の
グランシング用球面座、１０は除振ユニット、１１は真
空排気用ボート、１２はｘ、Ｙステージ位置決め用レー
ザー光源、１３はレーザー光、１４゜１５１９はハーフ
ミラ−１１６はＸステージ用参照ミラー、１７はＸステ
ージ用干渉計のディテクター、１８はスフヤーミラー、
２０はＹステージ用参照ミラー、２１はＹステージ用干
渉計のディテクターである。
つぎに上記構成に於いて、ウェハ穆送用Ｙステージ５が
メインフレーム７のある基準に対して走り精度が保障さ
れるようにＹ軸ガイドバー６を組立調整する。
メインフレーム７のある基準に対して走り精度が保障さ
れるようにＹ軸ガイドバー６を組立調整する。
そして、Ｙステージ５の送り方向に対し、ウェハ移送用
Ｘステージ３の直交が保障されるようにＸ軸ガイドバー
４を組立調整され、Ｘ−Ｙステージの位置決め用の測定
系は、全てメインフレーム７上に配置され光軸調整がな
されている。以上述へてきた組立調整は、全て大気中で
行われた後、チャンバー５ｉ！（不図示）をして、排気
ボート１１より真空排気する。チャンバー壁に対し、球
面座８はｙ方向のみを拘束し、グランシング用球面座９
は２方向のみを拘束して、３点目の支持点は、チャンバ
ー壁に対しメインフレーム７が位置ずれを起したままに
ならないための全拘束点である。排気によるチャンバー
壁の変形で問題となるのは、メインフレーム支持点があ
るチャンバー上・下面で、上・下面の相対変形が全ての
方向、即ちＸｙ、Ｚと各軸の回転方向にあったとしても
、２つの球面座のストローク内であればメインフレーム
７にはその変形の影響は受けない。
Ｘステージ３の直交が保障されるようにＸ軸ガイドバー
４を組立調整され、Ｘ−Ｙステージの位置決め用の測定
系は、全てメインフレーム７上に配置され光軸調整がな
されている。以上述へてきた組立調整は、全て大気中で
行われた後、チャンバー５ｉ！（不図示）をして、排気
ボート１１より真空排気する。チャンバー壁に対し、球
面座８はｙ方向のみを拘束し、グランシング用球面座９
は２方向のみを拘束して、３点目の支持点は、チャンバ
ー壁に対しメインフレーム７が位置ずれを起したままに
ならないための全拘束点である。排気によるチャンバー
壁の変形で問題となるのは、メインフレーム支持点があ
るチャンバー上・下面で、上・下面の相対変形が全ての
方向、即ちＸｙ、Ｚと各軸の回転方向にあったとしても
、２つの球面座のストローク内であればメインフレーム
７にはその変形の影響は受けない。
又、他の実施例として、前記実施例においては、変動吸
収機構として、球面座を使用しているが、これは、板バ
ネ構造であっても摺動機構であっても良い。
収機構として、球面座を使用しているが、これは、板バ
ネ構造であっても摺動機構であっても良い。
又、前記実施例中の真空容器１と除振ユニット１０の締
結にも第４図に示すように変動吸収機構２７を設けるこ
とにより除振ベース２８の自重による変形の影響をメイ
ンフレーム７に伝えないようにすることもできる。
結にも第４図に示すように変動吸収機構２７を設けるこ
とにより除振ベース２８の自重による変形の影響をメイ
ンフレーム７に伝えないようにすることもできる。
以上説明したように真空容器に収納された支持体と真空
容器との締結に、真空容器の変形をかわす様な変動吸収
機構を設けることにより、支持体が例えば、半導体製造
装置等で用いられる微動ステージ等の精密装置の場合な
どは、精密装置の性能向上と装置全体の重量軽減、小型
化という大きな効果がある。
容器との締結に、真空容器の変形をかわす様な変動吸収
機構を設けることにより、支持体が例えば、半導体製造
装置等で用いられる微動ステージ等の精密装置の場合な
どは、精密装置の性能向上と装置全体の重量軽減、小型
化という大きな効果がある。
第１図は、本発明を実施した正面断面図第２図は、本発
明を実施した側面断面図第３図は、従来の真空容器を持
つ露光装置の断面図 第４図は、本発明の他の実施例の正面断面図１は真空チ
ャンバー ２はウェハ、３はＸステージ、４はＸ軸ガイ
ドバー、５はＹステージ、６はＹ軸ガイドバー ７はメ
インフレーム、８は球面座、９はグランシング用球面座
、１０は除振ユニット、１１は真空排気ボート、１２は
レーザー光源、１３はレーザー光、１４゜１５．１９は
ハーフミラ−１１６はＸステージ位置決め用参照ミラー
１７はＸステージ用ディテクター、１８はスコヤーミ
ラ−２０はＹステージ位置決め用参照ミラー、２１はＹ
ステージ用ディテクター
明を実施した側面断面図第３図は、従来の真空容器を持
つ露光装置の断面図 第４図は、本発明の他の実施例の正面断面図１は真空チ
ャンバー ２はウェハ、３はＸステージ、４はＸ軸ガイ
ドバー、５はＹステージ、６はＹ軸ガイドバー ７はメ
インフレーム、８は球面座、９はグランシング用球面座
、１０は除振ユニット、１１は真空排気ボート、１２は
レーザー光源、１３はレーザー光、１４゜１５．１９は
ハーフミラ−１１６はＸステージ位置決め用参照ミラー
