DE68922798T2 - Montierverfahren. - Google Patents
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Description
- Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf eine Vakuumvorrichtung, insbesondere eine solche, bei welcher ein Präzisionsgerät in einem Vakuumbehälter befestigt ist, welcher beim Gebrauch mit einem Unterdruck beaufschlagt wird. Die Erfindung ist bei einer sogenannten Synchronorbit-Bestrahlungs- bzw. SOR-Röntgen-Bestrahlungsvorrichtung anwendbar, bei welcher eine Maske und eine Halbleiterscheibe bzw. ein Halbleiterwafer in einer Unterdruckkammer angeordnet werden und eine Bestrahlungsenergie wie zum Beispiel in einer Synchrotronstrahlung enthaltene Röntgenstrahlen durch die Maske hindurch auf den Wafer projiziert wird, wodurch folglich das Muster der Maske auf den Wafer übertragen wird. Insbesondere bezieht sie sich auf eine Vorrichtung, bei welcher ein Präzisionsgerät zum Halten einer Maske und/oder eines Wafers im Inneren des Vakuumbehälter montiert bzw. befestigt ist.
- Zuerst wird auf Fig. 8A und 8B Bezug genommen, in denen eine herkömmliche Befestigung eines Präzisionsgeräts im Inneren eines Vakuumbehälters gezeigt ist. Fig. 8A zeigt den Behälter, wenn der Außendruck gleich dem Innendruck ist. Ein Präzisionsgerät 51 ist mittels Schrauben o. dgl. an mehreren Stellen direkt an dem Vakuumbehälter 52 befestigt. Der Montage- bzw. Befestigungsvorgang wird ausgeführt, während der Innendruck des Vakuumbehälters 2 der normale atmosphärische Druck oder ein diesem angenäherter Druck ist, wobei der Druck nach dem Befestigungsvorgang auf das Soll-Vakuumniveau reduziert wird.
- Fig. 9 zeigt eine herkömmliche Röntgen-Bestrahlungsvorrichtung, die einen Vakuumbehälter 61, einen Evakuierungsanschluß 71, eine bekannte Rotor-Röntgenquelle 71, einen Röntgenquellen-Halterahmen 72 aufweist. Die Röntgenstrahlen sind durch ein Bezugszeichen 73 bezeichnet. Eine Maske 74 mit einem feinen Muster ist durch einen Masken-Halterahmen 75 gehalten. Ein Wafer 62 ist auf einem Waferhaltetisch 63 gehalten, welcher auf einem Hauptrahmen 67 gelagert ist. Der Vakuumbehälter 61 und der Hauptrahmen 67 sind durch Schenkel 76 gekoppelt. Eine Antischwingungs- bzw. Schwingungsdämpfungseinheit 70 ist geschaffen, um die gesamte Vorrichtung vor Schwingungen zu schützen.
- Wenn der Innendruck der Vakuumkammer 52 gemäß Fig. 8A reduziert wird, nachdem das Gerät montiert ist, würde sich der Vakuumbehälter 52, wenn er dünnwandig ist, aufgrund der Differenz zwischen dem Außendruck (normaler atmosphärischer Druck) und dem Innendruck zusammenziehen und leicht verformen. Die Verformung cler Vakuumkammer 52 erzeugt eine äußere Kraft auf das Präzisionsgerät 51, die an mehreren Befestigungspunkten aufgebracht wird. Fig. 88 ist eine Schnittansicht, welche die Erzeugung der äußeren Kraft an dem Präzisionsgerät, wenn der Druck reduziert wird, veranschaulicht. Die äußere Kraft ist durch die Pfeile gezeigt.
- Wenn die äußere Kraft groß ist, werden die Bestandteile des Präzisionsgeräts 51 sogar in einem solchen Ausmaß in ihren elektrischen, mechanischen und/oder optischen Eigenschaften geändert, daß das Präzisionsgerät 51 beschädigt werden würde. Selbst wenn die äußere Kraft klein ist, würde die Funktion des Präzisionsgeräts 51 verschlechtert werden, wenn eine hohe Genauigkeit bei der Positionsbeziehung zwischen dem innen befindlichen Präzisionsgerät 51 und einem außen befindlichen Gerät erforderlich ist. Um diese äußere Kraft zu reduzieren oder zu vermeiden, ist es herkömmlicherweise üblich, einen dünnwandigen Vakuumbehälter 52 zu verwenden und dem Behälter 52 Rippen hinzuzufügen, was jedoch in einer Konstruktion mit hohem Gewicht und hohen Kosten resultiert.
- Bei der in Fig. 9 gezeigten Röntgen-Bestrahlungsvorrichtung wird die Justierung der verschiedenen Geräte und Mechanismen in dem Vakuumbehälter 61 ausgeführt, wenn der Vakuumbehälter 61 mit atmosphärischem Druck in Verbindung steht. Nach dem Abschluß der Justierungen wird der Druck im Vakuumbehälter durch den Evakuierungsanschluß 71 reduziert, um in dem Behälter 61 das Soll-Vakuumniveau zu schaffen. Deshalb wird, ähnlich wie bei der Vorrichtung gemäß Fig. 8A, wenn der Druck reduziert wird, aufgrund der Differenz zwischen dem inneren und dem äußeren Druck eine große Kraft erzeugt, die auf die Wand des Behälters 61 wirkt. Diese würde die Wand des Behälters verformen, wenn sie dünnwandig ware. Die Behälterwand wird durch die Schwankung des Umgebungsdrucks beeinflußt, und der Betrag der Verformung ändert sich dementsprechend. Da die Behälterwand und der Hauptrahmen 67 mittels einer Vielzahl von Kopplungsschenkein 76 feststehend befestigt sind, resultiert die Verformung der Behälterwand in einer äußeren Kraft auf den Hauptrahmen 67. Im Ergebnis wird der Hauptrahmen 67 verformt. Der Hauptrahmen 67 ist eine Bezugsbasis der Bestrahlungsvorrichtung, und an dem Hauptrahmen 67 sind ein Meßsystem (nicht gezeigt) zum Positionieren des Waferhaltetischs 63 und der Maskenhalterahmen 75 befestigt, und deshalb würde die Verformung des Hauptrahmens 67 die Bestrahlungsfunktion bzw. -effizienz der Vorrichtung verschlechtern.
- Um diesem Problem zu begegnen, wird in Betracht gezogen, daß die Dicke der Behälterwand vergrößert wird, um die Verformung zu unterdrücken, oder die Steifigkeit des Hauptrahmens 67 wird gesteigert, so daß die Verformung des Hauptrahmens 7 reduziert wird. Ähnlich wie in dem Fall der Vorrichtung gemäß Fig. 8A werden jedoch die Größe, das Gewicht und die Herstellungskosten der Vorrichtung gesteigert.
- Demgemäß ist es eine Hauptaufgabe der vorliegenden Erfindung, Befestigungseinrichtungen zu schaffen, so daß die Übertragung einer äußeren Kraft aufgrund des reduzierten Innendrucks des Behälters minimiert wird, um eine Beschädigung zu verhindern oder um eine Funktionsverschlechterung des Geräts zu verhindern.
- Dies wird durch eine Vakuumvorrichtung gemäß Anspruch 1 erreicht. Demgemäß wird ein Befestigungselement geschaffen, um die äußere Kraft zu absorbieren, die andernfalls aufgrund der Verformung des Vakuumbehälters wie zum Beispiel einer Zusammenziehung, Ausdehnung oder Biegung zu dem Gerät übertragen werden würde. Dadurch wird der Einfluß einer Reduzierung des Vakuumbehälter-Drucks auf das Gerät verringert, um eine Funktionsverschlechterung des Geräts zu verhindern.
- Das geschaffene Befestigungselement kann zum Beispiel ein Gelenkmechanismus, insbesondere ein paralleler Gelenkmechanismus sein.
- Diese und andere Aufgaben, Merkmale und Vorteile der vorliegenden Erfindung werden unter Einbeziehung der folgenden Beschreibung der bevorzugten Ausführungsbeispiele der vorliegenden Erfindung in Verbindung mit den beiliegenden Zeichnungen deutlicher verständlich.
- Fig. 1A und 1B sind perspektivische Ansichten, die eine Vakuumvorrichtung gemäß einem Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung zeigen.
- Fig. 2A und 2B sind perspektivische Ansichten, die Details der Befestigungseinrichtung veranschaulichen.
- Fig. 3 ist eine perspektivische Ansicht einer Vorrichtung gemäß einem anderen Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung.
- Fig. 4 ist eine perspektivische Ansicht einer Vorrichtung (Drei-Punkt-Befestigung) gemäß einem weiteren Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung.
- Fig. 5A und 5B sind Schnittansichten, welche die Details der Befestigungsstruktur an einem dritten Befestigungspunkt bei dem in Fig. 4 gezeigten Ausführungsbeispiel veranschaulichen.
- Fig. 6A und 6B sind Schnittansichten einer SOR-Röntgen- Bestrahlungsvorrichtung gemäß einem weiteren anderen Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung.
- Fig. 7A und 7B zeigen eine SOR-Röntgen-Bestrahlungsvorrich- tung gemäß einem anderen Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung.
- Fig. 8A und 8B zeigen ein Beispiel eines dünnwandigen Vakuumbehälters, und
- Fig. 9 zeigt ein Beispiel einer herkömmlichen Röntgen- Bestrahlungsvorrichtung.
- Die folgende detaillierte Beschreibung wird anhand von Beispielen vorgenommen.
- In Fig. 1 ist eine Vorrichtung gemäß einem Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung gezeigt, wobei die Links- Rechts-Richtung, eine vertikale Richtung und eine Vorn- Hinten-Richtung in einem x-y-z-Koordinatensystem durch x, y und z bezeichnet sind. Diese Richtungen gelten für die nachfolgenden Zeichnungen. Ein Präzisionsgerät 1 in Form einer Einheit befindet sich im Innern eines Vakuumbehälters, dessen Innendruck auf einem Soll-Unterdruckniveau gehalten wird, wenn er im Gebrauch ist. Befestigungselemente 3 und 4 sind geschaffen, um das Präzisionsgerät 1 in dem Vakuumbehälter 2 aufzuhängen. Die Befestigungselemente 3 und 4 sind in der Richtung x um einen festgelegten Abstand voneinander beabstandet.
- Wie in Fig. 2A gezeigt ist, weist das Befestigungselement 3 einen Stab 3a auf, der angrenzend seines längs verlaufenden mittleren Abschnitts einen Abschnitt 3b mit reduziertem Durchmesser hat. Dieser dient dazu, eine lineare Verschiebung des Präzisionsgeräts 1 relativ zu den Wänden der Vakuumkammer 2 in allen der Richtungen x, y und z einzuschränken, während die Drehbewegung des Präzisionsgeräts 1 in dem Vakuumbehälter 2 um die x-, y- und z-Achsen erlaubt ist, wodurch folglich ein Gelenkmechanismus geschaffen wird. Das Befestigungselement 3 ist sowohl an dem Präzisionsgerät 1 als auch an dem Vakuumbehälter 2 befestigt. Das Befestigungselement 4 hat, wie in Fig. 28 gezeigt ist, die Form von parallelen Blattfedern 4a und 4b, die sich in die Richtung x erstrecken. Dieses Element wird durch das Aushöhlen einer Menge eines Materials hergestellt. Das Befestigungselement 4 dient dazu, eine lineare Bewegung in die Richtung x relativ zu dem Vakuumbehälter 2 zu erlauben, während lineare Verschiebungen in die Richtungen y und z eingeschränkt werden, wodurch folglich ein paralleler Gelenkmechanismus geschaffen wird. Das Befestigungselement 4 ist zwischen dem Präzisionsgerät 1 und dem Vakuumbehälter 2 befestigt, um die Drehung des Präzisionsgeräts 1 relativ zu dem Vakuumbehälter 2 um die Achsen x, y und z nicht einzuschränken.
- Gemäß Fig. 1A wurde ein Feingerät 1 in dem Vakuumbehälter 2 befestigt, und das Innere des Vakuumbehälters 2 steht mit der äußeren Umgebung in Verbindung, so daß der Innendruck des Behälters gleich dem Außendruck (dem atmosphärischen Druck) ist, oder derart aufrechterhalten wird, daß er etwas geringer als dieser ist. Gemäß Fig. 18 wird der Innendruck des Vakuumbehälters 2 mittels einer nicht gezeigten Vakuumpumpe auf ein Soll-Unterdruckniveau verringert. Gemäß Fig. 1B werden die Wände des Vakuumbehälters 2 aufgrund der Differenz zwischen dem Innendruck und dem Außendruck zusammengezogen und verformt. Insbesondere wird der kubische Vakuumbehälter 2 bei diesem Ausführungsbeispiel derart verformt, daß der mittlere Abschnitt der jeweiligen Wände nach innen verschoben wird.
- Selbst wenn der Vakuumbehälter 2 auf diese Weise zusammengezogen und verformt wird, absorbieren bei diesem Ausführungsbeispiel die Befestigungselemente 3 und 4, welche den vorhergehend beschriebenen Aufbau haben, die Verformung des Behälter 2, und deshalb wird auf das Präzisionsgerät 1 nur die Kraft übertragen, die als die Reaktionskraft zum Verformen der Befestigungselemente 3 und 4 erforderlich ist. Die Kraft kann durch die Formen und Materialien der Befestigungselemente 3 und 4 festgelegt werden. Dadurch, daß diese in geeigneter Weise ausgewählt werden, kann die Größenordnung der äußeren Kraft in ausreichendem Maße reduziert werden. Bei einer solchen Vorgehensweise kann das Präzisionsgerät 1, wenn der Vakuumbehälter 2 von dem Zustand gemäß Fig. 1A in den Zustand gemäß Fig. 1B verformt wird, gemäß diesem Ausführungsbeispiel in korrekter Weise in der festgelegten Position entsprechend den x-y-z-Koordinaten beibehalten werden.
- In Fig. 3 ist ein anderes Ausführungsbeispiel gezeigt, bei dem die Positionen der Befestigungselemente 3 und 4 derart gewählt sind, daß die Verformung aufgrund der Druckreduzierung, insbesondere in der Umgebung 2a und 2b der Kanten des kubischen Vakuumbehälters 2, gering ist. Bei diesem Ausführungsbeispiel sind entlang der Kanten 2a und 2b Verstärkungsplatten 5a und 5b befestigt, um die Steifigkeit der Stelle weiter zu verstärken, an der die Befestigungselemente 3 und 4 geschaffen sind. Dadurch kann die Veränderung der Position des Präzisionsgeräts 1 aufgrund der Druckreduzierung weiter verringert werden. Diese Befestigungsanordnung ist insbesondere dann vorteilhaft, wenn zwischen dem Präzisionsgerät 1 und einem anderen Gerät, das außerhalb des Vakuumbehälters 2 angeordnet ist, eine hochgenaue relative Positionsbeziehung gewünscht ist.
- In Fig. 4 ist ein Ausführungsbeispiel gezeigt, bei welchem die Drehverschiebung des Präzisionsgeräts 1 um die Achse x relativ zu dem Vakuumbehälter 2 eingeschränkt ist. Bei dem vorhergehenden Ausführungsbeispiel beträgt die Anzahl der Befestigungselemente zwei. Bei dem vorliegenden Ausführungsbeispiel wird an der Unterseite des Präzisionsgeräts 1 ein zusätzliches Befestigungselement 6 verwendet, um nur die z-Richtungs-Verschiebung des Präzisionsgeräts 1 relativ zu dem Vakuumbehälter 2 einzuschränken. Dadurch kann eine Schwenkbewegung des Präzisionsgeräts 1 um die x-Achse unterdrückt werden.
- Fig. 5A und 5B veranschaulichen die Details des Befestigungselements 6. Das Befestigungselement 6 weist einen bekannten Kugelsitzmechanismus 7 auf. Ein bewegbares Element 7b ist relativ zu dem Gehäuse 7a um die x-Achse, y- Achse und z-Achse drehbar, wie in Fig. 5A gezeigt ist, und gleichzeitig ist das bewegbare Element 7b in die Richtungen x und y bewegbar, während es in der Richtung z eingeschränkt ist, wie in Fig. 58 gezeigt ist. Ein L-förmiger Stab 8 ist an seinem Ende an dem Präzisionsgerät 1 befestigt, und ist mit seinem anderen Ende auch an dem bewegbaren Element 7b befestigt. Das Gehäuse 7a des Kugelsitzmechanismus 7 ist angrenzend einer Ecke 2c an der Seitenwand des Vakuumbehälters 2 befestigt. Das Ende des Stabs 8 ist an einer Position, welche im wesentlichen die Mitte der Bodenfläche des Präzisionsgeräts 1 in der Richtung x ist, mit dem Präzisionsgerät 1 verbunden.
- Mit Bezug auf Fig. 6 wird eine SOR-Röntgen-Bestrahlungsvorrichtung beschrieben. Bei dieser Vorrichtung sind eine Maske und ein Wafer in einer Umgebung mit einem Soll-Unterdruck angeordnet, und die Bestrahlungsenergie wie zum Beispiel die in einer Synchrotronstrahlung enthaltenen Röntgenstrahlen wird durch die Maske hindurch auf den Wafer aufgebracht, um das Muster der Maske auf den Wafer zu übertragen.
- Fig. 6A und 6B sind eine Vorder- und eine Seitenansicht der Vorrichtung. Ein Vakuumbehälter 11 dient dazu, in der Bestrahlungsumgebung rund um eine nicht gezeigte Maske und einen Wafer 12 den Unterdruck beizubehalten. Ein X-Tisch 13 bewegt den Wafer 12 in die Richtung x, wenn die Beschußbzw. Aufnahmebereiche des Wafers 12 nacheinander auf eine Schritt-und-Wiederholungs-Weise (Step-and-Repeat) mit dem Muster der Maske belichtet werden. Der x-Tisch 13 wird mittels eines x-Achsen-Führungsstabs geführt. Ähnlich wie der x-Tisch 13 bewegt ein y-Tisch 15 den Wafer 12 während der Schritt-und-Wiederholungs-Bestrahlung (Step-and Repeat- Bestrahlung) in die Richtung y. Der y-Tisch 15 wird mittels eines y-Achsen-Führungsstabs geführt. Der x-Achsen- Führungsstab 14 ist feststehend an dem y-Tisch 15 befestigt. Ein Hauptrahmen 17 lagert den y-Tisch 15 mittels des y-Achsen-Führungsstabs 16. Ein Befestigungselement 18, das einen Kugelsitz aufweist, und ein Befestigungselement 19 dienen dazu, den Hauptrahmen 17 in dem Vakuumbehälter 11 aufzuhängen. Die Funktionsweise der Befestigungselemente ist ähnlich der der in Verbindung mit Fig. 1 beschriebenen Befestigungselemente 3 und 4. Ein Befestigungselement 35, das einen streifenden Kugelsitz aufweist, hat die gleichen Funktionen wie das in Fig. 4 und 5A und 5B gezeigte Befestigungselement 6. Die Vorrichtung weist ferner eine Schwingungsdämpfungseinheit 20 für den Vakuumbehälter 11, einen Vakuum-Evakuierungsanschluß 21, der mit einer nicht gezeigten Vakuumpumpe verbunden ist, eine Laserquelle 22 für ein Laser-Interferometer zum Bestimmen der Positionen des x-Tischs 13 und des y-Tischs 15, einen optischen Laserpfad 23, Halbspiegel 24, 25 und 31, einen Bezugsspiegel 26 zum Bestimmen der Position des x-Tischs 13, eine Erfassungseinrichtung 27 für das Interferometer, um die Position des x-Tischs 13 zu bestimmen, einen zusammen mit dem x-Tisch 13 bewegbaren quadratischen Spiegel 28, einen Bezugsspiegel 30 zum Bestimmen der Position des y-Tischs 15 und eine Erfassungseinrichtung 29 für das Interferometer auf, um die Position des y-Tischs zu bestimmen. Der Anschluß 21 ist in dem Vakuumbehälter 11 ausgebildet. Die vorhergehend genannten Elemente zum Bestimmen der Position des x-Tischs 13 und des y-Tischs 15 sind an dem Hauptrahmen 17 befestigt. Diese Vorrichtung wird auf die folgende Weise zusammengebaut. Zuerst wird der y-Achsen-Führungsstab 16 montiert, um die Bewegungsgenauigkeit des y-Tischs 15 relativ zu einem in dem Hautrahmen 17 geschaffenen Bezugspunkt zu sichern. Als nächstes wird der x-Führungsstab 14 montiert, um die senkrechte Richtung der Bewegung des x- Tischs 13 relativ zu der Richtung der Bewegung des y-Tischs 15 zu sichern. Das Positionsmeßsystem für den x-Tisch 13 und den y-Tisch 15 wird im ganzen an den Hauptrahmen 17 montiert und die optischen Achsen werden genau justiert. Die vorhergehend genannten Montage- und Justiervorgänge werden bei normalen atmosphärischen Druck ausgeführt. Danach wird eine nicht gezeigte Tür des Behälter 11 geschlossen, und die Luft wird mittels der nicht gezeigten Vakuumpumpe durch den Evakuierungsanschluß 21 hindurch aus dem Behälter abgegeben. Mit Bezug auf die Position des Hauptrahmens 17 relativ zu den Wänden des Behälters 11 schränkt das Befestigungselement 18 mit dem Kugelsitz diesen nur in der y-Richtung ein, und schränkt das Halteelement 35 mit dem streifenden Kugelsitz diesen nur in der z-Richtung ein. Das Befestigungselement 19 schränkt den Hauptrahmen 17 in allen Richtungen ein, um die Position des Hauptrahmens 17 relativ zur Wand des Behälter zu sichern. Selbst wenn sich die Behälterwände aufgrund der vorstehend beschriebenen Abgabe der Luft verformen, und Verformungen der oberen und der unteren Fläche 11a und 11b (Fig. 6B) des Behälters, welche mit Befestigungselementen 18, 19 und 35 für den Hauptrahmen 17 versehen sind, in allen Richtungen, und zwar in den Richtungen x, y und z und in den Drehrichtungen um die x-Achse, die y-Achse und die z-Achse erzeugt werden, bleibt der Hauptrahmen 17 frei von Verformung, wenn sich die Verformung innerhalb des Bewegungsbereiches der zwei Kugelsitze befindet.
- Bei diesem Ausführungsbeispiel wird zum Aufnehmen der Verformung ein Kugelsitz angewandt, aber dieser kann durch einen Blattfederaufbau oder einen Gleitmechanismus ersetzt werden.
- Mit Bezug auf Fig. 7 wird ein anderes Ausführungsbeispiel beschrieben, bei welchem der Vakuumbehälter 11 nicht auf Schwingungsdämpfungshalterungen 20 auf dem Boden angeordnet ist, sondern an einer Schwingungsdämpfungsbasis 38, die mittels der Schwingungsdämpfungseinheit gelagert ist, frei in eine SOR-Röntgen-Bestrahlungsvorrichtung hängt. Fig. 7A und 7B sind Vorder- und Seitenansichten der Vorrichtung. Ein L-Stab 39 hat ein Ende, das feststehend an der oberen Fläche des Vakuumbehälters 11 befestigt ist, und das andere Ende ist über ein Befestigungselement 41, das einen Kugelsitz hat, mit der unteren Fläche des Hauptrahmens 17 verbunden. Das Befestigungselement 41 hat ebenso wie das Befestigungselement 35 gemäß Fig. 6 die Funktion, die Verschiebung des Hauptrahmens 17 in die z-Richtung einzuschränken. Der Vakuumbehälter ist mittels eines Befestigungselements 45 und eines Befestigungselements 37, das einen Kugelsitz hat, frei an der Schwingungsdämpfungsbasis 38 aufgehängt. Das Befestigungselement 45 hat eine begrenzende Funktion in allen Richtungen, aber das Befestigungselement 37 mit dem Kugelsitz schränkt nur die Verschiebung der Vakuumkammer 11 in die y-Richtung relativ zu der Schwingungsdämpfungsbasis ein. Die Befestigungspunkte der Befestigungselemente 19 und 45 sind in der Richtung x ausgerichtet. In ähnlicher Weise befinden sich die Lagerpunkte der Befestigungselemente 18 und 37 entlang einer Linie, die sich in die Richtung y erstreckt.
- Das Ende des L-förmigen Stabs, dessen anderes Ende an der Schwingungsdämpfungsplatte 38 befestigt ist, ist durch das Befestigungselement 42, das einen Kugelsitz hat, mit der unteren Fläche der Vakuumkammer 11 verbunden. Ein Befestigungselement 42 schränkt die Bewegung des Vakuumbehälters 11 relativ zu der Schwingungsdämpfungsbasis 38 nur in der Richtung z ein. Die Lagerpunkte der Befestigungselemente 41 und 42 befinden sich auf einer Linie, die sich in die Richtung y erstreckt. Die anderen Strukturen sind die gleichen wie bei der Vorrichtung gemäß Fig. 6 und deren Beschreibung wird aus Gründen der Vereinfachung weggelassen. Gemäß diesem Ausführungsbeispiel wird die Verformung der Schwingungsdämpfungsbasis 38 durch ihr eigenes Gewicht nicht zu dem Hauptrahmen 17 übertragen.
- Wie im vorhergehenden beschrieben ist, ist gemäß der vorliegenden Erfindung das Befestigungselement zum Befestigen des Präzisionsgeräts an dem Vakuumbehälter verformbar oder drehbar, und deshalb kann die äußere Kraft, die aufgrund der aus der Reduzierung des Innendrucks resultierenden Verformung des Vakuumbehälters auf das Präzisionsgerät aufgebracht wird, signifikant reduziert werden. Dies dient dazu, eine Funktionsänderung oder Beschädigung des Präzisionsgeräts zu verhindern.
- Außerdem wird der Einfluß der Verformung des Vakuumbehälters nicht in signifikanter Weise zu dem innen befindlichen Präzisionsgerät übertragen, und deshalb kann ein Vakuumbehälter mit einer reduzierten Wanddicke verwendet werden, so daß das Gewicht der Vorrichtung reduziert werden kann. Wenn die vorliegende Erfindung bei einem Präzisionsgerät wie zum Beispiel einem Fein-Tisch o. dgl. angewandt wird, das in einer Halbleiter-Herstellungsvorrichtung o. dgl. verwendet wird, bestehen die Vorteile in einer sehr signifikanten Verbesserung der Funktion des Präzisionsgeräts, einer Reduzierung des Gewichts des gesamten Vorrichtung und einer Reduzierung der Größe der Vorrichtung.
- Während die Erfindung mit Bezug auf die hierin offenbarten Bauarten beschrieben wurde, ist sie nicht auf die dargelegten Details beschränkt, und diese Anmeldung soll solche Modifikationen oder Abänderungen abdecken, wie sie im Geltungsbereich der folgenden Ansprüche auftreten können.
Claims (16)
1. Vakuumvorrichtung, mit
einem Vakuumbehälter (2, 11), und
einem Präzisionsgerät (1, 13-17), das im Inneren des
Vakuumbehälters (2, 11) befestigt ist,
wobei die Vorrichtung dadurch gekennzeichnet ist, daß
der Vakuumbehälter (2, 11) dünne Wände hat und
folglich auf eine Reduzierung des Innendrucks hin relativ
leicht verformbar ist, und
das Präzisionsgerät (1, 13-17) im Inneren des
Vakuumbehälters (2, 11) befestigt ist und an diesem mittels
eines ersten und eines zweiten Befestigungselements (3,
4, 19, 18) frei aufgehängt ist, wobei das erste und das
zweite Befestigungselement (3, 4, 19, 18) in einer ersten
horizontalen Richtung (x) voneinander beabstandet sind,
wobei
das erste Befestigungselement (3, 19) eine relative
lineare Verschiebung zwischen dem Gerät (13-17) und dem
Vakuumbehälter (2, 11) in einer vertikalen Richtung (Y),
in der ersten horizontalen Richtung (X) und in einer
zweiten horizontalen Richtung (Z) senkrecht zu der ersten
horizontalen Richtung (X) einschränkt, während es die
relative Drehverschiebung um jede dieser Richtungen (X,
Y, Z) erlaubt, und
das zweite Befestigungselement (4, 18) eine relative
lineare Verschiebung zwischen dem Gerät (1, 13-17) und
dem Vakuumbehälter (2, 11) in der vertikalen Richtung (Y)
einschränkt, aber eine relative lineare Verschiebung in
der ersten horizontalen Richtung erlaubt, wodurch es dazu
dient, eine Verformung des Vakuumbehälters (2, 11) auf
die Reduzierung des Innendrucks hin zu absorbieren.
2. Vorrichtung gemäß Anspruch 1, wobei das zweite
Befestigungselement (4) in der ersten horizontalen
Richtung (X) flexibler als in der zweiten horizontalen
Richtung (Z) ist.
3. Vorrichtung gemäß Anspruch 2, wobei das zweite
Befestigungselement (4) aus einem parallelen
Blattfederelement (4, 4a, 4b) besteht.
4. Vorrichtung gemäß Anspruch 1, wobei das zweite
Befestigungselement (18) auch eine relative lineare
Verschiebung in die zweite horizontale Richtung (Z) erlaubt.
5. Vorrichtung gemäß Anspruch 4, wobei das zweite
Befestigungselement (18) aus einem Kugelsitzmechanismus
oder einem anderen Gleitmechanismus besteht.
6. Vorrichtung gemäß einem der vorangehenden Ansprüche 2
bis 5, wobei das erste Befestigungselement (3, 19) aus
einem Stabelement (3a) besteht, das angrenzend seines
längs verlaufenden mittleren Abschnitts einen Abschnitt
(3b) mit reduziertem Durchmesser aufweist.
7. Vorrichtung gemäß einem der vorangehenden Ansprüche,
bei welcher ein drittes Befestigungselement (6, 35, 39,
41) geschaffen ist, um eine relative Drehverschiebung
zwischen dem Gerät (1, 13-17) und dem Vakuumbehälter (2,
11) einzuschränken.
8. Vorrichtung gemäß Anspruch 7, wenn von einem der
Ansprüche 2 bis 6 abhängig, wobei das dritte
Befestigungselement (6, 35, 39, 41) an der Mitte der unteren
Fläche des Geräts (1, 13-17) in der ersten horizontalen
Richtung (X) befestigt ist und eine relative lineare
Verschiebung nur in der zweiten horizontalen Richtung (Z)
einschränkt.
9. Vorrichtung gemäß Anspruch 8, wobei das dritte
Befestigungselement (6, 35, 39, 41) einen
Kugelsitzmechanismus (6, 35, 41) aufweist.
10. Vorrichtung gemäß einem der vorangehenden Ansprüche,
wobei der Vakuumbehälter (2, 11) ein Quader ist, und eine
obere Wand, eine untere Wand, eine vordere und eine
hintere Wand und Seitenwände hat, und auf die Reduzierung
des Innendrucks hin durch die Einwärtsverschiebung des
mittleren Abschnitts jeder Wand verformbar ist, und
das Präzisionsgerät (1, 13-17) mittels des ersten und
des zweiten Befestigungselements (3, 4,18, 19) frei an
der oberen Wand des Vakuumbehälters (2, 11) aufgehängt
ist, wobei die Befestigungselemente voneinander
beabstandet sind und in der ersten horizontalen Richtung (x)
ausgerichtet sind, welche auch im wesentlichen parallel zu
der vorderen und der hinteren Wand ist.
11. Vorrichtung gemäß Anspruch 9 und 10, wobei das dritte
Befestigungselement (35) ein L-förmiges Element aufweist,
welches an der unteren Wand des Vakuumbehälters (11)
befestigt ist.
12. Vorrichtung gemäß Anspruch 9 und 10, wobei das dritte
Befestigungselement (39, 41) ein L-förmiges Element
aufweist, welches an der oberen Wand des Vakuumbehälters
(11) befestigt ist.
13. Vorrichtung gemäß Anspruch 12, wobei der
Vakuumbehälter (11) an einer Schwingungsdämpfungsbasis (38) frei
aufgehängt ist, die auf Schwingungsdämpfungshalterungen
(20) ruht, wobei der Vakuumbehälter (11) aufgehängt ist
mittels: eines vierten Befestigungselements (45), welches
eine relative lineare Verschiebung zwischen dem
Vakuumbehälter (11) und der Schwingungsdämpfungsbasis (38) in
der vertikalen Richtung (Y) und sowohl in der ersten als
auch in der zweiten horizontalen Richtung (X, Z)
einschränkt, eines fünften Befestigungselements (37), das
aus einem Kugelsitzmechanismus besteht, welcher nur in
der vertikalen Richtung eine relative lineare
Verschiebung einschränkt, und eines sechsten Befestigungselements
(40, 42), das ein L-förmiges Element (40) und einen
Kugelsitzmechanismus (42) aufweist, welches nur in der
zweiten horizontalen Richtung (Z) eine relative lineare
Verschiebung einschränkt,
und wobei in der Vorrichtung: das fünfte
Befestigungselement (37) mit dem einen (18) des Paars an
Befestigungselementen (18, 19) ausgerichtet ist, das vierte
Befestigungselement (45) mit dem anderen (19) des Paars
an Befestigungselementen (18, 19) ausgerichtet ist, und
der Kugelsitzmechanismus (42) des sechsten
Befestigungselements (40, 42) mit dem Kugelsitzmechanismus (41) des
dritten Befestigungselements (39, 41) ausgerichtet ist,
wobei alle in der vertikalen Richtung (Y) ausgerichtet
sind.
14. Vorrichtung gemäß einem der vorangehenden Ansprüche,
wobei das Präzisionsgerät (13-17) eine Tischvorrichtung
(13-17) aufweist.
15. Waferbestrahlungsvorrichtung mit
einer Vakuumvorrichtung gemäß Anspruch 14, und
einer externen Bestrahlungseinrichtung zum Bestrahlen
eines Wafers, der auf der Tischvorrichtung (13-17)
befestigt ist.
16. Vorrichtung gemäß Anspruch 15, wobei die externe
Bestrahlungseinrichtung eine Synchronorbit-Bestrahlungs-
(SOR)-Röntgenquelle aufweist.
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US4135688A (en) * | 1977-05-26 | 1979-01-23 | Westinghouse Electric Corp. | Anti-tilting resilient support system for aimed airborne pod-enclosed sensor instruments |
US4185202A (en) * | 1977-12-05 | 1980-01-22 | Bell Telephone Laboratories, Incorporated | X-ray lithography |
JPS595179B2 (ja) * | 1979-05-18 | 1984-02-03 | 富士通株式会社 | 真空機器の防振構造 |
DE3070953D1 (en) * | 1979-10-11 | 1985-09-12 | Eaton Optimetrix Inc | Improved shock and vibration isolation system |
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