JPH01179419A - 半導体素子製造用ｘ線露光装置 - Google Patents
半導体素子製造用ｘ線露光装置Info
- Publication number
- JPH01179419A JPH01179419A JP63000676A JP67688A JPH01179419A JP H01179419 A JPH01179419 A JP H01179419A JP 63000676 A JP63000676 A JP 63000676A JP 67688 A JP67688 A JP 67688A JP H01179419 A JPH01179419 A JP H01179419A
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- Japan
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- aligner
- ray
- displacement
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Links
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70716—Stages
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、半導体素子製造工程におけるＸ線露光装置に
関するものである。
関するものである。
〔従来の技術とその問題点］
周知の通り、半導体素子製造工程ではホトエツチング工
程を行うため、マスクのパターンと基板（ウェハ）上の
パターンとの相対的な位置を合せる必要がある。これを
マスク合せ（アライメント）と呼び、次いで、紫外線、
電子線やＸ線を照射して露光する。そして、これらの装
置を露光装置と呼んでいる。また、光源を除（露光装置
をアライナと称している。
程を行うため、マスクのパターンと基板（ウェハ）上の
パターンとの相対的な位置を合せる必要がある。これを
マスク合せ（アライメント）と呼び、次いで、紫外線、
電子線やＸ線を照射して露光する。そして、これらの装
置を露光装置と呼んでいる。また、光源を除（露光装置
をアライナと称している。
ところで、線幅０．２５μｍという超精密な露光にはＳ
ＯＲを光源とするＸ線露光が期待され、各種の提案が行
われている。かかるＳＯＲをＸ線源とした露光装置にお
いては、Ｘ線強度が大きいことの他に、光がほぼ平行に
近いので、従来のＸ線光源（電子線励起影線源やプラズ
マＸ線ｉ１ｊりで問題になっていた半影ぼけやランアウ
ト誤差は全く問題にならない利点がある。しかしながら
、ＳＯＲリングが大型で、かつ光が水平に出るため、ウ
ェハテーブル面が垂直になること、およびＳＯＲリング
と独立してアライナを置かなければならないこと、とい
う制約が生じる。かかるアライナには、ウェハとマスク
のステージを一体的に有し、両者の超精密な位置決め精
度を要するので、外部からの振動を遮断するため、通常
空気バネ等の弾性部材を用いた防振装置が備えられてい
る。このことは、逆に、露光位置あわせのためアライナ
上のステージが高速移動する際、発生する負荷によりア
ライナ全体の姿勢が容易に変化することを意味し、ひい
ては、超微細パターンを形成する高精度の露光ができな
くなる欠点がある。
ＯＲを光源とするＸ線露光が期待され、各種の提案が行
われている。かかるＳＯＲをＸ線源とした露光装置にお
いては、Ｘ線強度が大きいことの他に、光がほぼ平行に
近いので、従来のＸ線光源（電子線励起影線源やプラズ
マＸ線ｉ１ｊりで問題になっていた半影ぼけやランアウ
ト誤差は全く問題にならない利点がある。しかしながら
、ＳＯＲリングが大型で、かつ光が水平に出るため、ウ
ェハテーブル面が垂直になること、およびＳＯＲリング
と独立してアライナを置かなければならないこと、とい
う制約が生じる。かかるアライナには、ウェハとマスク
のステージを一体的に有し、両者の超精密な位置決め精
度を要するので、外部からの振動を遮断するため、通常
空気バネ等の弾性部材を用いた防振装置が備えられてい
る。このことは、逆に、露光位置あわせのためアライナ
上のステージが高速移動する際、発生する負荷によりア
ライナ全体の姿勢が容易に変化することを意味し、ひい
ては、超微細パターンを形成する高精度の露光ができな
くなる欠点がある。
そこで本発明は、Ｘ線露光装置における、かかる欠点を
克服するために創作されたもので、当該アライナ本体を
、Ｘ線軸に垂直な面以外の変位を拘束するように固定ガ
イドに保持するようにした− ことを特徴とするもので
ある。
克服するために創作されたもので、当該アライナ本体を
、Ｘ線軸に垂直な面以外の変位を拘束するように固定ガ
イドに保持するようにした− ことを特徴とするもので
ある。
本発明の構成を添付図面に示す実施例により詳細に説明
する。
する。
第１図は本発明の実施例のＸ線露光装置の正面図、第２
図は第１図のＡ断面図、第３図は第１図の平面図、第４
図は第１図のＢ断面図を示す。
図は第１図のＡ断面図、第３図は第１図の平面図、第４
図は第１図のＢ断面図を示す。
これらの図において、１はアライナ本体、２はアライナ
本体１の上側に固定された移動ガイド、３は固定フレー
ム７の上側に固定された１対の固定ガイド、４はアライ
ナ本体１の下側に固定された移動ガイド、５はベース１
０上に固定された１対の固定ガイド、６は空気バネで、
ベース１０上でアライナ本体１を防振支持している。８
はウェハステージ、９はマスクステージ、１１はＸ線窓
を示す。なお、前記移動ガイド２．４は、図示しないが
、固定ガイド３．５により圧縮空気を噴出して形成され
た圧力空気層でガイドされている。
本体１の上側に固定された移動ガイド、３は固定フレー
ム７の上側に固定された１対の固定ガイド、４はアライ
ナ本体１の下側に固定された移動ガイド、５はベース１
０上に固定された１対の固定ガイド、６は空気バネで、
ベース１０上でアライナ本体１を防振支持している。８
はウェハステージ、９はマスクステージ、１１はＸ線窓
を示す。なお、前記移動ガイド２．４は、図示しないが
、固定ガイド３．５により圧縮空気を噴出して形成され
た圧力空気層でガイドされている。
しかして、本実施例のＸ線露光装置は、ＳＯＲリングよ
り発生するＸ線を光源として、Ｘ線の吸収の多い材質の
パターンで形成された、マスクステージの上のマスクを
通過させ、ウェハステージ８上のウェハに照射し焼付け
を行うものである。
り発生するＸ線を光源として、Ｘ線の吸収の多い材質の
パターンで形成された、マスクステージの上のマスクを
通過させ、ウェハステージ８上のウェハに照射し焼付け
を行うものである。
ここにおいて、Ｘ線の光源はアライナ本体１とは分離し
ているので、この光源に対しアライナ本体１の姿勢を精
度よく保持する必要があり、また、アライナ本体１は外
部からの振動の影響を遮断する必要があるため、前記の
ような空気バネ６で支持されているので、アライナ本体
１は若干の負荷変動によってもその姿勢が変化し易い状
態となっている。
ているので、この光源に対しアライナ本体１の姿勢を精
度よく保持する必要があり、また、アライナ本体１は外
部からの振動の影響を遮断する必要があるため、前記の
ような空気バネ６で支持されているので、アライナ本体
１は若干の負荷変動によってもその姿勢が変化し易い状
態となっている。
かかる状態で、ウェハステージ８およびマスクステージ
９を制御装置（図示せず）により、それぞれ高速で変位
させながら相互に位置合せを行うが、その制御の結果、
アライナ本体１の重心が変化し、しかも、各ステージ８
．９を高速駆動して制御する力の反力により、アライナ
本体１を支持する各空気バネ６に作用する力が変化する
ことになる。したがって、空気バネ６に変位が生じ、ア
ライナ本体１が傾くことになるが、本実施例によれば、
上下の移動ガイド２．４は、このアライナ本体１の、光
軸に垂直面内での変位のみを許容してアライナ本体ｌを
精度よくガイドする。しかして、平行状態のマスクとウ
ェハとはＸ線の光軸に垂直であるため、位置ずれが発生
せず、高精度の焼付けを行うことができる。
９を制御装置（図示せず）により、それぞれ高速で変位
させながら相互に位置合せを行うが、その制御の結果、
アライナ本体１の重心が変化し、しかも、各ステージ８
．９を高速駆動して制御する力の反力により、アライナ
本体１を支持する各空気バネ６に作用する力が変化する
ことになる。したがって、空気バネ６に変位が生じ、ア
ライナ本体１が傾くことになるが、本実施例によれば、
上下の移動ガイド２．４は、このアライナ本体１の、光
軸に垂直面内での変位のみを許容してアライナ本体ｌを
精度よくガイドする。しかして、平行状態のマスクとウ
ェハとはＸ線の光軸に垂直であるため、位置ずれが発生
せず、高精度の焼付けを行うことができる。
なお、これを更に詳しくいえば、ＳＯＲを光源とするＸ
線は平行性が良好であるので、ＳＯＲ光軸に対し露面が
垂直に保持さえしておれば、すなわち、マスク１２とウ
ェハ１３とが平行に保持されていて、かつこれらが光軸
に垂直にさえなっておれば、位置ずれは生じない。その
垂直の許容範囲は、第５図において、ｈ＝４０μｍのと
き、ズレΔｌを０．０１μｍ以下にするためには、傾き
角θを θ＜０．０１４” 以下にしなければならない。換言すれば、マスク１２と
ウェハ１３が平行で、アライナ本体１が角度θだけ傾く
と、ウェハ面上でΔｌだけの誤差が発生する。したがっ
て、ＳＯＲ光軸（Ｚ軸）回り以外の回転は、前記傾き角
取下に制御する必要が生じる。そこで、本実施例によれ
ば、Ｚ軸回り以外の回転は、移動ガイド２．４が静圧エ
アガイドを介して固定ガイド３．５に精密にガイドされ
、拘束されるので、精密焼付が可能となるのである。
線は平行性が良好であるので、ＳＯＲ光軸に対し露面が
垂直に保持さえしておれば、すなわち、マスク１２とウ
ェハ１３とが平行に保持されていて、かつこれらが光軸
に垂直にさえなっておれば、位置ずれは生じない。その
垂直の許容範囲は、第５図において、ｈ＝４０μｍのと
き、ズレΔｌを０．０１μｍ以下にするためには、傾き
角θを θ＜０．０１４” 以下にしなければならない。換言すれば、マスク１２と
ウェハ１３が平行で、アライナ本体１が角度θだけ傾く
と、ウェハ面上でΔｌだけの誤差が発生する。したがっ
て、ＳＯＲ光軸（Ｚ軸）回り以外の回転は、前記傾き角
取下に制御する必要が生じる。そこで、本実施例によれ
ば、Ｚ軸回り以外の回転は、移動ガイド２．４が静圧エ
アガイドを介して固定ガイド３．５に精密にガイドされ
、拘束されるので、精密焼付が可能となるのである。
なお、本実施例は、上下方向の移動ガイドおよび固定ガ
イドで説明したが、本発明はこれに限らず、左右方向の
移動ガイドおよび固定ガイドを設けてもよく、また、各
ガイドを２本のガイドで構成し、剛性を増加してもよい
。更に、本実施例の空気バネは電磁力を利用して防振装
置に代替してもよい。
イドで説明したが、本発明はこれに限らず、左右方向の
移動ガイドおよび固定ガイドを設けてもよく、また、各
ガイドを２本のガイドで構成し、剛性を増加してもよい
。更に、本実施例の空気バネは電磁力を利用して防振装
置に代替してもよい。
マスクおよびウェハを有するアライナ本体を、単にＸ線
軸に垂直な面以外の変位を拘束するように固定ガイドに
保持しているので、きわめて簡単な構造でありながら高
精密な焼付けを行うことができる。
軸に垂直な面以外の変位を拘束するように固定ガイドに
保持しているので、きわめて簡単な構造でありながら高
精密な焼付けを行うことができる。
第１図は本発明の実施例のＸ線露光装置の正面図、第２
図は第１図のＡ断面図、第３図は第１図の平面図、第４
図は第１図のＢ断面図、第５図は傾き角説明図を示す。 １・・・アライナ本体、２．４・・・移動ガイド、３゜
５・・・固定ガイド、６・・・空気バネ、７・・・固定
フレーム、８・・・ウェハステージ、９・・・マスクス
テージ、１０・・・ベース。 第３図 第４図
図は第１図のＡ断面図、第３図は第１図の平面図、第４
図は第１図のＢ断面図、第５図は傾き角説明図を示す。 １・・・アライナ本体、２．４・・・移動ガイド、３゜
５・・・固定ガイド、６・・・空気バネ、７・・・固定
フレーム、８・・・ウェハステージ、９・・・マスクス
テージ、１０・・・ベース。 第３図 第４図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ＳＯＲのＸ線光源から分離され、かつウェハステージ
およびマスクステージを一体的に有するアライナ本体で
あって、 該アライナ本体は、弾性部材にて固定部に揺動自在に支
持されるとともに、前記Ｘ線軸に垂直な面以外の変位を
拘束するように固定ガイドに保持させられていることを
特徴とする半導体製造用Ｘ線露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63000676A JPH01179419A (ja) | 1988-01-07 | 1988-01-07 | 半導体素子製造用ｘ線露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63000676A JPH01179419A (ja) | 1988-01-07 | 1988-01-07 | 半導体素子製造用ｘ線露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01179419A true JPH01179419A (ja) | 1989-07-17 |
Family
ID=11480350
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63000676A Pending JPH01179419A (ja) | 1988-01-07 | 1988-01-07 | 半導体素子製造用ｘ線露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01179419A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102563330A (zh) * | 2010-12-30 | 2012-07-11 | 上海微电子装备有限公司 | 工件台安全保护装置 |
-
1988
- 1988-01-07 JP JP63000676A patent/JPH01179419A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102563330A (zh) * | 2010-12-30 | 2012-07-11 | 上海微电子装备有限公司 | 工件台安全保护装置 |
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