１７はＸステージ用ディテクター、１８はスコヤーミ
ラ−２０はＹステージ位置決め用参照ミラー、２１はＹ
ステージ用ディテクター
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 真空容器と 該真空容器に支持機構を介して支持される支持体とを有
する真空装置において、 前記支持機構は、前記支持体を 前記真空容器に対して、２点以上の支持点で支持し、 該支持点のうち少なくとも１点に真空容器の変動を伝え
ない変動吸収機構を設けてあることを特徴とする真空装
置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63246314A JP2774527B2 (ja) | 1988-09-30 | 1988-09-30 | 減圧装置 |
| EP89307779A EP0353980B1 (en) | 1988-08-02 | 1989-07-31 | A mounting method |
| DE68922798T DE68922798T2 (de) | 1988-08-02 | 1989-07-31 | Montierverfahren. |
| US08/422,932 US5687947A (en) | 1988-08-02 | 1995-04-17 | Mounting method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63246314A JP2774527B2 (ja) | 1988-09-30 | 1988-09-30 | 減圧装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0293139A true JPH0293139A (ja) | 1990-04-03 |
| JP2774527B2 JP2774527B2 (ja) | 1998-07-09 |
Family
ID=17146715
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63246314A Expired - Fee Related JP2774527B2 (ja) | 1988-08-02 | 1988-09-30 | 減圧装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2774527B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0786156A (ja) * | 1993-07-21 | 1995-03-31 | Canon Inc | 処理システム及びこれを用いたデバイス製造方法 |
| JP2002015989A (ja) * | 1993-07-21 | 2002-01-18 | Canon Inc | 処理システム及びこれを用いた露光装置およびデバイス製造方法 |
| KR100524265B1 (ko) * | 1999-04-19 | 2005-10-26 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 진공챔버용 격리 마운트와 리소그래피 투영장치에의 그 적용 |
| JP2008129358A (ja) * | 2006-11-21 | 2008-06-05 | Ricoh Co Ltd | 真空チャンバ及び電子線描画装置 |
-
1988
- 1988-09-30 JP JP63246314A patent/JP2774527B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0786156A (ja) * | 1993-07-21 | 1995-03-31 | Canon Inc | 処理システム及びこれを用いたデバイス製造方法 |
| JP2002015989A (ja) * | 1993-07-21 | 2002-01-18 | Canon Inc | 処理システム及びこれを用いた露光装置およびデバイス製造方法 |
| KR100524265B1 (ko) * | 1999-04-19 | 2005-10-26 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 진공챔버용 격리 마운트와 리소그래피 투영장치에의 그 적용 |
| JP2008129358A (ja) * | 2006-11-21 | 2008-06-05 | Ricoh Co Ltd | 真空チャンバ及び電子線描画装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2774527B2 (ja) | 1998-07-09 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |