JPS61265809A - ビスマス置換磁性ガーネットの製法 - Google Patents

ビスマス置換磁性ガーネットの製法

Info

Publication number
JPS61265809A
JPS61265809A JP10801185A JP10801185A JPS61265809A JP S61265809 A JPS61265809 A JP S61265809A JP 10801185 A JP10801185 A JP 10801185A JP 10801185 A JP10801185 A JP 10801185A JP S61265809 A JPS61265809 A JP S61265809A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
garnet
light
wavelength band
magnetic garnet
optical
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP10801185A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0666215B2 (ja
Inventor
Masahiko Kaneko
正彦 金子
Tsutomu Okamoto
勉 岡本
Hitoshi Tamada
仁志 玉田
Toshiro Yamada
山田 敏郎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Priority to JP60108011A priority Critical patent/JPH0666215B2/ja
Publication of JPS61265809A publication Critical patent/JPS61265809A/ja
Publication of JPH0666215B2 publication Critical patent/JPH0666215B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01FMAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
    • H01F10/00Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure
    • H01F10/08Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by magnetic layers
    • H01F10/10Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by magnetic layers characterised by the composition
    • H01F10/18Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by magnetic layers characterised by the composition being compounds
    • H01F10/20Ferrites
    • H01F10/24Garnets
    • H01F10/245Modifications for enhancing interaction with electromagnetic wave energy

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Compounds Of Iron (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
  • Thin Magnetic Films (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、例えば光アイソレータのファラデー回転素子
に通用する磁性ガーネット、特に0.8μmの波長帯(
0,8μmの波長帯とは0.8μmの波長を中心とする
0、75〜0.85μmの程度の波長範囲を一般に指称
するものであり、本明細書においてもこの波長範囲を指
称するものとする)に関して光吸収を小さくしたビスマ
ス(Bi)置換の磁性ガーネットに係わる。
一δ1 〔発明の概要〕 本発明は、ビスマス置換ツリウム磁性ガーネットにおい
て、その組成を特定することによってFe2+の存在に
よる特に0.8μm波長帯の光透過率の低下を回避する
〔従来の技術〕
例えば光ディスク、光磁気ディスク等における情報の記
録或いは(及び)読み出しをはじめとして、各種用途に
半導体レーザーの利用が広まっている。
ところが、このように半導体し−ザーを用いる場合、こ
れに戻り光があるとモードホフビングノイズが生じるな
どの不都合があることから、できるだげ、半導体レーザ
ーから発振した光が、再び半導体レーザーに戻ることが
ないように、この戻り光を遮断する光アイソレータの必
要性が高まっている。
この光アイソレータは、第6図にその概略的構成を示す
ように、ファラデー回転素子(1)を挟んで偏光子(2
)と検光子(3)とが配置されて成る。ファラデー回転
素子(1)は、マグネット(4)によって光軸方向に磁
場が与えられて、光源(5)例えば半導体レーザーから
偏光子(2)を通じて入射する直線偏光をその偏光面が
45°回転するようになされる。検光子(3)はこのフ
ァラデー回転素子(1)によって45°回転した偏光を
通過することができるようにその軸方向が選ばれていて
、これを通過した光が被照射面に照射するようになされ
ている。そして、この場合被照射面(6)からの反射光
、すなわち戻り光がある場合、この戻り光は、再び検光
子(3)を通過してファラデー回転素子(1)を通過し
、この時再び45゜回転されて偏光子(2)に向う、し
たがって、この偏光子(2)に向う戻り光は順方向の入
射光に対してその偏光面が90°回転していることにな
り、この偏光子(2)を通過することができず、光源(
4)に向うことができない。このように光アイソレータ
によれば、一方向すなわち順方向に関しては、光通過性
を有するがこれとは逆の方向に関しては遮断効果を奏す
ることができる。
このように光アイソレータは、逆方向の光を遮断する機
能を有するものであるが、順方向の光損失を小さくする
上でファラデー回転素子自体の光透過率はできるだけ大
きいことが望まれる。この光透過率を大きくするには、
ファラデー回転素子の厚さtは、できるだけ小さいこと
が望まれるが、この厚さtは、所要の回転角、上述の例
では45゜の回転角を得るために、成る厚さを必要とす
る。
45°回転する間の順方向損失L (dB)は、Lac
m           ・・・・(1)(但し、αは
光吸収係数、Fはファラデー回転能)で与えられるので
、Lを小さくするには、光吸収係数αが小さいものが必
要となる。
この光吸収係数αは、波長に依存するものであり、1.
3μm波長帯で代表されるような長波長帯については、
YIG  (イツトリウム・鉄・ガーネット)によるフ
ァラデー回転素子によって可成り満足するものが得られ
ている。
ところが、上述したような光ディスク、或いは光磁気デ
ィスク等の光源としては、AlGaAs系半導体レーザ
ーのような0.8μm波長帯の半導体レーザーが用いら
れんとする方向にあり、この0.8μm波長帯について
のファラデー回転素子の開発が望まれている。
一方、このようなファラデー回転素子に用いる磁性ガー
ネット、すなわち希土類鉄ガーネットを育成する方法と
しては、液相エピタキシーによって結晶膜を得るという
方法、すなわち原料融液中に例えばGGG  (ガドリ
ニウム・ガリウム・ガーネット)基板を浸漬し、この基
板を引上げることによってこの基板上に磁性ガーネット
膜を育成するという方法が量産性にすぐれているもので
あるが、この場合、この液相エピタキシーの融液には、
フラックスが添加される。このフラックスとしては、通
常PbOが用いられる。ところが、このPbOをフラッ
クスとして用いた場合、その育成された結晶膜中にPb
2+の一部が混入することは避けられないものであり、
これによって光の吸収損失を低めることが難しくなる。
尚、PbOフランクスによる場合においても、その結晶
膜の育成温度をコントロールすることによって光吸収を
下げることができるという報告もなされている(ジャー
ナル オブアプライド フィジックス(Journal
 of AppliedPhysics ) Vol、
45 P 2867〜2873 July 1974)
ところであるが、これについても、0.8μm波長帯で
は有効なものではない。
そこでPb2+が混入することのないように、B i2
03のみをフラックスとする融液を用いて液相エピタキ
シーによってBi置換の磁性ガーネット膜、すなわち希
土類の一部をBiで置換した磁性ガーネット膜を育成す
ることが考えられる(ジャーナル オブ エレクトロ 
ケミカル ソサイアテイ (Jounalof Ele
ctrochemical 5ociety)  Vo
l、123 P 1248〜12491976 )。
ところが、実際上、このような方法によってBi置換の
磁性ガーネットを育成しても、光吸収の低下は充分得ら
れない。これは、本来Bi置換の磁性ガーネットの組成
は、例えば (T1132+、3 Biンt )  (Fed”、、
) Ga3□”、o )lh2・・・・(2)であるべ
きものが、実際には、 Tm32″、3Bi’、)”、t Fe3”:(H5’
 FeL”、o−26−5’ Gaセo Pt”5’O
’12−δ・・・・(3) で示されるようなPt4+および酸素空席の発生によっ
て2価のFeイオンが発生してこれにより光吸収が生じ
るものと思われる。
しかしながら融液によっては酸素空席が生じないものも
ある。そしてptの混入は、液相エピタキシーに際して
用いられるるつぼがptであることによって、このるつ
ぼのptが融液中に拡散して生じるものである。
尚、液相エピタキシーによって磁気異方性を有するガー
ネット膜を得る方法として、フラックスにCaCO3を
添加したものの報告(マティリアルリサーチ プルテン
(Material Re5earch Bullte
inVol、11. P 337〜346.1976 
)があるが、この場合、そのフラックスはB T203
単独のものではなく、Bi2O3と共に、CeO7/に
20.或いはSiO2/ Na2O等が添加されるもの
であり、しかも光吸収についての究明はなされていない
〔発明が解決しようとする問題点〕
前述したように従来方法によって得られるBi置換磁性
ガーネットによっても、0.8μ秦波長帯に関して光吸
収が充分小さいものが得られていないことに問題点があ
る。
本発明は、このような問題点を解消するものであり、0
.8μ−波長帯において高い透過率を有し、例えば光デ
ィスク、光磁気ディスクの記録・再生装置において、こ
の光源として0.8μ−波長帯の半導体レーザーを用い
た場合の戻り光防止の光アイソレータのファラデー回転
素子として用いて好適ならしめたBi置換磁気ガーネッ
トとその製法を提供するものである。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明においては、ビスマス置換ガーネットを、光吸収
の小さいガーネット基板上にB12Chとガーネット構
成元素のみよりなる融液から液相エピタキシャル(以下
LPEという)によって次に述べる特定組成の磁性ガー
ネットを育成する。
すなわち、本発明においては、 Tag−x−61Bi)< H”61Fes−y−δ2
−δ3 M”62M”yPtδ3012−δ鴫・・・・
(+) の組成を有し、Xを0.5≦X≦2.0に選定し、yを
O≦y≦2.0に選定し、63  0.003≦61+
δ2≦63 + 0.003とする。
〔作用〕
本発明においては、例えば上記(4)式でみられるよう
に、Fe2+が存在しないBi置換磁性ガーネットを構
成するものであり、このようにすることによっFe2+
の存在゛のよる0、8μm波長帯における光吸収の増加
を回避する。
〔実施例〕
実施例1 の組成の融液に、 で定義(式中の分子式は融液中のモル数を示す)される
R6において、そのR6を夫々 0.2%。
1.1%、2.2%12.6%、3.0%、3.5%、
5.2%となるようにCaCO3を融液中に添加して、
夫々の融液によってGd2Ga5 012基板上に液相
エピタキシャル成長によって夫々Bi置換磁性ガーネッ
トを育成した各試料を得た。そして、夫々の電気的抵抗
率ρを測定した。第1図は、このR6に対するρの測定
結果を示したもので、R6−3%で最大となっている。
また、第2図は波長λ= 810nmの光における光吸
収係数α810の測定結果を示し、αetaはRs=3
%で最小となっている。
尚、R6の値を変化させたときのEPMA (エレクト
ロン・プローブ・マイクロ・アナリシス)分析による各
組成は、次のようであった。
R6=O%のとき、 Tll+2.47 Bio、vIF134.02 Ga
o、so Pto、ots 012Rs =  1.1
%のとき、 Tll+2.448io、v3Cao、oosFe4.
ot Gao、so Pto、ot2012Rs = 
2.2%のとき、 Tm2.4s Bio、v3Cao、otsFe3.s
s Gao、et Pto、ols 012Rs = 
3.0%のとき、 Tll+2.428io、7s Cao、oxsFe+
、ov Gao、vv Pto、et5(h2Rs =
 5.2%のとき、 Tll+2.40 Bio、vs Cao、o2tFe
t、ss cao、8L Pto、o2o 012第3
図及び第4図は、夫々EPMA分析したCa2+の量δ
1に対する電気抵抗ρ及び波長λ= 810nmに対す
る光吸収係数α810の夫々の測定結果を示すもので、
δ1= 0.019でρは最大となり、α810が最小
を示す。分析の結果から光吸収を最小にするca” i
tδ1と膜中にとり込まれているPt4+の量δ3は、
はぼつり合っているのでCa2+を入れないときにFe
2+が発生する主要原因は、pt量十であり酸素空席の
寄与は小さいと考えられる。
尚、第5図は、Ca!δ1とPt量δ3との差(δ1−
63)に対する光吸収係数α810の測定を示すもので
、これより明らかなように6l−63=0で最小の値を
示すが、δ1−63が−0,003より大+0.003
より小の範囲で小さい値を示す。
このようにCa2+の添加によって光吸収係数α810
を下げることができる。すなわち、本発明による場合、
Bi2O3の単独フラックスでり、PE育成を行うもの
であるので、冒頭に述べた従来におけるPbOフラック
スを使用する場合とは異り、2価のイオンPb2+が意
図せずに膜中にとり込まれることはあり得ないので、例
えば上述の実施例におけるように、Ca2+イオンを添
加しない場合には、必ずFe2+の発生によるn型伝導
を呈し、光吸収は高くなるがCa2+をFe2+の発生
原因となるpt量に応じて添加することによってFe2
+の発生を抑えることができるのである。
尚、上述した例では2価のイオンとしてCa2+のみを
添加した場合、つまり前記(11式においてMlを省略
しくδ2 = 0) 、M”のCa2+のみを添加した
場合であるが、確実に2価のイオンとなるM2+のCa
2 +。
Sr”、 Ba”+ MlのBe2+を1種以上添加す
ることによってFe2+の発生を抑え、光吸収係数α9
10を小さくできる。尚、この場合Be” 、 Mg2
+(すなわちM[)はFeを置換して膜中にとり込まれ
、Ca”+ 5r2+。
Ba2+はTmを置換してとり込まれるものと思われる
がいずれもFe2+の発生を抑える効果は同等である。
したがって、第5図から、δ3 0.003 <δ1+
δ2〈δ3 + 0.003に選定すれば光吸収係数α
910を小にすることができることがわかる。
また、Feに置換するMffのGaに代えて3価のイオ
ンHX 、 Mlのいずれか1以上の添加によって同様
の効果が得られる。
〔発明の効果〕
上述したように本発明によれば、ptの混入によるFe
2ゝの存在の問題を解消したことによって0.8μm波
長帯に対して光吸収の小さいBi置換磁性ガーネットを
得ることができるので、これを例えば光アイソレータの
ファラデー回転素子として用いることによって0.8μ
m波長帯の半導体レーザーを用いる場合において戻り光
はこれを阻止して半導体レーザーにおいて安定な動作を
なさしめ、順方向の光に関しては高い透過率、すなわち
低光損失とすることができるので、光ディスク、光磁気
ディスク等の各種情報の記録・再生光源系に用いること
ができ、実用上の利益は大である。
【図面の簡単な説明】
第1図、第2図、第3図及び第4図は本発明の説明に供
する抵抗率ρ及び光吸収係数α810の測定曲線図、第
5図はδ1−63と光吸収係数α1110の関係の測定
曲線図、第6図は本発明によるBi置換磁気ガーネット
を適用し得る光アイソレータの構成図である。 (1)はファラデー回転素子、(2)は偏光子、(3)
は検光子、(4)はマグネット、(5)は光源、(6]
は光の被照射面である。 Rti(%2 (TmBiCa)3(FeGa)sOtzの戸(f)R
eに対する依存純第1 図 Ra(′10) (TmBiCa)s(FeCra)sill)tzのα
stoのR6に’itす61’&存枚第2図 δl (TmBLCa)s(FeGa)sOtzの戸のCaz
+値δlに対す5依存椎第3図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】  Tm_3_−_x_−_δ_1_xM^I_δ_1F
    e_5_−_y_−_δ_2_−_δ_3M^II_δ_
    2M^III_yPt_δ_3O_1_2_−_δ_4但
    し 〔M^ I は、Ca^2^+、Sr^2^+、Ba^2
    ^+のうちのいずれか1種以上 M^ I は、Be^2^+、Mg^2^+のうちのいず
    れか1種以上 M^IIは、Ga^3^+またはAlのうちのいずれか1
    種以上〕 の組成を有し、0.5≦x≦2.0、0≦y≦2.0で
    あり、δ_3−0.003≦δ_1+δ_2≦δ_3+
    0.003とされたビスマス置換磁性ガーネット。
JP60108011A 1985-05-20 1985-05-20 ビスマス置換磁性ガーネットの製法 Expired - Fee Related JPH0666215B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60108011A JPH0666215B2 (ja) 1985-05-20 1985-05-20 ビスマス置換磁性ガーネットの製法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60108011A JPH0666215B2 (ja) 1985-05-20 1985-05-20 ビスマス置換磁性ガーネットの製法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS61265809A true JPS61265809A (ja) 1986-11-25
JPH0666215B2 JPH0666215B2 (ja) 1994-08-24

Family

ID=14473724

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP60108011A Expired - Fee Related JPH0666215B2 (ja) 1985-05-20 1985-05-20 ビスマス置換磁性ガーネットの製法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0666215B2 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1074872A3 (en) * 1999-08-02 2001-07-04 TDK Corporation Magnetic garnet single crystal and faraday rotator using the same
JP2009084131A (ja) * 2007-10-02 2009-04-23 Shin Etsu Chem Co Ltd 磁気光学素子とその製造方法およびそれを用いて作製した光学デバイス

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5026096A (ja) * 1973-07-06 1975-03-18
JPS5680106A (en) * 1979-12-06 1981-07-01 Nec Corp (110) garnet liquid phase epitaxial film
JPS57167608A (en) * 1981-04-08 1982-10-15 Nec Corp Contiguous bubble element material
JPS60261051A (ja) * 1984-06-06 1985-12-24 Ricoh Co Ltd 光磁気記録媒体

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5026096A (ja) * 1973-07-06 1975-03-18
JPS5680106A (en) * 1979-12-06 1981-07-01 Nec Corp (110) garnet liquid phase epitaxial film
JPS57167608A (en) * 1981-04-08 1982-10-15 Nec Corp Contiguous bubble element material
JPS60261051A (ja) * 1984-06-06 1985-12-24 Ricoh Co Ltd 光磁気記録媒体

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1074872A3 (en) * 1999-08-02 2001-07-04 TDK Corporation Magnetic garnet single crystal and faraday rotator using the same
US6641751B1 (en) 1999-08-02 2003-11-04 Tkd Corporation Magnetic garnet single crystal and faraday rotator using the same
KR100408792B1 (ko) * 1999-08-02 2003-12-06 티디케이가부시기가이샤 자성 가넷 단결정 및 이를 이용한 패러데이 회전자
JP2009084131A (ja) * 2007-10-02 2009-04-23 Shin Etsu Chem Co Ltd 磁気光学素子とその製造方法およびそれを用いて作製した光学デバイス

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0666215B2 (ja) 1994-08-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4698820A (en) Magnetic device and method of manufacture
JP3520889B2 (ja) 角型ヒステリシスを示すファラデー回転子
JP3198053B2 (ja) 低磁気モーメントを有する磁気光学材からなる製品
Huang et al. Liquid phase epitaxy growth of bismuth-substituted yttrium iron garnet thin films for magneto-optical applications
US5608570A (en) Article comprising a magneto-optic material having low magnetic moment
JPS61265809A (ja) ビスマス置換磁性ガーネットの製法
US4698281A (en) Garnet-type magnetic material high faraday rotation magnetic film containing such a material and process for the production thereof
US6542299B2 (en) Material for bismuth substituted garnet thick film and a manufacturing method thereof
Tsushima et al. Research activities on magneto-optical devices in Japan
JPS61265810A (ja) ビスマス置換磁性ガーネットの製法
Robertson et al. Epitaxially grown Bi-substituted iron garnet films for magneto-optic devices
JPS62186505A (ja) ビスマス含有磁性ガ−ネツトの製法
JPS6129128B2 (ja)
JPS62186220A (ja) 光アイソレ−タ
JPS62195619A (ja) 光アイソレ−タ
JPS61150303A (ja) ビスマス置換磁性ガーネットの製法
JPS6279608A (ja) ビスマス置換磁性ガ−ネツトの製法
US20090053558A1 (en) Article comprising a thick garnet film with negative growth-induced anisotropy
JP2514398B2 (ja) 磁気光学素子用単結晶の育成方法
US3637289A (en) Devices based on induced dichroism
JPS6370506A (ja) 光アイソレ−タ用磁性ガ−ネツト
JPS6120926A (ja) 磁気光学素子材料
Wahid et al. Preparation of Bi2Gd1Fe5O12 magnetic garnet films showing Faraday rotation of 36.3 deg./µm on glass substrates by metal organic decomposition method
JPS6295812A (ja) ビスマス含有磁性ガ−ネツト膜の製法
JPS6369718A (ja) 磁気光学結晶

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees